半導體術語中英文對照表,趕緊get起來

2020-12-05 電子產品世界

  半導體產業作為一個起源於國外的技術,很多相關的技術術語都是用英文表述。且由於很多從業者都有海外經歷,或者他們習慣於用英文表述相關的工藝和技術節點,那就導致很多的英文術語被翻譯為中文之後,很多人不能對照得上,或者不知道怎麼翻譯。在這裡我們整理一些常用的半導體術語的中英文版本,希望對大家有所幫助。如果當中有出錯,請幫忙糾正,謝謝!

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/201806/382355.htm

  常用半導體中英對照表

  離子注入機 ion implanter

  LSS理論 Lindhand Scharff and Schiott theory,又稱「林漢德-斯卡夫-斯高特理論」。

  溝道效應 channeling effect

  射程分布 range distribution

  深度分布 depth distribution

  投影射程 projected range

  阻止距離 stopping distance

  阻止本領 stopping power

  標準阻止截面 standard stopping cross section

  退火 annealing

  激活能 activation energy

  等溫退火 isothermal annealing

  雷射退火 laser annealing

  應力感生缺陷 stress-induced defect

  擇優取向 preferred orientation

  製版工藝 mask-making technology

  圖形畸變 pattern distortion

  初縮 first minification

  精縮 final minification

  母版 master mask

  鉻版 chromium plate

  幹版 dry plate

  乳膠版 emulsion plate

  透明版 see-through plate

  高解析度版 high resolution plate, HRP

  超微粒幹版 plate for ultra-microminiaturization

  掩模 mask

  掩模對準 mask alignment

  對準精度 alignment precision

  光刻膠 photoresist,又稱「光致抗蝕劑」。

  負性光刻膠 negative photoresist

  正性光刻膠 positive photoresist

  無機光刻膠 inorganic resist

  多層光刻膠 multilevel resist

  電子束光刻膠 electron beam resist

  X射線光刻膠 X-ray resist

  刷洗 scrubbing

  甩膠 spinning

  塗膠 photoresist coating

  後烘 postbaking

  光刻 photolithography

  X射線光刻 X-ray lithography

  電子束光刻 electron beam lithography

  離子束光刻 ion beam lithography

  深紫外光刻 deep-UV lithography

  光刻機 mask aligner

  投影光刻機 projection mask aligner

  曝光 exposure

  接觸式曝光法 contact exposure method

  接近式曝光法 proximity exposure method

  光學投影曝光法 optical projection exposure method

  電子束曝光系統 electron beam exposure system

  分步重複系統 step-and-repeat system

  顯影 development

  線寬 linewidth

  去膠 stripping of photoresist

  氧化去膠 removing of photoresist by oxidation

  等離子[體]去膠 removing of photoresist by plasma

  刻蝕 etching

  幹法刻蝕 dry etching

  反應離子刻蝕 reactive ion etching, RIE

  各向同性刻蝕 isotropic etching

  各向異性刻蝕 anisotropic etching

  反應濺射刻蝕 reactive sputter etching

  離子銑 ion beam milling,又稱「離子磨削」。

  等離子[體]刻蝕 plasma etching

  鑽蝕 undercutting

  剝離技術 lift-off technology,又稱「浮脫工藝」。

  終點監測 endpoint monitoring

  金屬化 metallization

  互連 interconnection

  多層金屬化 multilevel metallization

  電遷徙 electromigration

  回流 reflow

  磷矽玻璃 phosphorosilicate glass

  硼磷矽玻璃 boron-phosphorosilicate glass

  鈍化工藝 passivation technology

  多層介質鈍化 multilayer dielectric passivation

  劃片 scribing

  電子束切片 electron beam slicing

  燒結 sintering

  印壓 indentation

  熱壓焊 thermocompression bonding

  熱超聲焊 thermosonic bonding

  冷焊 cold welding

  點焊 spot welding

  球焊 ball bonding

  楔焊 wedge bonding

  內引線焊接 inner lead bonding

  外引線焊接 outer lead bonding

  梁式引線 beam lead

  裝架工藝 mounting technology

  附著 adhesion

  封裝 packaging

  金屬封裝 metallic packaging

  陶瓷封裝 ceramic packaging

  扁平封裝 flat packaging

  塑封 plastic package

  玻璃封裝 glass packaging

  微封裝 micropackaging,又稱「微組裝」。

  管殼 package

  管芯 die

  引線鍵合 lead bonding

  引線框式鍵合 lead frame bonding

  帶式自動鍵合 tape automated bonding, TAB

  雷射鍵合 laser bonding

  超聲鍵合 ultrasonic bonding

  紅外鍵合 infrared bonding

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