5臺光刻機已入手,中國「國產晶片」迎來春天,還是張召忠有遠見

2020-12-25 頭腦眼大設計

Hello大家好我是小楠,美國因為看到華為的快速發展,害怕被超越就開始了無理取鬧的各種打壓模式,殊不知,這樣的的行為更加讓華為快速成長起來,恰恰起到了反作用。

這短時間不斷被美國打壓,也讓華為認識到了,中國在晶片製造領域上的短板,這對於我國來說可不是一個好消息,雖然我們知道中國晶片已經發展了很多年了,到現在已經能夠自主設計,而且在晶片的封測上面,也有一定的地位,但是在製造方面卻沒有什麼成就。

晶片製造最重要的工具就是光刻機,而且光刻機的優質問題決定著晶片的性能,只不過光刻機被荷蘭的ASML壟斷著,不管臺積電還是三星都擺脫不了,從ASML買光刻機的命運,而且中國到現在也沒有在7納米晶片製造上有新的進展,就是因為沒有拿到RUV光刻機,幸好目前N+1可以製造出與7納米同水準的晶片,但我們也不能鬆懈,因為高配置的光刻機肯定有不一樣的功能,所以未來肯定少不了。

正當著急上火的時候,一塊西瓜給送來了,這不10月16日,國產企業英唐智控收購了先鋒微技術,可不要小看這個公司啊,這是日本的企業,收購他們就代表中國收穫了先鋒微技術,而且先鋒微技術在晶片領域也有著非常良好的發展前景,關鍵是他公司的5臺光刻機就屬於我們了,還有一條6英寸的晶圓提生產線那。經過一段時間的升級,相信也會再次加速我們在半導體行業中的布局,以此來縮短與其他巨頭的差距。

而我國著名的軍事理論家張召忠曾經說過,再過三年,美國晶片將無人問津,因為到時候中國將到處都是。如此看來,張召忠果然有遠見,相信那個時候我們將不再被任何國家任何企業所束縛。對此你有什麼看法呢?

相關焦點

  • 國產光刻機背後的希望
    要知道,此前上海微電子能量產的最先進光刻機,已被卡在90nm製程上四年之久。但是,現在時間邁進12月中旬,我們卻並未看到有關這臺光刻機的確鑿消息。這一背景下,中國的IC前道用先進光刻機研發之路,究竟走得怎麼樣了?那臺傳言中的ArF光刻機背後,又有哪些玩家的身影?
  • 關於EUV光刻機,阿斯麥爾正式宣布,張召忠果然沒有說錯!
    眼看越來越多的國家開始發展自己的晶片製造產業,阿斯麥爾終於還是坐不住了,就EUV光刻機進行了表態。據國內媒體爆料:中芯新任董事蔣尚義在與阿斯麥爾進行談判,而談判的內容就是採購EUV光刻機的相關事宜。此前,由於《瓦森納協定》以及美國所造成的影響,中國企業採購的EUV光刻機遲遲不能夠發貨。
  • 荷蘭巨頭壟斷全球,在中國紮根20年,賣給中國700餘臺光刻機
    ,在國內晶片產業快速升級的當下,正被越來越多國人所關注。  另外,根據ASML財務長羅傑·達森10月14日給出的數據,ASML在這20年裡累計向中國企業售出700餘臺光刻機設備。而且,近段時間,ASML公司更是2次向中國市場釋放友善信號。
  • 血戰光刻機 | 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰
    光刻機,被稱為現代光學工業之花,製造難度非常大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。其售價高達7000萬美金。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
  • 四部委力挺國產晶片,EUV光刻機也迎來轉機
    所以,中國晶片產業目前最大的難關就是如何攻破晶片製造產業,以便儘早完成10nm以下製程量產。四部委力挺國產晶片而在近日,為了讓這個目標早日達成,四部委正式文件落地,力挺國產晶片!就在12月17日的時候,我國財政部、稅務總局、發展改革委以及工業和信息化部四大部委關於扶持國產晶片產業的正式文件落地,中國大陸晶片企業最高可免10年所得稅,並且該規定自2020 年1月1日起正式執行。
  • 三星來華,還帶來了光刻機,美國晶片業或將迎來大變天
    前面講到過,美國此次的行為影響了搶了全球半導體,而三星此次來華,帶來了光刻機對於美國的晶片行業來講是一種極大的打擊,對美國今後發展半導體領域產生了巨大的影響,而美國晶片行業很有可能會一蹶不振。要知道這是繼華為麒麟9000以及蘋果A14處理器之後,全球第三款 5納米工藝晶片,也就意味著5納米晶片,不僅僅只有臺積電掌握著,現在三星也具備了相應的能力。三星此次橫空出世,與聯發科,高通很有可能會形成對立的局面,並且這款5納米晶片的尺寸縮放了25%,但是功耗上去提高了20%。
  • 光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機
    同理,當我們突破了EUV光刻技術,ASML就開始鬆動了。據網絡上的報導, ASML 說EUV光刻機要進口到中國全沒有任何問題!最快2019年,中國或將迎來首臺EUV光刻機。   最後,進入十四五計劃後,隨著國家對晶片領域大幅度投資和持續投入,相信中國的光刻機發展也將最終進入大規模自主生產的階段。還是那句話,一切只是時間問題!
  • 光刻機霸主阿斯麥封神之路:一家荷蘭公司扼住全球晶片產業的咽喉
    除了出貨量佔優,阿斯麥(ASML)也代表著全球最頂尖的光刻技術。在阿斯麥2019年賣出的229臺光刻機中,有26臺是當今最高端的EUV(極紫外線)光刻機。而在EUV光刻市場,阿斯麥是唯一的玩家。EUV光刻機採用13.5nm波長的光源,是突破10nm晶片製程節點必不可少的工具。
  • 厲害的何止ASML,中國光刻機巨頭打破技術壁壘,一個零件賣6000萬
    雖然光刻機生產商並不只有ASML一家,但能夠生產出高端晶片的光刻機卻只有ASML,而ASML生產的光刻機含有大量美國技術,因此該設備出口被美國止住其實也在意料之中。當然,國產晶片行業發展並不會因此止步,前段時間梁孟松教授公開表示,即便不使用光刻機也能生產出7nm工藝晶片。而近日,中國光刻機巨頭華卓精科又帶來好消息。
  • ASML三季度財報:賣了60臺光刻機淨賺87億
    據悉,當季ASML共獲得60臺光刻機的銷售收入,總額31億歐元,其中EUV光刻機14臺,但收入佔比達到了66%。地區方面,中國臺灣貢獻了光刻機收入的47%,看來臺積電支付了一大筆EUV機器的貨款。韓國廠商貢獻了26%,中國大陸企業貢獻了21%。另外,當季ASML還接到了累計29億歐元的新訂單,並出貨了10臺EUV光刻機,型號以3400B為主。
  • 頂級晶片都是5納米的,國產90納米光刻機有用嗎?看完長見識了
    頂級晶片都是5納米的,國產90納米光刻機有用嗎?看完長見識了隨著晶片產業被越來越多的人們關注,人們對晶片的認識大多都集中在手機廠商們大力宣傳的5納米工藝。而我國的光刻機技術也一直是落後於國際社會的,我們至今都沒有研發出5納米級別的光刻機,大多數國產光刻機只能生產90納米的,很多人想當然的覺得現在市場的設備搭載的都是這樣的超高水平的5納米晶片。其實並不是這樣的。我們知道,手機是一個非常集約化設計需要在保證體積可控的情況下,為用戶提供儘量強大和多元化功能的重要設備。
  • 國產光刻機的春天來了!上海微電子官宣,相當於ASML15年前的水平
    權威機構報告顯示,我國將在2年內實現28nm晶片的自給自足,完全不需要美國技術的支持。事實上,在半導體領域,我國陸續有不少好消息傳出,就比如上海微電子即將在明年交付國產首臺28nm光刻機。問題是,28nm晶片真的夠用麼?
  • 傳來3個好消息,事關ASML光刻機,國產晶片轉機來了
    就EUV光刻機這一事,雙方如果能達成一致的合作意願,那麼對國產晶片來說,是大好的喜事。2018年中芯國際曾向ASML採購了一臺EUV光刻機,可是在相關規則之下,時至今日也沒有完成發貨。所以這也是蔣尚義談判ASML的一大目的。
  • 光刻機霸主阿斯麥封神之路
    然而,臺積電能吃下蘋果、華為的5nm訂單,背後還少不了一家荷蘭廠商的存在:晶片製造要想突破10nm以下節點,必須要用到EUV(極紫外線)光刻技術,而EUV光刻機只有荷蘭公司阿斯麥(ASML)能造。不論是5nm量產賽道第一名臺積電,還是第二名三星,想造出產品,就只能先乖乖向阿斯麥訂貨。
  • 華為要被卡脖子,光刻機行業壟斷程度有多高?國產品牌出路?
    根據SEMI統計,2018年中國大陸半導體設備市場規模達到131.10億美元,同比增長59.30%,高於全球半導體設備市場規模同比增長率13.97%,中國大陸成為半導體設備市場規模增長最快的地區。此外,隨著中國大陸晶圓產能的建設和擴產,中國將成為全球晶圓產能增長的重心。這將帶動國產半導體設備的需求增長,為國產光刻機的發展提供了良好的機會。
  • 漢芯事件再次重演,心疼1300億打了水漂,ASML重拳出擊國產光刻機
    別的不說,中國行業補貼真的多,而且國內企業對晶片危機意識很早,國家也一次次補貼想讓國產站起來,但很可惜,漢芯事件重演了。大家都知道之前陳進通過造假漢芯一號晶片騙取了11億補貼,如今這次武漢弘芯更狠,本以為可以舉國歡慶有自己的光刻機,能夠讓我們在7nm上進步一大截,結果還是DUV光刻機。
  • 國產晶片設備迎突破,與荷蘭光刻機聯機成功
    晶片生產並不是一件容易的事情,在晶片設計之前,晶片的基礎材料矽基晶圓也需要事先準備好,於是又多了一個矽片生產的過程,這裡需要用到單晶爐、一體機、切片機三個設備。晶片生產更多的是依靠晶片架構與EDA軟體,晶圓加工的過程最為複雜,薄膜生長、光刻、顯彰、蝕刻、拋光5道工序對應了CVD設備、光刻機、顯影機、蝕刻機、拋光機。
  • 中芯國際5nm、3nm晶片:蔣尚義與ASML談判尋求EUV光刻機,商務部喊話...
    由此可見,無論是光刻機還是光刻膠,都會對技術有非常高的要求。這也導致,光刻膠具備市場集中度高、客戶壁壘以及技術壁壘高的特點,所以市場新秀的數量較少、誕生頻率較低。中芯獨缺EUV光刻機,官方喊話荷蘭,國產晶片能否迎來新臺階?如今,晶片行業已經來到5nm節點,DUV光刻機已經難以勝任,需要用到目前最頂尖的EUV光刻機。
  • 國產石墨烯技術大突破,不用EUV光刻機也能造晶片?專家:差得遠
    文/數碼新一最近國產8英寸石墨烯晶圓實現了小批量生產,這似乎讓國產晶片實現「彎道超車」有了新的希望!因為按理論來說,只要在石墨烯製成晶圓上繼續切片、刻蝕、離子注入、光刻等一系列操作就能擺脫EUV光刻機做出「碳基晶片」,簡單點來說我們終於不用再被別人「卡脖子」了!
  • 國產晶片迎來突破,中國巨頭造出光刻膠,打破日本技術壟斷
    光刻膠是一種對光敏感的混合液體,是半導體晶片製造過程中所需的關鍵材料,主要用於光刻曝光環節。光刻膠主要有KrF、ArF、EUV幾種,我國在低端光刻膠領域雖然有不錯的表現,但在高端領域,我國仍要依賴海外。