導語：據中科院7月7日官網報導，中科院提出了一種新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。新聞一出，輿論分為兩個陣營，一邊是覺得中國科技真牛，擺脫國外技術壟斷指日可待；另一邊則認為又是在吹牛，真正實現IC製造怎麼可能在短時間完成。那麼，中科院的5nm雷射光刻到底是怎麼回事？
目前，在中科院官網上和蘇州納米官網上都找到「中科院超高精度雷射光刻技術」的報導（7月9日還能找到）。報導稱，中科院此研究是使用具備完全自主產權的雷射直寫設備，開發的新型微納米加工技術在集成電路、光子晶片等領域具有廣泛的應用前景。
中科院吹牛了嗎？
我認為，中科院肯定沒有吹牛，中科院的報導也不存在任何問題。
光刻機分為接觸式光刻、直寫式光刻以及投影式光。接觸式是通過無限接觸來複製掩膜版上的圖案。直寫式光刻則是將光束聚焦為一點，然後移動工作檯或者鏡頭來刻畫任意圖案。投影式則類似於拍照，光源通過掩膜版照射到附有光刻膠的表面，然後再通過顯影技術將掩膜的圖案複製到光刻膠薄膜上，最後通過刻蝕技術將圖案移植到基片。
由於投影式具有效率高、無損傷的特點，是目前集成電路的主流光刻技術。中科院目前提出的5nm超高精度雷射光刻並不是主流晶片製造的工藝，但是，單從直寫式光刻的角度來說，中科院已經實現了很大的技術突破。要知道就在2018年11月，中科院剛剛才交付可加工22nm的「超解析度光刻裝備項目」。短短兩年，實現如此大的突破，實屬不易！向中國奮鬥在一線的科研人員致敬！
雖然目前直寫式光刻並不能大規模投入到複雜的IC製造，但是用在軍用領域、高精密光柵、光子晶體陣列都是非常適用。這些領域雖然市場較小，但是需求仍然是非常強烈和高端。
儘管走老路，我們很難實現追趕和超越。或許，光子晶片將是下一個全新賽道。到時候，中科院的5nm雷射直寫技術將發揮巨大的作用。
國產晶片的軟肋到底在哪？
如今，我國半導體領域已經能夠在很多環節基本實現國產化，但是制約我們晶片製程進步的一個重要環節就是EUV光刻機。但是，光刻機並不是最終國產晶片最核心的軟肋。
中科院美籍華人院士馬佐平表示，國內最大的晶片代加工廠中芯國際最大的短板並不是光刻機，主要的差距還是在人才數量和質量。人才才是制約國產晶片發展最核心的問題。臺積電麾下可是數以萬計的專業技術人才，而中芯國際也才只有300-400左右個專業骨幹，而且人才團隊整體並不出色。
未來，必將是人才之爭！
華為在2019年推出「天才計劃」，預計用高薪在全球範圍內招募200-300天才少年。阿里打造的達摩院更是聯合13個國家的234支科研團隊，甚至招攬了美國三名院士、人工智慧世界泰鬥Michael I. Jordan等頂尖人才。
人才不到位，晶片必然長期受制於國外技術。
結束語
晶片製造只是如今的一個熱門話題，但是中國需要的人才涉及的面很廣。行政管理人才、專業技術人才都將是我國走向未來的重要基石。近日資本大量湧入到半導體晶片製造行業，這是一個好消息。但是，資本是無法短時間緩解我們在硬科技方面的差距，唯有培育重視人才、尊重人才的環境，才能保證源源不斷的內在驅動力。
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