納米光刻:雷射泡沫筆光刻技術仿造膠體納米顆粒

2021-02-10 雷射製造網LaserfairCom

膠體顆粒,比如量子點和金屬納米顆粒,它們正成為微電子、可再生能源以及醫學領域傳感/施藥等應用的重要設備。不幸的是,使用光子、聚焦離子束或電子束的標準光刻方法不能在固體基板上圖案化這些顆粒。光學鑷子提供強大的性能以全面操作這些顆粒,然而,使顆粒固定到基板上仍充滿挑戰性。此外,光學鑷子的高功率運行狀態(高達100 mW/μm2)限制了其應用範圍。

  

德克薩斯大學奧斯汀分校的研究人員研發出一種獨特的方法,採用功率非常低的雷射器在電漿基板和含有膠體納米顆粒的液體溶液之間的界面位置生成微泡。這種「泡沫筆」利用對流、表面張力和氣壓將顆粒拖向氣泡。通過這種泡沫筆光刻(BPL)技術,可以將具有不同解析度和結構的任意圖案以光學方式寫在基板上。
 

等離子體增強光熱效應

 

尺寸約為數十納米、在載玻片上的間距為個位數納米的納米顆粒被用作等離子體基板。低功率雷射器,其每平方微米級的功率為個位數毫瓦,且波長可以調諧以匹配納米顆粒的等離子體共振波長,這種雷射器就足以進行圖案化。

 

為形成氣泡,要從等離子體基板下側聚焦直徑2μm的雷射束,使其聚焦到膠體粒子溶液上,該溶液被夾在基板和與基板間隔120 μm的蓋玻片間。由於等離子體增強光熱效應導致水蒸發,蒸發的水汽在等離子體基板頂部形成直徑低至1μm的氣泡。

 

然後,膠體顆粒被拖向微泡並被截留在氣泡/溶液界面上,最終固定在基板上。當雷射器電源關閉時,由於熱效應帶來的增強基板附著力因素,顆粒仍停留在它們被圖案化的位置。即使在基板被漂洗並烘乾之後,這些顆粒圖案仍保留在基板上,這一特性使該方法適用於製造功能性設備。將雷射束作為筆,隨著掃描雷射束而移動氣泡,就可以形成納米顆粒的圖案,如圖1。

 

微泡位置的顆粒捕獲是由基板上溫度梯度引起的自然對流,結合沿著微泡表面的表面張力梯度引起的Marangoni對流而引起的。氣泡的平面內曳力引起粒子,在粒子接觸微泡表面時將其捕獲,這是一種可通過力學方程量化和預測的現象。事實上,還可以通過計算流體動力學(CFD)模擬結果來預測氣泡的溫度分布。

 

  圖1.  氣泡筆光刻(BPL)是一種使諸如量子點、聚苯乙烯珠或其他納米顆粒等膠體顆粒在等離子體基板上圖案化的方法,它採用雷射器生成光學控制微泡,以便將顆粒截留並固定在氣泡位置(上圖)。不同的雷射功率密度生成具有不同尺寸的氣泡(左下圖),它們能將三維形狀的顆粒截留在氣泡本身的球形外殼上(右下圖)。
 

在進一步的實驗中,具有不同功率密度的雷射器可用於生成不同尺寸的氣泡,以便能夠以1 mW/μm2的雷射功率能級將聚苯乙烯珠之類的納米顆粒合併到具有一種三維外殼結構的氣泡上,其功耗比典型光學鑷子(100 mW/μm2)低100倍。
 

德克薩斯大學奧斯汀分校的助理教授Yuebing Zheng 指出:「根據顆粒類型的不同,圖案化顆粒具有多種用途。例如,金屬納米顆粒能夠形成超表面和超材料,它們能以天然材料無法提供的方式控制光,且圖案化生物細胞能夠在組織工程與高通量藥物篩選領域找到重大應用前景。未來,我們將進一步研究以提高該技術的吞吐量與自動化水平,以便用膠體粒子和生物細胞大批量製造功能材料與設備。其中一種方法是研發多光束處理技術。」

(來源:中國科學院)


圖文均來自網絡,版權屬於原作者。

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