在今天開幕的臺積電技術論壇上，臺積電除了公布5nm、4nm、3nm工藝進展之外，還正式宣布建設新的研發中心，預計將有8000多名工程師投入到一條先進工藝生產線上，目的是攻克2nm工藝。
前不久臺積電以36.5億新臺幣的價格收購了同樣位於南科工業園的力特公司的偏振光廠房，要建設新的生產廠，不過臺積電官方沒有明確這個工廠是為2nm研發中心準備的。
由於訂單大增，今年以來臺積電已經投入上百億新臺幣購買土地以便擴張產能。
目前不論三星還是臺積電，半導體工藝已經做到了3nm級別，技術研發基本完成，剩下的就是建廠量產的問題了。
2nm工藝是3nm之後的一次重要迭代，與三星激進地選擇在3nm節點就導入GAA環繞柵極工藝不同，臺積電更為保守，在2nm節點才導入GAA工藝，所以2nm節點對他們而言是一次重要的技術升級。
臺積電此前提到2nm工藝技術研發順利，已經取得重大突破，成功找到切入GAA工藝的路徑。
不過目前來看，2nm工藝的研發其實遠沒有結束，臺積電也只是剛剛開始，依然需要投入大量資源，這8000多名工程師就是必要條件之一，這也彰顯了臺積電未來繼續保持工藝領先優勢的決心。