基於碳化矽襯底的薄膜雷射器實現低功耗水平
ICC訊(編譯:Aiur) 10月20日消息,日本NTT公司與東京工業技術大學合作開發出一種新型薄膜雷射器,在高導熱碳化矽(SiC)襯底上使用了磷化銦(InP)化合物半導體。該雷射器是世界第一臺具備3dB帶寬超100 GHz的直接調製雷射器,可在超2km距離上每秒傳輸256吉比特。當前,直接調製雷射器廣泛引用在數據中心,但其調製速率存在的瓶頸,對進一步提高傳輸容量而言是一個問題。新型雷射器使我們能夠以低成本、低功耗的解決方案來應對預期的流量增長,並有助於實現支持NTT IOWN倡導的高容量光傳輸基礎設施概念。該研究結果在2020年10月19日Nature Photonics上發表。
研究背景
未來,數據流量將持續增長,數據中心更是流量匯集之處。運營商不僅需要提升伺服器光互連容量,還需要控制數據中心的功耗增長,因此降低光互連功耗就變得尤為重要。當前,直接調製雷射器由於其低功耗和低成本而被廣泛用在數據中心。然而,由於它們使用強度調製,其中光輸出與注入雷射器的電流成比例地變化,因此它們的調製速度受到弛豫振蕩頻率(relaxation oscillation frequency)的限制,弛豫振蕩頻率是載流子與光子之間的相互作用。圖1顯示了過去30年裡直接調製雷射器3-dB帶寬的變化。在1990年代,雷射器有源層的性能獲得改善,使3-dB帶寬提升至約30 GHz,但此後再也沒有取得重大進展。
由於業界認為難以進一步改善有源層的性能,因此光子與光子共振(photon-photon resonance)作為一種新型加速方法已獲得業界關注。在該方法中,當雷射模式與相鄰腔模之間的失諧頻率與特定的調製頻率一致時,由強度調製產生的邊帶(sideband)被增強。 圖2顯示了應用光子與光子共振時3-dB帶寬的變化。到目前為止,研究團隊已經實現了55 GHz的3-dB帶寬,並且112Gbps速率PAM4信號調製也已經獲得驗證。
儘管可以通過調節失諧來增加特定頻率的響應,但是從低頻區域到高頻區域必須具有平坦的頻率響應特性,以進一步提高速度。 為此,重要的是增加弛豫振蕩頻率並防止弛豫振蕩頻率與光子-光子共振頻率之間的大幅下降。
研髮結果
為了增加弛豫振蕩頻率,NTT研究人員專注於有源區的光學限制因子,並在具有熱氧化膜(SiO2)的矽(Si)基板上開發了薄膜雷射器。 薄膜雷射器在有源區域具有較大的光學限制因子,並且結構緊湊,從而實現低功耗的直接調製雷射器。另一方面,由於該器件是在低熱導率的SiO2層上製造的,所以由於注入電流而導致有源層的溫度升高很大,即使電流增加,弛豫振蕩頻率也會由於差分增益導致在20GHz左右飽和。
為了抑制有源區溫度的升高,研究人員在碳化矽(SiC)基板上製造了基於銦磷(InP)的薄膜雷射器(圖3),其導熱率比SiO2高約500倍。由於SiC的折射率低於InP的折射率,因此光學限制因子與SiO2上的器件的光學限制因子幾乎相同。該器件是通過在InP和SiC襯底之間與超薄(40nm)SiO2直接鍵合來製造的。假設熱源為100 mW,當SiO2的厚度從2微米減小到40納米時,有源層長度為50微米的膜雷射器的有效區域中的溫度升高從130.9降低到16.8℃(圖4)。對於在SiO2/Si襯底上製造的器件,弛豫頻率達到最大值的電流為5.5 mA。相反,利用在SiC襯底上製造的器件,能夠將電流增加至30-mA,並獲得了世界上最高的42 GHz弛豫頻率和60 GHz的3-dB頻帶(圖5)。
此外,利用來自輸出波導端面的光反饋,NTT設計了一種在95 GHz附近發生光子與光子共振的設備。結果獲得了108 GHz的3 dB帶寬(圖6)和256Gbps(2560億比特)的PAM4信號,並在2 km距離內進行了傳輸(圖7)。
為了抑制有源區溫度的升高,研究人員在碳化矽(SiC)基板上製造了基於銦磷(InP)的薄膜雷射器(圖3),其導熱率比SiO2高約500倍。由於SiC的折射率低於InP的折射率,因此光學限制因子與SiO2上的器件的光學限制因子幾乎相同。該器件是通過在InP和SiC襯底之間與超薄(40nm)SiO2直接鍵合來製造的。假設熱源為100 mW,當SiO2的厚度從2微米減小到40納米時(圖4),有源層長度為50微米的膜雷射器的有效區域中的溫度升高從130.9降低到16.8℃。對於在SiO2/Si襯底上製造的器件,弛豫頻率達到最大值的電流為5.5 mA。相反,利用在SiC襯底上製造的器件,能夠將電流增加至30-mA,並獲得了世界上最高的42 GHz弛豫頻率和60 GHz的3-dB頻帶(圖5)。
此外,利用來自輸出波導端面的光反饋,NTT設計了一種在95 GHz附近發生光子與光子共振的設備。結果獲得了108 GHz的3 dB帶寬(圖6)和256Gbps(2560億比特)的PAM4信號,並在2 km距離內進行了傳輸(圖7)。
未來發展
未來將看到能夠處理下一代乙太網標準發送器的發展,發送器具有四個或八個陣列的傳輸容量超過1 TB。由於預期數據流量的增加,期望同時實現低功耗可以抑制數據中心和超級計算機的功耗增加。
NTT公司原文連結:NTT公司原文連結:https://www.ntt.co.jp/news2020/2010e/201020a.html" target="_blank">https://www.ntt.co.jp/news2020/2010e/201020a.html