上海微電子已經成功生產光刻機了嗎的？這個領域在國內是什麼水平？首先上海微電子可以生產光刻機確實已經不是什麼驚天秘密了，因為他早在2002年就有成立了，很多人也許沒有聽說過，原因實際就在於工藝方面相對落後，所以不被人們所熟知，因為確實相對於現在手機處理器方面的工藝來說，他目前最高可以生產90nm的技術，確實有些不夠看，但是在國內確實是頂尖的存在。
國內做光刻機的廠商之前確實有很多，但是大多數還是在130nm甚至280nm左右，而要說發展比較不錯，工藝響度較高的就是上海微電子了。而從全球市場來看，中國光刻機工藝不算是落後，也不算是太強。
一方面是因為，確實做光刻機的國家確實不多。之前的市場，荷蘭的ASML，以及日本的佳能，尼康等等。ASML的成功源自於他吸收了各個行業的精英，要想使用就要入股，同時他使用的技術，比如計量設備和光源來自美國、鏡頭和精密儀器來自德國、軸承來自瑞典等等，他們都是行業的翹楚，之所以如此，他才發展到現在的強大。
而日本尼康和佳能，確實也算是佼佼者，因為日本本身做精密電子技術確實很強，再加上光刻機所需要的鏡片，以及光源等等，確實對於做相機出身的佳能和尼康來說，並不算是難事，但是現在佳能和尼康已經退出了光刻機市場，原因就在於沒有了市場，高不成低不就，雖然不錯，但是相比ASML確實有很大差距，所以銷量很低，本身光刻機確實每年生產數量有限，再加上設備價格相對比較高，如果沒有訂單，或者是訂單較少，確實就意味著只能淘汰出局。所以說起來現在，做光刻機的國家確實屈指可數。
二方面，也是因為我們剛才說的，現在光刻機市場確實基本上被ASML壟斷了，所以競爭者很少。另外一個方面根據最新的報導稱，上海微電子28nm工藝即將到來，雖然沒有權威的出處，但是對於我們來說也算是增加了信心，畢竟這是一個大的跨越，因為光刻機的研發實際是分為階段性的，理論上90nm接下來應該是60nm、45nm、40nm，接下來才是28nm，而這次上海微電子直接從90nm到28nm，確實可見其實力。如果28nm研發成功量產的話，確實我們光刻機技術在世界上就算是站穩了腳跟。
光刻機工藝方面確實難度比較大，比如零件甚至達到了10萬個左右，同時需要系統協同工作，但是最重要的幾個方面，我們已經慢慢在解決！
我們現在頂級的差距還是比較大的。現在ASML最高可以生產5nm工藝，而且產品方面，比如蘋果12上面的A14處理器，以及華為麒麟處理器9000系列都是5nm工藝，而我上海微電子即便是28nm開始量產，之後還是有很長的路要走，比如16nm/14nm，10nm，以及7nm，以及包括EUV極紫外刻技術目前來說確實也很難去解決。
總結和觀點：
首先我國可以聲場光刻機已經是很早之前的事情了，只是因為工藝方面的差距，所以並不能用在，我們日常使用的電子產品中。另外一個方面在於本身光刻機技術方面確實要求極高，所以和ASML相差有點大。
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