-
中科院研發者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
圖截自官網ACS官網消息一經發出，外界一片沸騰，一些媒體稱此技術可以「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」，「中國不需要EUV光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前告訴《財經》記者，這是一個誤讀，這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。
-
中科院研發5納米光刻技術,能突破光刻機壟斷嗎?ASML:痴心妄想
現如今，隨著我國改革開放的進行，國家的經濟得到提升，我國在許多領域上都有著顯著的進步與突破。例如我國的科技領域、勘探領域、製造業領域、貿易領域、基建領域等，都讓許多國家為之刮目相看，可見中國發展速度之快了。
-
中國突破ASML壟斷,可以不用EUV造5nm晶片了?中科院回應
今年7月，中國科學院官網上發布的一則研究進展顯示，該團隊研發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法獲得突破。半年來這則消息被以各種形式和標題刷屏，例如解讀為「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」。
-
中科院正式發聲!打破ASML光刻機壟斷是誤讀:到底什麼水平?
」的局面，其中三星掌門人李在鎔親赴ASML荷蘭總部遊說，就是為了獲得更多的EUV光刻機設備，畢竟擁有更多的EUV光刻機設備，才可以生產製造更多的5nm晶片產品，在如今全球晶片市場大爆發的前提下，也有助於提高自己的晶片代工地位以及實力，所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。
-
官方回應:中國突破ASML壟斷,可以不用EUV造5nm晶片了?
今年7月，中國科學院官方網站發布的一項研究進展顯示，該團隊開發的新型5納米超高精度雷射光刻加工方法取得了突破，在過去的半年裡，這條新聞以各種形式和標題被傳播，如「打破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」 最近，相關專業人士紛紛回應：真的不是你們想的那樣。
-
中科院迎來好消息,5納米光刻機關鍵技術被攻克,要打破壟斷了嗎
今天跟大家聊一聊：中科院再次傳來好消息，他們突破了5納米光刻機的製造工藝，這次真的要打破荷蘭ASML長達幾十年的壟斷了嗎？而最主要的原因就是我們缺少了最為先進的光刻機，西方國家對於光刻機的相關技術嚴防死守，我們想要突破也變得異常的困難，目前沒有任何一個國家能夠自主研發出高端的光刻機，而荷蘭ASML公司能夠生產出光刻機，也是集齊了百家所長，雖然如此但是還是沒有什麼能夠難倒中國，科研人員還是全力攻克相關技術，就在前不久也迎來了好消息，作為業界領頭羊的上海微電子，成功自主研發出了28納米的光刻機
-
中科院突破5nm雷射光刻,ASML光刻機難替代,華為晶片依然艱辛!
一個好消息傳來，中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘與國家納米中心劉前共同在Nano Letters上發表了一篇研究論文，論文的主要內容是他們所研發的新型5nm高精度雷射光刻加工方法。說到晶片這個問題，一直是我國的弱項，美國也頻繁以此來卡住我國高新企業的脖子。
-
中國能否跟日本佳能和尼康合作研發光刻機,從而打破ASML的壟斷?
大家都得知道，晶片是製造業當中一個非常關鍵的零部件，而製造晶片的光刻機則是核心中的核心。雖然目前很多國家和企業都具備晶片設計能力，但是想要把高端的晶片設計轉化為實際的晶片則需要通過光刻機。而目前真正掌握高端光刻機的企業只有荷蘭的asml，它幾乎壟斷了全球14納米以上高端光刻機市場，特別是7納米以上的光刻機更是100%處於壟斷地位。
-
中科院研究員闢謠:5nm光刻技術存在誤讀,國產水平在180nm
今年 7月份，中科院發表的一則《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文引起了廣泛的關注。當時，華為正被美國打壓，中國晶片產業成為了國人的心頭憂慮。因此，中科院此新聞一出，遭部分媒體誇張、誤解之後，立刻引起了一片沸騰。
-
突破5納米光刻機技術是假的,國產光刻機水平為180納米
國產光刻機水平在180納米。我昨天發過一條信息，是有關之前網絡刷屏稱，中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」。並做了解析。今天又看到有闢謠稱，國產光刻機水平在180納米（AI財經根據資深半導體人士得到180納米，並非中科院說180納米）。
-
再次突破!我國光刻機再創奇蹟,5納米光刻機技術突破!
光刻機對於平常人來說也許是陌生的，然而說到晶片卻是熟悉的，畢竟現代社會人們使用的電腦、智慧型手機、MP4等都使用到晶片，而光刻機就是生產晶片的機器，光刻機技術決定了晶片的性能高低。中國光刻機技術、航空發動機、軸承鋼等一直都是中國被卡脖子的核心技術，為此中科院還成立了攻克小組，當然這個核心技術攻克小組的成立與華為總裁任正非也有一定關係。如今，中國光刻機技術突破，一定程度為華為緩解了危機。
-
中科院緊急發聲,國產5納米光刻技術是謠言,目前水平僅有180納米
今年7月份，中科院方面發表了一篇論文，研究的內容是5納米光刻製備技術。多人都將這個消息錯誤解讀為中科院已經攻克了最先進的5納米極外紫光光刻技術，但其實中科院研究的5納米光刻製備技術是指針對光掩膜的生產，而非是光刻機所用到的機極外紫光。
-
不用5nm光刻機也能造?石墨烯晶片技術突破,性能超矽基晶片10倍
設備的投入就比較固定，最貴的就是光刻機。荷蘭阿斯麥的高端光刻機，一年只生產26臺左右，售價是在1.5億美元左右，加上後期的調試和維護，至少要2億美元。光刻機的主要作用就是「顯影」，像華為這種晶片設計公司設計好晶片好，將「底片」拿給臺積電等公司。
-
科技日報:中科院國產22納米光刻機治不了咱的「芯」病
消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產晶片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破「晶片荒」》……筆者正好去中科院光電所旁聽此次驗收會，寫了報導，還算熟悉，無法苟同一些漫無邊際的瞎扯。中科院研製的這種光刻機不能（像一些網媒說的）用來光刻CPU。
-
再見EUV光刻機!國產晶片迎來「猛獸」,華為的獵殺時刻到了
但不管是14納米晶片還是N+1工藝工藝晶片，這兩種晶片的產能都處於不足的狀態。最近，中芯國際方面傳來一個消息，表示正在研究不涉及euv光刻機的晶片。但這就意味著中國在5納米到現金制晶片上還沒有正式開始，想要生產製造出7納米工藝的晶片，荷蘭ASML所研發的euv光刻機就成為了必要的設備，但現在和asml 也因為使用了美國技術，所以並沒有辦法向中國進行出售光刻機。
-
中國不需要EVU光刻機就能研製出5nm晶片?中科院:別再造謠了
在科技發展速度這一方面不能說後無來者，但也絕對稱得上是前無古人了，在科技水平迅速發展的數十年時間裡，中國也遇到了一些科技的瓶頸，也就是我們熟知的光刻機與晶片問題。想要製造頂級的晶片，就必須用到最頂級的光刻機，而如今最頂級的極紫外光刻技術，也只是掌握在少數頂尖科技企業的手中，就比如說荷蘭的阿斯麥，然而就在這陣子有很多媒體表示，中國不需要EVU光刻機就能研製出5nm晶片？中科院回應：別再造謠了。
-
國產5納米存在嗎?中科院發布聲明,只有180納米
晶片最主要的東西是什麼？晶片能夠生產主要是依靠光刻機。光刻機是生產晶片不可缺少的東西，它決定著晶片的強與弱。我國一直希望在這一領域能夠取得領先的地位。但每次的結果都不盡人意。為什麼中國卻製造不出光刻機呢，是因為光刻機的技術實在太過於複雜。
-
中科院5nm雷射光刻彎道超車?95後本科生DIY納米級光刻機?背後的...
就在前幾天，有2則和光刻相關的消息呈現刷屏之勢：其一是「中科院發布5nm雷射光刻技術」，被部分媒體解讀為「中國芯取得歷史性突破」、「荷蘭ASML將被我們取代（ASML笑笑表示不說話）」；其二是「95後本科生低成本DIY納米級光刻機」，該名學生則被冠以「真正的後浪」、「中國晶片行業未來的希望」等稱號。
-
我們離5納米晶片還有多遠,從晶片產業說明光刻機的重要性!
我們都知道，2020年9月份華為沒法獲得最新的5g晶片，mate40一機難求，就連華為辛苦培養多年的榮耀品牌都要被迫出售！那麼，為什麼我們不能生產自己的5納米晶片，和光刻機？難道舉國之力，就攻克不了光刻機這個最後的堡壘嗎？
-
又一晶片關鍵技術「破冰」,EUV光刻機也有進展,中國芯崛起在即
晶片關鍵技術迎來「破冰」在各國各企業的努力下，晶片成功突破到了5nm。5nm是目前世界上最先進的製程工藝，臺積電用了33年時間才做到了這一點，在今年第一季度實現大規模投產。相比之下，我國在晶片製程工藝上還有很大的進步空間，以中芯國際的代工水準來看，是在14nm。