光刻機真的是公開圖紙我們也造不出來嗎？

我們大家都知道光刻機是製造晶片的高端設備了，我們先了解一下光刻機的技術難點在哪裡。

有兩點目前是我們一時半會還無法攻克的，一個是光刻機的中心鏡頭，一個是光刻機的光源。這裡指的是工藝要求級高是鏡頭和光源，可不是普通的哦。可以說這個是重中之重，沒有這兩個關鍵技術很難突破光刻機的高精製程。

我們目前能不能造出光刻機呢？答案是肯定的，可以造。但是，像7nm-5nm這種高端光刻機我們還是沒辦法造出來的。我們國家走在前沿的生產光刻機的公司就兩家，一個是上海微電子，一個就是中芯國際。國際上最牛的就是何蘭的ASML公司（阿斯麥），他們現在可以造出的是5nm的光刻機了，3nm已經在試驗階段。

他們說提供圖紙我們也造不出7nm-5nm的光刻機？這個有點聳人聽聞了，我們拿到圖紙一時半會造不出這個是肯定的，但是造出來只是時間問題，這個只會加快我們造出高端光刻機，從而也是加快他們的滅亡。

光刻機的原理大家早就明白了，只是裡面有些關鍵技術點還要去不斷去研究摸索，提供圖紙也就是加快了我們的步伐，減少走彎路。我們也不要太過悲觀，我們的體制優勢就是集中力量辦大事，回往過去有多少技術不給我們，我們都造出來了，給我們的我們現在反而造不出。

集力量，資金，人才於一身，總會造出來的，大家要有信心和耐心。

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