新品解析：超高精密3D列印系統S240

2020-11-06 摩方精密

近期，BMF摩方公司面向全球市場發布第二代超高精密微立體光刻3D列印系統microArch™ S240，該款新機在深圳研發生產，現已開啟全球預售。

一直以來，摩方超高精密3D列印系統，以其超高解析度和微尺度加工能力聞名於業界。那麼，microArch S240作為第二代機型，擁有哪些特點呢？

首先，S240保持了第一代S140印表機在高精密方面的特點——10μm列印精度，±25μm加工公差。同時，為了更進一步滿足客戶在精密結構件加工尺寸、加工效率及加工材料等方面的需求，S240具備更大的列印體積（100mm×100mm×75mm），列印速度提升最高10倍以上，能夠生產更大尺寸的零部件，或實現更大規模的小部件產量。在列印材料方面，S240支持高粘度陶瓷(≤20000cps)和耐候性工程光敏樹脂、磁性光敏樹脂等功能性複合材料，極大滿足了工業領域製造對產品耐用的需求，也為科研領域開發新型功能性複合材料提供支持。


microArch™ S240

使microArch S240超高精密3D印表機成為理想的科研和工業生產設備，其附加特性包括：

①先進的薄膜滾刀塗層技術允許更高的列印速度，使列印速度最高提升10倍以上；

②能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件；

③能夠列印工業級複合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料。

microArch S240技術原理

microArch S240基於BMF摩方的專利技術——面投影微立體光刻技術（PμSL）構建，並融入了摩方自主開發的多項專利技術。

摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快速塗層技術大大降低每層列印的時間，並通過列印平臺三維移動逐層累積成型製作出複雜三維器件。

因其複雜精密零部件快速成型的特點，摩方PuSL技術成為眾多領域原型器件開發驗證和終端零部件小批量製備的最佳選擇。這些領域包括：電子通訊、微電子機械系統、醫療器械、生物科技和製藥、仿生材料、微流控、微觀力學等眾多領域。

「microArch S240 是摩方的一款面向工業批量生產的超高精密3D印表機。」摩方首席技術官夏春光博士說道，「它不但解決了市場上高精密3D列印技術慢的缺陷，同時還極大放寬了精密3D列印對材料的要求，比如拓寬了樹脂的粘度範圍，樹脂中添加納米顆粒等。因此它極大的推動了高精密3D列印從科研向工業的擴展。」

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