長期被國外壟斷的ArF光刻膠，終於邁出了國產化的第一步。南大光電12月17日晚公告，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司（下稱「寧波南大光電」）自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。
認證評估報告顯示，本次認證選擇客戶50nm快閃記憶體產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的ArF光刻膠產品各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。
南大光電錶示，「ArF光刻膠產品開發和產業化」是寧波南大光電承接國家「02專項」的一個重點攻關項目。本次產品認證的通過，標誌著「ArF光刻膠產品開發和產業化」項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一隻國產ArF光刻膠，為全面完成項目目標奠定了堅實的基礎。
根據公司此前披露的項目可行性研究報告，南大光電此次實現突破的為193nm 的ArF光刻膠。這種光刻膠可以用於生產28nm到7nm的製程工藝，目前廣泛應用於高端晶片製造，如邏輯晶片、AI晶片、5G晶片、大容量存儲器和雲計算晶片等，被稱為半導體工業的「血液」。
按照此前計劃，公司將達到年產25噸193nm（ArF乾式和浸沒式）光刻膠產品的生產規模，以滿足集成電路行業的需求。
資料顯示，南大光電主要從事高純電子材料研發、生產和銷售，通過承擔國家重大技術攻關項目並實現產業化。目前，公司形成MO源、電子特氣、光刻膠及配套材料以及ALD/CVD前驅體材料等業務板塊。
公司稱，目前與客戶的產品銷售與服務協議尚在協商之中。同時，ArF光刻膠的複雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，其在應用工藝的改進、完善等方面的表現，都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。