工欲善其事,必先利其器!在晶片領域也是如此,想要製造出晶片,必然要使用到晶片製造工具—光刻機!在光刻機領域,荷蘭ASML則是光刻機領域金字塔最頂端的企業,ASML光刻機全球市場佔比高達80%左右,而在高端EUV(極紫外光)領域,ASML則達到了相對壟斷的地位。為此,光刻機的售價一直居高不下,據ASML近期公布的財報顯示,第三季度共交付10臺EUV光刻機,淨銷售額40億歐元。
不難發現,每臺EUV光刻機的造價高達78億人民幣左右,而想要造出來高端光刻機,投資力度可想而知,「造不如買,買不如租」便成了那個年代國產企業的宗旨,為此,國產光刻機的研發也被這樣擱置了,隨著全球IT產業的不斷發展,中國IT產業多方面的實力對美國科技霸主形成了反超,於是美國開始利用「晶片專利」大棒打破國產晶片企業供應鏈,日前餘承東表示,華為海思麒麟9000或將成為麒麟的絕版,隨後中芯也遭「斷糧」!
短期來看,雖然晶片自給壓力有所增加,但長期來看,美國對國產晶片的圍堵,卻進一步加強了國產晶片產業鏈的國產化決心!前期,國內下達「鐵令」,要求國產晶片自給率在2025年提升到70%,國產晶片企業也迎來了免稅優惠條件。《資本論》中曾提及「當利潤達到50%,就會有人鋌而走險」,2025年國產晶片70%的自給率,不僅吸引了大量國產晶片企業上市,更吸引了大量海外技術。
眾所周知,日本的經濟非常依賴中國,20%左右的貨物都出口給了中國。日本非常關注中國市場經濟發展的動向。近日,日本經濟網站傳來消息,報導稱「業內人士透漏,為推進極紫外EUV光刻機設備的研發,中國企業已經打算提供資金,聯科國際光刻機巨頭尼康、佳能共同推進光刻機的研發!」在EUV光刻機領域,雖然ASML處於相對壟斷的地位,但日本的尼康和佳能也有EUV光刻機製造的能力。
熟悉光刻機歷史的朋友也許知道,在1984年到2000年左右,全球光刻機市場幾乎被被尼康所壟斷,ASML光刻機在全球的市場份額連10%都不到,但作為日本的大企業,卻犯了一個「毛病」,當時時任臺積電研發副總的林本堅推出了浸潤式光刻機,不僅產能有所提升,成本也更低,但尼康由於在乾式光刻機進行了大量投資,並不願意轉型,更採取各種方式打壓新型光刻技術,最終導致ASML成為光刻機領域的領頭企業,而尼康最終陷入門可羅雀局面!
而如今,日本媒體表示,尼康和佳能也決定對當前的半導體製造工藝進行升級換代,加強每塊晶片增加元器件數的「立體化」技術研究,從而規避ASML的EUV光刻機,發展極紫外光線以外的光刻設備。此外,兩者也表示,希望能與中企合作,突破「立體化」晶片製造技術,重新奪回被ASML蠶食的光刻機市場,而核心產業鏈受限的華為,也將迎來轉機!
關於中企與日本光刻機巨頭尼康和佳能合作,大家怎麼看?