光學薄膜在我們的生活中無處不在，從精密及光學設備、顯示器設備到日常生活中的光學薄膜應用；比方說，平時戴的眼鏡、數位相機、各式家電用品，或者是鈔票上的防偽技術，皆能被稱之為光學薄膜技術應用之延伸。倘若沒有光學薄膜技術作為發展基礎,近代光電、通訊或是鐳射技術將無法有所進展，這也顯示出光學薄膜技術研究發展的重要性。今天為大家帶來的是光學鍍膜的應用原理。
光學薄膜的定義
光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段範圍內的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態的光。光學薄膜係指在光學元件或獨立基板上，制鍍上或塗布一層或多層介電質膜或金屬膜或這兩類膜的組合，以改變光波之傳遞特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經由適當設計可以調變不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
一般來說，光學薄膜的生產方式主要分為幹法和溼法的生產工藝。所謂的乾式就是沒有液體出現在整個加工過程中，例如真空蒸鍍是在一真空環境中，以電能加熱固體原物料，經升華成氣體後附著在一個固體基材的表面上，完成塗布加工。日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質感的包裝膜，就是以乾式塗布方式製造的產品。但是在實際量產的考慮下，乾式塗布運用的範圍小於溼式塗布。溼式塗布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態塗料，以不同的加工方式塗布在基材上，然後使液態塗料乾燥固化做成產品。
差之毫厘，失之千裡。光學薄膜製備作為精密製造領域之一，其精密程度常常達到納米甚至微納級別，因此，其製備複雜程度是不言而喻的，有時候微小的失誤會導致滿盤皆輸，為薄膜製備帶來巨大困難。光學薄膜的製備是一個複雜的過程，它是通過將大塊固體材料蒸發或濺射，經過氣相傳輸，最後在基板上凝結得到的，在其製備過程中，包括環境真空條件（真空度）、蒸發速率、基板溫度等多面的工藝因素的影響，對薄膜的微觀結構和化學成分與理想狀況出現較大偏差，最終導致薄膜的機械性能、抗雷射損傷閾值、光學性能的變化。
在眾多的工藝影響因素中，影響最大且易觀察的往往是薄膜的厚度均勻性，其會嚴重影響薄膜的物理性能，根據製備經驗，薄膜的厚度不均勻會導致薄膜光譜性能產生較大偏移，比如，在增透膜的製備過程中會導致薄膜的透射率偏低，其次他還會影響薄膜的雷射損傷閾值、薄膜應力等等，正如文頭說到的：差之毫厘，失之千裡。因此在薄膜製備設備中，往往都配有精確度極高的膜厚監控系統。
來源：全球玻璃網
排版：光學薄膜前沿
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