5納米光刻機技術≠5納米光刻機本身

近日，一則關於中科院攻克5納米光刻機技術的消息在網上傳遍。在這個節骨眼上，一時間在網上討論的沸沸揚揚。許多國人都站出來為中科院喝彩，並對那些付出努力的科學家們表達了敬意。

但是，除了喝彩之外，似乎還出現了一些不和諧的聲音。有網友認為這些文章是嚴重造假，目的是為了製造輿論渲染。甚至有的網友還聲稱，應該把寫這些文章的人抓起來重判。這些評論看似過激，但其實都反饋了一個共同的特點，那就是有的國人對中國的科技進步沒有信心。而之所以對中國的科研成果沒有信心，總結起來原因就一個：此前美國沒有打壓中國的時候中國一直製造不出高端光刻機來，為何現在美國一打壓就能造出來了呢？

針對上述一些網友的質疑，我在這主要想明確三點。

第一、5納米光刻機技術≠5納米光刻機本身。這則消息已經明確把標題亮出來了，上面寫的是「5納米光刻機技術迅速騰飛……」。仔細看這裡明確的說是「5納米光刻機技術」，而不是「5納米光刻機」！一臺5納米的光刻機，裡面包含著成千上萬種大大小小的技術，其中核心技術就是光源技術。這些技術如果難度大的話，哪怕有萬分之一的突破，那也是突破！此前有的網友誤把這「5納米光刻機技術」當成了5納米光刻機本身，所以導致他們理解出現了錯誤。

第二、中國從被美國打壓之後才開始起步研製高端光刻機？許多網友認為，中國才剛被美國封鎖不久，就立刻突破了5納米的光刻機技術，認為這是在造假。我想說的是，其實中國並不是在美國打壓了之後才開始著手研製光刻機的，中國最早研製光刻機的時間是在1965年，當時清華大學已經造出了193微米的光刻機。後來因各種原因誘使中國放棄了自主研發、提倡進口，所以才導致了今天這種地步。但不管怎麼說，中國還是有了一定的科研積累，所以說當前中國對高端光刻機的研究並不是從0開始的。除了光刻機之外，其他高端的半導體材料的研製也都有了很長時間的技術積累，只是以前國內的企業不夠重視，成本也比較高，企業的積極性不強。現在國家將第3代半導體產業納入戰略性發展計劃，而且還給相關半導體產業10年的免稅政策，大幅度調動了這些企業科研的積極性，還有國家提供的資金和技術支持。所以說這些企業在短短的一個多月內出現了飛速的發展也不足為奇。

第三、發這些激勵性的文章，只是為了渲染輿論？產生這種疑問的網友，無非就是覺得竟然中科院有研製高端光刻機的能力，那為什麼中科院以前無法製造高端光刻機，而現在這麼短的時間內就能快速突破了？我們可以回憶一下，國家這段時間之所以如此重視第3代半導體的發展，根源就是美國對華為高端麒麟晶片的制裁，使華為的晶片無法生產。說明了中國有能力設計和研發高端晶片，卻無能力去製造這種高端晶片。所以國家就決定一定要發展這種高端晶片製造的能力。在此期間，許多企業開始強強聯合，包括華為也在不斷的與相關的企業籤署合作協議。從這裡可以看出中科院研製高端光刻機並不是中科院自己單打獨鬥的，肯定還有其他的企業參與合作。像之前關於第3代半導體也就只有華為一家企業重視，而現在國內的許多企業也開始重視起來。以前都是一根手指頭跟美國競爭，現在這些手指頭突然握在了一起形成一個拳頭，那麼力量就會在短時間內大量爆發，這一點也是非常現實的。

總的來說，我們還是要對國家的科研有信心。一些關鍵核心技術說著容易做著難，但是只要齊心協力就沒有什麼無法突破的，缺的只是時間而已！