文 ｜ 小塔
隨著科技的發展，國內也誕生了許多的科技巨頭企業，它們在科技領域作出了非常大的突破，就比如中國發明的高鐵技術在全球都是最頂尖，華為的5G技術和設備目前也是處於世界領先地位，雖然我們在這些領域上都取得了不小的成就，但是在半導體晶片技術上我們還會難以取得突破。
提到晶片，那我們就不得不說到製造晶片的設備了，那就是光刻機。目前光刻機主要分為DUV光刻機和EUV光刻機，現在能夠造7nm工藝以下晶片的就只有EUV光刻機了。由於國內起步太晚，目前中國能夠獨立製造的光刻機是28nm光刻機，相比荷蘭ASML的5nm光刻機，還是差距甚遠。
所以國內的手機晶片都是通過從海外進口，或者是找代工廠進行代工，現在比較大的晶片代工廠如臺積電、三星都是採用的荷蘭ASML的EUV光刻機。
眾所周知，在今年5月16日，川普政府升級了對華為的禁令，不僅要求本土的企業禁止對華為輸送晶片，就連凡是在半導體製造上使用了美國技術或者設備的企業，在和華為合作之前都必須向美國商務部申請得到許可才行。此次美國的目的也是想切斷華為的晶片供應商臺積電，來徹底打壓華為。
華為此次也是面臨著前所未有的巨大危機，因為國內沒有一家企業能夠為華為提供其高精度的手機晶片，就連國內最大的晶片代工廠中芯國際最高也只能量產14nm工藝的晶片，7nm工藝目前還在試驗階段。而臺積電方面已經能夠實現5nm工藝量產了，所以中芯國際跟臺積電相比還是存在著一定的差距的，如果想要追趕上臺積電那麼就必須從荷蘭AMLSL進口最先進的EUV光刻機了。
當華為遭遇晶片斷供之後，常常能夠在網絡上看見那樣的言論，「中國連原子彈都能造，造一個光刻機又有何難？」其實筆者也能理解國人希望國內光刻機有所突破的那種心情。但是，事實上對於中國來說，想製造一臺跟荷蘭ASML水平一樣的光刻機真的不容易。
製造光刻機有多難？說實話比製造原子彈還難。此前，有一位曾參與光刻機研製的美國工程師就曾崩潰地說道：研製一臺頂尖的光刻機太難了，有時候一個零件，就需要調整十年！看似這位工程師的話有些誇張，但是仔細分析一下，就會發現一點都不誇張！
製造原子彈，需要攻克的難關就是在於高濃度核原料，只要這個問題能夠解決，提取到核原料，那麼原子彈就並不難造出來。可以想造出光刻機，光原材料是遠遠不夠的，在現階段最厲害的光刻機製造商就是荷蘭的ASML公司。值得注意的就是，ASML公司能夠造出頂級光刻機，並不是ASML有多厲害，也是不荷蘭的科技有多強，而是因為ASML公司有多個國家的扶持！
據悉，ASML生產的EUV光刻機，內部零件有高達10萬多個，並且還是來自不同的國家，例如其光刻機的鏡頭由德國蔡司生產，是世界上最先進的；軸承由瑞典設計和製造；雷射設備由日本設計和製造。並且這些零件雨來之後還要進行不斷的測試，調整才能融合使用，所以這位工程師的所說的10年時間也就變得正常了。
我們國內，在半導體上由於起步比較晚再加上國外對人才技術的封鎖，造成了很多頂尖光刻機的核心材料我們都沒辦法製造出來。毫不誇張地說，我們國內想要短時間生產出光刻機，那就必須得到美、日、德等發達國家的幫助才行。不過，想法歸想法，想要實現起來可能性是很小的，原因就是這些國家巴不得中國科技落後於他們，怎麼還會來幫助我們呢？
國內想要縮小與荷蘭ASML的差距，那就必須不斷加大對人才和資金的投入，同時，中國還要進一步加強對光刻機以及整個產業鏈的支持，只有大家齊心協力，才有可能儘快在中國研究出具有自主產權的高端光刻機，進而打破技術壁壘。