今日，這家公司因為買了一臺二手光刻機大漲20%。同時，以半導體為代表的的科技股全線反彈。
7523萬購入二手光刻機，晶瑞股份今日大漲20%
9月29日，晶瑞股份早間公告，公司為開展集成電路製造用高端光刻膠研發項目，擬通過Singtest Technology PTE. LTD.進口韓國SK Hynix的ASML光刻機設備，總價款為1102.5萬美元，按照當前匯率，約合人民幣7523萬元。
受該消息影響，晶瑞股份早盤高開後拉升漲停，股價上漲19.99%，截至收盤報收42.86元/股，總市值為80.6億元。
晶瑞轉債早間也一度上漲超20%，並觸及相關臨停閾值停牌，復牌後小幅回落，截至收盤，晶瑞轉債上漲15.19%，報收263.2元，轉股溢價率為13.79%。
A股光刻膠概念公司紛紛大漲
據悉，晶瑞股份是一家生產銷售微電子業用超純化學材料和其他精細化工產品的上市企業，主要產品包括超淨高純試劑、光刻膠、鋰電池材料等，廣泛應用於超大規模集成電路、LED、TFT-LCD面板製造過程、太陽能矽片的蝕刻與清洗。根據2020年中報，今年上半年實現營收4.29億元，同比增長14.37%，其中，光刻膠營業收入4307.3萬元，同比增長21.48%。
有媒體報導稱，晶瑞股份方面相關人士表示，現在光刻機設備並不好買，公司並不是直接購買ASML的光刻機設備，而是通過代理商購買存儲器晶片廠商SK海力士的一臺ASML二手光刻機設備。其購買的光刻機類型是ASML的1900型號的光刻機。根據公開報導，ASML的1900型號浸沒式光刻機在2007年7月量產發貨，可以助力客戶將晶片量產製造能力擴展到36.5nm節點。
公司方面稱，本次交易對公司的影響主要為：
1、本次合同的順利履行可以保障集成電路製造用高端光刻膠研發項目關鍵設備的技術先進性和設備如期到位並投產，對加快項目進度有積極影響。本次交易有利於進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，有助於落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
2、本次合同對公司業務獨立性無重大影響。
另外，晶瑞股份發布公告稱，擬發行不超5.5億元可轉債，用於集成電路製造用高端光刻膠研發項目、陽恆化工年產9萬噸超大規模集成電路用半導體級高純硫酸技改項目、補充流動資金或償還銀行貸款。
今日，晶瑞股份的大漲也帶動了A股其他光刻膠概念股，飛凱材料、揚帆新材、廣信材料、賽微電子等均漲超5%。
光刻機國產替代加速進行中
方正證券研報表示，光刻機作為前道工藝七大設備之首（光刻機、刻蝕機、鍍膜設備、量測設備、清洗機、離子注入機、其他設備），價值含量極大，在製造設備投資額中單項佔比高達23%，技術要求極高，涉及精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術。光刻機是人類文明的智慧結晶，被譽為半導體工業皇冠上的明珠。目前全球前道光刻機被ASML、尼康、佳能完全壟斷,CR3（行業前三家企業的市場份額）高達99%。數據顯示，2019年全球前道製造光刻機出貨約360臺，其中ASML出貨229臺，佔比64%。ASML一家獨佔鰲頭，目前光刻機行業已經成為一個高度壟斷的行業。如果沒有特別原因，這一格局在未來的時間裡都很難發生變化。
國產方面，上海微電子裝備(SMEE) 作為光刻機行業後起之秀，技術已從量產90nm突破到28nm工藝，但與ASML 5nm的技術水平仍有差距，暫時只能提供低端光刻設備。
2018年，中芯國際向晶片機器製造商ASML發出了第一張訂單，訂購了一臺最新的EUV（極紫外線）技術光刻機，機器價格為1.2億歐元，於2019年交貨。但目前由於種種阻礙，ASML遲遲未向中芯國際交貨。
目前，北京科華是國內唯一擁有荷蘭ASML光刻機的已生產光刻膠並供貨的光刻膠公司。
今年4月，上海新陽披露，用於ArF（乾式）幹法光刻膠研發的即用於檢測曝光數據的光刻機（型號：ASML-1400，二手機臺）已完成境外採購，目前在運輸過程中，尚未到貨，存在項目研發計劃滯後的風險。
另外，南大光電在今年半年報披露，公司正在自主研發和產業化的193nm光刻膠項目，已獲得國家02專項「193nm光刻膠及配套材料關鍵技術開發項目」和「ArF光刻膠開發和產業化項目」的正式立項。項目基礎建設按計劃進行；安裝完成一條193nm光刻膠生產線，用於產品檢測的光刻機也已完成安裝，目前產線和光刻機均處於調試階段；公司同時自主研發製備光刻膠用的高純原材料，已研製出的光刻膠產品正在進行客戶評估工作。
9月16日，國新辦就中國科學院「率先行動」計劃第一階段實施進展情況舉行發布會。會上，中國科學院院長白春禮表示，未來十年，會針對一些「卡脖子」的關鍵問題做部署，「率先行動」計劃第二階段要把 「卡脖子」的清單變成科研任務清單進行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機等，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。
方正證券研報指出，實現光刻機的國產替代並不是某一企業能夠單獨完成的，需要光刻產業鏈的頂尖企業相互配合。光刻產業鏈可拆分為兩個部分，一是光刻機核心組件，包括光源、鏡頭、雙工作檯、浸沒系統等關鍵子系統，二是光刻配套設施，包括光刻膠、光掩模版、塗膠顯影設備等。