英國職員：讓中國自主研發光刻機不可取，中國技術已滲入了光刻機

2020-11-04 琦縱四海


我們都知道，在當今的中國，半導體的行業處於一個初步蓬勃發展的階段，相對於外國的半導體成熟發展，中國的半導體行業發展空間還是非常巨大的，又因為發展速度太快，引來了很多國家的注目，這其中就包括了美國。


美國對中國半導體行業的重視，已經是有所體現了，在關鍵技術上面利用了一些合理的規則有所限制了頂尖技術進入中國，這其中不僅僅是頂尖晶片這一方面，更重要的是光刻機，曾就有英國職員表示：讓中國自主研發光刻機不可取，中國技術已滲入了光刻機。


光刻機為何物，光刻機可以理解成造出頂尖晶片的工具，頂尖光刻機的零件多達數十萬個，而且被譽為全球頂尖科技的結晶，只有荷蘭的ASML公司能夠造，其中生產的光刻機大部分進入了臺積電與三星電子的手中，進行晶片的代加工工作。


但是頂尖光刻機根本就進入不了中國大陸，而中國自然也在大力攻克光刻機的這一頂尖科技，在中國取得初步進展的時候，很多國家紛紛表現出驚訝，然而也意識到了危機，讓中國真的造出了光刻機，那如今穩定的壟斷市場會被打破，而且造成威脅。


更何況，中國的有好幾項技術已經滲透了頂尖光刻機裡面，例如晶片製造時的清洗技術、光學元件以及微控流等，都是屬於中國的技術，中國已經掌握了部分核心技術，研製出光刻機只是時間問題了。


正如英國職員所說的，如果將光刻機進口給中國，那才能穩定市場，所以讓中國自主研製光刻機，是非常具有威脅性的，也希望中國能夠儘早研製出光刻機，打破壟斷，對此各位讀者有什麼看法？歡迎留言。

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  • 中國光刻機研發有多難？
    光刻機是在整個晶片產業鏈當中最核心的一個設備，也是技術最複雜最尖端的一個設備，因為光刻機技術非常複雜，所以目前我國並不具備製造高端光刻機的能力。雖然目前我國有不少光刻機製造企業，但這些企業所能製造出的光刻機工藝製程都相對比較低，其中能夠生產出最高製程的上海微電子，其生長並能量產的光刻機也只不過是90納米，另外的45納米還處於試驗階段。
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    中國光刻機與荷蘭差距 　　中國光刻機和荷蘭光刻機的差距是全方面的，這裡面不僅是系統集成商的差距，也包括各種核心配件上的差距，比如光源、鏡頭、軸承等等一些精密部件。 　　系統集成商上的差距 　　目前我國能量產的最先進光刻機是90nm工藝，由上海微電子（簡稱SMEE）生產。這點和荷蘭ASML生產的7nm光刻機可不是一代二代的差距，完全是天壤之別，在整個產業鏈中我們就是屬於低端產品，連中端都算不上。
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    它不僅將自己開發和生產晶片，而且還將在新材料和終端製造方面實現技術突破。除華為外，其他國內廠商也加快了晶片製造技術的發展，如中芯國際，比亞迪等廠商，更多的廠商已進入晶片研發與製造領域。要知道，先進工藝晶片的生產需要先進的光刻機，而先進的光刻機掌握在ASML手中。這意味著ASML具有巨大的國內市場，畢竟，EUV光刻機是生產7nm以下晶片的必要設備。而且，中國是最大的晶片需求國，現在它需要生產大量先進的工藝晶片，這自然需要使用大量的EUV光刻機。
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    荷蘭ASML公司為保證其高端光刻機的先進性，在整個光刻機的不同部位同時使用了世界上最尖端的技術，ASML光刻機中超過90%的零件都是向外採購的，因此，ASML在技術研發方面匯聚了世界最前沿最頂尖的科技。ASML的一些重要部件來自世界很多國家，比如德國向ASML提供一些核心的機械配件和蔡司鏡片支持，美國為ASML提供光源及計量設備的支持。