近日，全國首家以集中展示兩院院士風採為主題的上海兩院院士風採館歷經升級改造後以全新面貌向公眾開放。
兩院院士風採館坐落在楊浦區黃興公園外，是一個對青少年進行愛國主義教育和科普教育的基地，也是兩院院士進行學術交流，探索創新思維的場所。兩院院士風採館於2006年開館，全館展示面積達2000平方米。本次升級改造對館內部分空間進行了功能提升，以新穎的展陳方式與充實生動的科學內容向遊客展示我國科研建設成果，也通過院士們豐富詳實的視頻講解、虛擬互動等方式拉近科學與大眾的距離。
在科技發展迅猛的今天，傳統的展陳方式，如圖片、模型等已經不能滿足現代化展示的需求，因此，高科技支持下的創意多媒體展示方式應運而生，其中包括大型寬幕影視觀摩系統、沉浸式投影系統、360度三維虛擬影視演示系統、AR/VR以及多媒體系統的整合運用等。
兩院院士風採館本次升級改造，利用多臺麥克賽爾短焦雷射投影機MMP-K5010U機型打造沉浸式觀賞體驗方案。沉浸式投影是一種基於投影的虛擬實境系統，它由圍繞觀察者的三個投影面組成，三個投影面採用正投的方式，組成一個立方體結構，讓參觀者能夠達到身臨其境的參觀體驗。沉浸式投影從各個層面包圍著觀眾，能夠全面覆蓋觀眾的視角，沉浸感是普通投影所不能實現的，已經被越來越多的領域運用。
MMP-K5010U是麥克賽爾攜手朗悅科技於2020年10月份推出的新機型。針對沉浸式場景而生的MMP-K5010U為更好的體現場景的互動性，在本機內專門設置有適配沉浸場景的「沉浸模式」，提升用戶的實際使用感。此外，可調節的亮度更為沉浸場景的布置提供了高效節能的高性價比；溫度、光感等多種傳感器的內置可使MMP-K5010U根據環境作出相應調整，以在任何情況下達到最優使用狀態。
MMP-K5010U配備短焦投射鏡頭，可在1.1 米的距離投影出100 英寸的圖像。短焦投射可大大減少投影機眩光，畫面不易被遮擋，觀眾也有一個更清晰的視角， 從而得到較好的影像體驗。摒棄傳統的固定式節能模式設計，依託麥克賽爾雷射新光源特性，創新研發無級節能模式，用戶可根據自身需要，自由調整可滿足正常工作需求的顯示亮度，從而達到節能效果，並支持任意角度自由靈活安裝。
麥克賽爾MMP-K5010U使院士風採館沉浸式體驗畫面更完整，採用三臺投影機的投射畫面，並通過融合技術使畫面更完整，尺寸更大，視覺衝擊感更強，不止可以近距離欣賞，還可以親身互動。
MMP-K5010U作為有極強競爭力的雷射工程短焦投影機，相較於傳統光源投影機，具有亮度高、壽命長、色彩豔麗等諸多優勢，無論是色彩表現力、穩定性還是防塵級別都具備超高專業水準，靈活適用不同應用場景，給方案落地提供了極大便利。