（記者 陳洲）這半年來，關於中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。然而，情況真是這樣嗎？
《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。該論文的通訊作者博士生導師劉前特別強調，「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」是一個誤讀，超解析度雷射光刻技術與極紫外光刻技術是兩回事。中科院研發的5nm超高精度雷射光刻加工方法的主要用途是製作光掩模，因為目前國內製作的掩模板主要是中低端的，裝備材料和技術大多來自國外。
消息一出，網友熱情開始冷卻，但此事其實是把雙刃劍，一方面，5nm晶片設備的掣肘依然存在；另一方面，最少說明我們在5nm相關的光刻領域又前進了一步，一口氣吃不成胖子，腳踏實地才能在5G時代打造出100%的國產晶片。
「中科院突破5nm技術」消息引網上熱議
2020年7月以來，一則「中科院突破5nm技術打破EUV光刻機壟斷」的話題刷爆網際網路，相關消息提到，中國科學院的論文中介紹了最新研發的一種「5納米超高精度雷射光刻加工方法」，燃起國內晶片業起飛的希望。連續幾個月，此事都在自媒體上引發的熱議。
該論文於2020年7月發表，隨後在國際知名期刊《納米通訊》（Nano Letters）上刊登。 中科院當時發新聞稿稱：研究團隊針對雷射微納加工中所面臨的實際問題出發，解決高效和高精度之間的固有矛盾，開發的新型微納加工技術在集成電路、光子晶片、微機電系統等眾多微納加工領域展現廣闊的應用前景。
青島大學新聞網於2020年7月10日報導稱，近日，中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘研究員、國家納米中心劉前研究員與青島大學物理科學學院講師夏峰合作，在Nano Letters（《納米快報》）上發表了題為5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography的研究論文，報導了一種新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。蘇州納米所研究生秦亮、黃源清和物理科學學院夏峰為論文共同第一作者。張子暘和劉前為論文的通訊作者。
自媒體上的評論認為，5納米光刻新技術已經實現了突破，接下來只要在設備製造和生產商再次獲得突破，那麼未來可能5納米直刻技術就能夠很好的應用到生產中去了。事實真是如此嗎？
論文通訊作者劉前解釋：這是一個誤讀
據《財經》新媒體12月2日發文稱，2020年7月中科院官網宣布，蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了新型5納米超高精度雷射光刻加工方法。該消息引發外界沸騰，部分媒體稱「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」，「中國不需要EUV光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。
然而，該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前近日表示，外界對此產生了一個誤讀，這一新型5納米技術與極紫外光刻技術是兩回事，極紫外光刻技術解決的主要是光源波長的問題，而中科院研發的5納米超高精度雷射光刻加工方法的主要用途是製作光掩模，光掩模是集成電路光刻製造中不可缺少一個部分，也是限制最小線寬的瓶頸之一。目前，國內製作的掩模板主要是中低端的，裝備材料和技術大多來自國外。如果超高精度雷射光刻加工技術能夠用於高精度掩模板的製造，則有望提高我國掩模板的製造水平，對現有光刻機的晶片的線寬縮小也是十分有益的。這一技術在智慧財產權上是完全自主的，成本可能比現在的還低，具有產業化的前景。但是，即便這一技術實現商用化，要突破荷蘭ASML（阿斯麥）（NASDAQ:ASML）在光刻機上的壟斷，還有很多核心技術需要突破，例如鏡頭的數值孔徑、光源的波長等。並且，極紫外光刻機並非僅靠ASML一家之功，有將近90%的核心零部件來自全球不同企業，ASML通過收購，打通了上遊產業鏈，目前沒有一個國家能夠獨立自主完成光刻機的製造。中國以一國之力，短期內要突破ASML在極紫外光刻技術上的壟斷，幾乎是不可能的事情。
對國內製作5nm晶片能力的誤讀只是把雙刃劍
一席話給之前沸騰的媒體、業內人士、網民們澆了一大盆冷水，如博士生導師劉前所言：ASML製造的極紫外光刻機是通過：2007年100%收購美國的計算光刻公司睿初科技；2013年100%收購美國的曙光光源設備公司西盟科技；2016年100%收購中國臺灣的電子束檢測設備公司漢微科；2016年收購光學鏡頭組公司德國卡爾蔡司24.90%的股份；2019年收購荷蘭的電子束光刻機公司Mapper等操作來完成，想僅憑一國之力從無到有，難！
但是，冷靜細微分析後，其實可以發現，此次我國中科院突破超解析度雷射光刻製備5納米高精度掩模板技術的消息鬧出的烏龍歡呼事件其實是把雙刃劍。如果從不樂觀的角度看，國外對5nm晶片製造設備的壟斷依舊存在，100%國產化路途還比較遙遠，我們不能高興得太早；另一方面，如果樂觀地分析，最少能說明我們在5nm相關的光刻機領域又突破了一項技術，又前進了一步，在該領域的話語權又增加了一定的比例。
所謂「一口氣吃不成胖子」、「羅馬城不是一日建成的」，只有腳踏實地，才有可能在5G高速發展的時代，打造出100%國產的晶片。