荷蘭職員：中國能造出比肩7nm工藝的晶片，簡直「反人類」操作

2020-10-21 小平愛旅行


相信只要是略懂科技新聞的朋友們都知道，如今中國在科技方面有著幾個「大壁壘」，其中最大的壁壘就是光刻機以及晶片，頂尖的EVU光刻機現在甚至能做到加工2nm或者3nm晶片，要知道現如今我們所使用的手機搭載的晶片最頂尖也僅是5nm工藝。



光刻機其實是非常難製造的，荷蘭的ASML公司也並不是自己造出來的，其中更多的是德國美國這些國家的技術支持，那麼中國在光刻機方面遇到壁壘，最好的方法就是改變思路，爭取換道超車，而在最近，中國在晶片製造方面，就傳出了好消息。



就有荷蘭職員表示：中國如今能造出比肩7nm工藝的晶片，簡直「反人類」操作，中芯國家一直都是中國最強大的電路晶片製造商之一，在研發晶片打破壁壘這一方面中芯國際是刻不容緩，而在近期，一款FinFET N+1工藝製造的晶片出現了。



據說這款晶片已經完美度過了所有的測試，而且性能相對於上一代14nm工藝的晶片，有了極大的提升， 保守估計性能方面至少能提高兩成，功耗也有所降低，也就是說，這個晶片已經可以比肩去年的主流高端產品7nm工藝的晶片。



雖然中國目前的由上海微電子研發的最頂級光刻機僅在28nm工藝，但是在晶片方面卻有所突破，做到了堪比7nm工藝，這無疑是一大突破，這現如今換道超車已經成功了一半了，就只需要再加把勁，或者等待光刻機的突破。



近期有傳聞說中國的一些科企業會與日本老牌的光刻機製造商尼康進行合作，如果消息不假的話，相信很快就能打破光刻機這另外一層壁壘了，對此各位讀者有什麼看法？歡迎評論區留言，你能夠預測中國大概會在什麼時候攻克這兩個技術嗎？歡迎留言。

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