慧聰表面處理網訊:無氰鍍銅工藝與電鍍配方流程如下:
1.預鍍鎳工藝與配方
鍍液組成及沉積條件為:280g/LNiSO4·6H2O,45g/LNiCl2·6H2O,35g/LH3BO3,但只局限鐵件應用不廣
2酸性預鍍銅工藝與配方
酸性預鍍銅工藝。鍍液組成及沉積條件為:80~110g/LCuSO4·5H2O
然而,酸介質中鐵與銅離子之間發生置換反應之隱患仍然存在。對於形狀複雜和有深孔的鋼鐵件、銅合金件、鋅合金及鋁合金等,本工藝的應用具有局限性。
3.焦磷酸鹽鍍銅與配方
焦磷酸鹽鍍銅是常用的鍍銅工藝之一,有較廣泛的應用,常用於氰化鍍銅或無氰鍍銅後的加厚工藝。焦磷酸鹽鍍銅工藝:80g/L焦磷酸銅,400g/L焦磷酸鉀,30g/L硝酸銨,8g/L氨三乙酸,20g/L酒石酸鉀鈉。焦磷酸鹽鍍銅尚無法克服與鐵和鋅基合金的置換反應、焦磷酸鹽會逐漸轉變為磷酸鹽導致溶液粘度提高、廢水中含磷,工藝的使用受到限制.
以上工藝都是範圍窄,不穩定,不適合鋅合金等,從我們平臺與全國電鍍同行交流總結,推薦德國化學(sake)公司LJ-cu99無氰鍍銅新工藝,其大範圍的成功應用打開了國內無氰物鍍銅實現清潔生產的大門,在上海,深圳,天津等環保排放極其嚴格的區域經過市場的考驗其特點:
1.不含氰化物?不含焦磷酸鹽,適用於鋼鐵、銅及銅合金、不鏽鋼底材、鋁及鋁合金沉鎳層及沉鋅層的電鍍,可作掛鍍或滾鍍;對於高質量的鋅和鋅合金壓鑄件有卓越的性能,可作掛鍍。
2.鍍液穩定性高,定期處理鍍液間隔周期長,操作和維護方便,運行成本低。
3.不需做碳酸鹽處理,不需要特殊的汙水處理工藝。
4.能持續的長期生產且不需要更換鍍液,有極好的陽極活化性能,且均鍍能力和覆蓋能力比氰化銅更佳。
5.鍍層精細緻密?半光亮平滑,有防電磁波幹擾屏蔽能力。
6.可常溫鍍覆,電流密度(0.5-3)A/dm2。
責任編輯:周良坤
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