中科院研發5納米光刻技術,能突破光刻機壟斷嗎?ASML:痴心妄想

2020-12-07 蘭觀寰宇

現如今,隨著我國改革開放的進行,國家的經濟得到提升,我國在許多領域上都有著顯著的進步與突破。例如我國的科技領域、勘探領域、製造業領域、貿易領域、基建領域等,都讓許多國家為之刮目相看,可見中國發展速度之快了。

眾所周知,晶片對於每個國家的發展而言,都起到了至關重要的作用。而晶片的製作需要光刻機,ASML可謂是壟斷了全球的大部分光刻機。而中國的晶片發展,當然離不開ASML光刻機的幫助,而中國科技實力雖說有所進步,但想要實現「彎道超車」依舊非常困難。

但隨著最近中科院研發的5納米光刻技術曝光,引起了外界的一片沸騰,許多人都認為中國5納米光刻技術,能夠突破ASML光刻機的壟斷,是中國晶片歷史上的重大發展。但事實真的能突破光刻機的壟斷嗎?ASML吐槽說:痴心妄想!

雖然中科院所研發的5納米超高精度雷射光刻加工方法非常先進,但也僅適用於製作光掩膜。目前我國的國內所製作的掩膜版都是中低端的,裝備和材料大多數都來自國外,所以即便這一技術實現了商用化,但想要突破光刻機的壟斷,依然是一件極其困難的事情。

目前並沒有任何一個國家,能夠實現光刻機的自主製造,中國憑藉著一己之力在短時間內,是不可能實現「彎道超車」的。但或許中國在石墨烯上的突破,能夠實現「直道超車」也說不定,相信中國的科研人員,定能給予我們無限的可能。

不得不說,如今中國的發展已經得到了世界各國的認可與支持,這也離不開科研人員的不懈努力。對於這件事情,你是怎麼看待的呢?歡迎在評論區說出你的看法和見解,與小夥伴們一起討論一下吧!

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    《納米快報》(Nano Letters)上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?
    當前我國真正量產的光刻機只有90納米,雖然28納米光刻機已經取得技術性的突破,預計2021年年底會量產,但跟國際最頂尖的asml的7納米EUV光刻機仍然有很大的差距,這種差距短期之內是不可能彌補的。但我認為中科院5納米光刻機技術的研發成功,對我國光刻機的研發具有重要的意義。
  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
    (記者 陳洲)這半年來,關於中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。然而,情況真是這樣嗎?《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相:今年7月,中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文,介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。該論文的通訊作者博士生導師劉前特別強調,「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」是一個誤讀,超解析度雷射光刻技術與極紫外光刻技術是兩回事。
  • 中科院5nm雷射光刻,是否意味可以取代荷蘭的ASML光刻機?
    首先中科院在光刻機技術上能夠取得一些新的突破,這是非常值得大家高興的一個事情,畢竟晶片對於我國來說太重要了,我國作為全球最大的晶片消費國之一,但是目前我國一些高端晶片仍然嚴重依賴進口,雖然我們有能力設計出7納米甚至5納米的晶片,但是想要把這些設計方案轉化為實實在在看得見的晶片,還要委託給其他廠商進行生產。
  • 中科院迎來好消息,5納米光刻機關鍵技術被攻克,要打破壟斷了嗎
    今天跟大家聊一聊:中科院再次傳來好消息,他們突破了5納米光刻機的製造工藝,這次真的要打破荷蘭ASML長達幾十年的壟斷了嗎?而最主要的原因就是我們缺少了最為先進的光刻機,西方國家對於光刻機的相關技術嚴防死守,我們想要突破也變得異常的困難,目前沒有任何一個國家能夠自主研發出高端的光刻機,而荷蘭ASML公司能夠生產出光刻機,也是集齊了百家所長,雖然如此但是還是沒有什麼能夠難倒中國,科研人員還是全力攻克相關技術,就在前不久也迎來了好消息,作為業界領頭羊的上海微電子,成功自主研發出了28納米的光刻機
  • 中科院5nm光刻技術突破西方壟斷?實情是這樣
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  • 中科院5nm光刻技術突破西方壟斷,實情是怎樣的呢?
    中國科學院早前發表論文,介紹最新研發的一種「5納米超高精度雷射光刻加工方法」,燃起國內晶片業起飛的希望。但事實證明仍空歡喜一場,負責撰寫的中科院學者昨日(1日)開腔,形容是外界誤讀。 該篇論文7月發表,隨後在國際知名期刊《納米通訊》(Nano Letters)刊登。
  • 突破ASML壟斷?中科院5nm雷射光刻加工方法被誤讀
    近日,《財經》雜誌發文澄清了一個關於中科院光刻技術突破ASML的誤讀傳言。事情可以追溯至今年7月,中國科學院官網上發布了一則研究進展相關消息,中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》(Nano Letters)上發表了一篇題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發的「
  • 中科院5nm光刻技術,突破ASML壟斷?看研發者是怎麼說的
    眾所周知,今年7月份的時候,網上傳出一則重大消息,那就是中科院發布了一篇文章《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》,這篇文章介紹了中科院團隊研發的一種新型的5nm超高精度雷射光刻加工方法。於是網友們沸騰了,把它與5nm光刻機聯繫起來,說中國有了5nm光刻技術,打破了ASML的封鎖,還有什麼彎道超車,不需要極紫外錢也能實現5nm等等。但當時,中科院沒有對這些傳聞做太多的回應,但在近日,該項目的研發者之一,中科院研究員、博士生導師劉前面對媒體採訪時表示,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻機技術是兩回事。
  • 突破5納米光刻機技術是假的,國產光刻機水平為180納米
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  • 中科院下定決心突破光刻技術 中日擬聯合研發光刻機
    而目前真正掌握高端光刻機的企業只有荷蘭的ASML,它幾乎壟斷了全球14納米以上的高端光刻機市場,特別是7納米以上的光刻機更是100%處於壟斷地位。荷蘭這家國際巨頭ASML公司。目前,全球中荷蘭ASML一家獨大,2019年的市場份額佔比份額達到了75%,尼康和佳能加起來只有19%。
  • 5納米光刻機技術≠5納米光刻機本身
    近日,一則關於中科院攻克5納米光刻機技術的消息在網上傳遍。在這個節骨眼上,一時間在網上討論的沸沸揚揚。許多國人都站出來為中科院喝彩,並對那些付出努力的科學家們表達了敬意。第一、5納米光刻機技術≠5納米光刻機本身。這則消息已經明確把標題亮出來了,上面寫的是「5納米光刻機技術迅速騰飛……」。仔細看這裡明確的說是「5納米光刻機技術」,而不是「5納米光刻機」!一臺5納米的光刻機,裡面包含著成千上萬種大大小小的技術,其中核心技術就是光源技術。這些技術如果難度大的話,哪怕有萬分之一的突破,那也是突破!
  • 12.1虎哥晚報:5納米光刻技術突破ASML壟斷是誤讀;Reno5曝光
    ITU在一份聲明中表示,技術包括3GPP提交的3GPP 5G-SRIT和3GPP 5G-RIT,以及印度電信標準開發協會(TSDSI)提交的5Gi。這些技術被認為「足夠詳細,能夠實現包括漫遊在內的操作和設備的全球兼容性」,並且已被納入ITU無線電通信部門(ITU-R)2020年國際移動通信(IMT-2020)建議的全球標準中。
  • 中科院的5nm光刻技術,和ASML的5nm光刻機是兩碼事
    但重要的是當晶片進入到7nm時,必須要用到EUV光刻機,即紫外線光刻機,波長為19.3nm的光源,這種光刻機只有ASML能夠製造,而中國芯要實現7nm或以下技術,就得看ASML的臉色,要看對方賣不賣EUV光刻機給你。
  • 國產5nm雷射光刻重大突破,網友:再向前邁一大步
    目前臺積電主要的光刻機進口都要依靠荷蘭asml,而高端光刻機,其光源系統的來源就是美方。據有關媒體報導,中科院蘇州所已經發表了關於新型5納米級高精度雷射光刻加工方法,這項技術誕生於蘇州納米技術與納米仿生研究所。這標誌著國產五納米雷射光刻取得重大進展,專家也表示,這完全可能打破西方封鎖,這次中科院又立功了。
  • 再次突破!我國光刻機再創奇蹟,5納米光刻機技術突破
    光刻機對於平常人來說也許是陌生的,然而說到晶片卻是熟悉的,畢竟現代社會人們使用的電腦、智慧型手機、MP4等都使用到晶片,而光刻機就是生產晶片的機器,光刻機技術決定了晶片的性能高低。中國光刻機技術、航空發動機、軸承鋼等一直都是中國被卡脖子的核心技術,為此中科院還成立了攻克小組,當然這個核心技術攻克小組的成立與華為總裁任正非也有一定關係。如今,中國光刻機技術突破,一定程度為華為緩解了危機。
  • 中科院傳來關於「光刻機」的好消息,臺積電、ASML緊急發聲
    只不過只不過是掌握了晶片的技術還不算成功,也將生產晶片的光刻機技術掌握才可以說在行業裡站住了腳跟。 果然,關於光刻機中科院傳來了好消息,未來光刻機技術將成為中科院研發的重點內容,目前已經建立了相關的團隊,正在進行整體的布局
  • 中科院突破5nm雷射光刻,ASML光刻機難替代,華為晶片依然艱辛!
    一個好消息傳來,中科院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘與國家納米中心劉前共同在Nano Letters上發表了一篇研究論文,論文的主要內容是他們所研發的新型5nm高精度雷射光刻加工方法。說到晶片這個問題,一直是我國的弱項,美國也頻繁以此來卡住我國高新企業的脖子。
  • 光刻機!中科院正式宣布後,ASML終於忍不住了
    翻譯一下就是,像光刻機這種被一直被國外進行封鎖的重點技術,將會放在中科院的實驗室內進行重點研究。5nm超高精度雷射光刻技術,在之前,這種高精度的光刻技術一直被國外所掌握,導致5nm的光刻機只有ASML這家公司能製造,而因為美方的制裁,ASML一直拒絕將7nm、5nm這種高精度的光刻機設備賣給中國,導致我國每年在進口晶片上花費了巨額資金,據統計,單單在2019年,中國在進口晶片上就花費了
  • 發表5納米雷射光刻研究後刪文,中科院回應爭議
    不過,這一報導隨後在中科院官網被刪除。消息發出後,迅速引發外界關注,一些媒體稱此技術可以「突破荷蘭光刻機生產企業阿斯麥(ASML)的壟斷」、「中國芯取得重大進展」,「中國不需要極紫外光刻技術(EUV)光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。