晶片禁令正式生效後,凡是使用美國技術或設備的企業,都要經過美國允許才能與華為合作,其中就包括臺積電、中芯國際、高通、三星、聯發科等企業,而臺積電是華為麒麟晶片的主要代工廠商,專門為華為製造5nm製程晶片,如今受美國條例限制,臺積電被迫與華為斷開合作。
華為餘承東也表示,麒麟9000將成為絕唱,可見在沒有臺積電代工的情況下,華為海思即使擁有世界一流晶片設計能力,也無法生產出手機晶片。
為了解決晶片短缺問題,華為正打算著手入局晶片製造領域,打造出屬於自己的晶片,但面臨的難題也很多,首先缺少晶片製造關鍵設備,其中就包括光刻機,一旦在光刻機研發上實現突破,那麼國產晶片製造的問題就解決一半。
而在近期,中國科學院院長白春禮就表示,會將美國的「清單」當成研究任務,重點解決被美國一直卡脖子技術,其中就包括製造晶片的關鍵設備:光刻機,這無疑加快我國在半導體領域的發展。
對於這個話題,英國媒體也做出預測,文章指出美國的晶片禁令不僅不會影響到華為,反而會讓中國更快實現科技領域上的騰飛,因為在這種破釜沉舟的絕境中,中國只有發展出相應技術才不會受美國限制,到那時,美國就沒有實力能限制中國晶片產業崛起。
目前,光刻機設備研發至關重要,一旦實現突破,中企就能搭建一條「去美國化」晶片生產線,倪光南院士指出,目前我國已經掌握了28納米光刻機技術,能實現14納米晶片的生產。
不過,只有光刻機設備也不行,還需要有晶片製造工藝技術,比如三星、英特爾等晶片巨頭都有光刻機,但沒有掌握先進位造技術,所以在工藝製程上落後於臺積電,而我國就沒有這方面問題。
在去年,就有媒體報導,中科院在2納米晶片製造上實現了技術突破,首個採用自對準柵極的疊層垂直納米環柵電晶體技術,因此在晶片製造技術方面,我們已經沒有太大問題,只要解決EUV光刻機就可以,不過這個過程是很漫長的,大概需要3到5年,未來可期!