ASML光刻機!國產光刻膠龍頭正式宣布,向日本卡脖子技術發起衝擊

2020-12-15 科技故人

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由於設計難度大、製造工藝複雜，晶片被稱為人類工業文明皇冠上的明珠。以目前全球最領先的5納米製程晶片為例，一顆華為麒麟9000晶片裡包含超過100億個電晶體，每個電晶體尺寸只有頭髮絲的1/5000分之一大小，肉眼幾乎不可見，大家可以腦補一下5納米晶片的製造工藝得多複雜！

也正是因為製造工藝越來越複雜，自從晶片進入10納米製程以下之後，越來越多的晶片巨頭宣布放棄自己製造，而是交給專業的晶片代工企業幫忙生產，比如中國臺灣的臺積電、韓國的三星電子、美國的格羅方德、中國大陸的中芯國際等等

目前全球能量產5納米晶片的只有臺積電一家，三星電子初步掌握了5納米晶片的技術但是達不到量產的水平，美國這邊晶片製造技術最強的是英特爾，不過英特爾現在連7納米晶片的量產問題都沒解決，總之一句話，越是晶片製程越小，越難製造，即便是美國企業，也是一樣沒轍！

雖然美國的晶片製造技術全面落後臺積電和三星電子，但是美國在光刻機的光源、晶片半導體材料、晶片IP架構、晶片設計用的EDA軟體這四個方面仍然具有全球性的壟斷性地位，這也是美國可以「挾天子以令諸侯」地封禁華為晶片的根本原因

晶片製造過程中有三個最重要的核心設備：光刻機、蝕刻機、薄膜沉積設備，其中我國的中微半導體早在2018年就研發成功了世界首臺5納米等離子蝕刻機，目前已經應用於臺積電的5納米晶片生產線；中微半導體在薄膜沉積設備也有很強的技術積累，基本可以避免被卡脖子

所以，目前中國半導體產業最急需突破的就是光刻機，不過光刻機其實不是一個單獨的設備，而是要跟一些高端化學材料配合才能完成光刻過程，其中最重要的一種材料叫光刻膠，如果沒有高端光刻膠，即使把荷蘭ASML最高端的EUV光刻機給我們，我們也生產不出來5納米晶片

大家平常沒有聽說過被光刻膠卡脖子，是因為日本是光刻膠領域的絕對老大，全球前5的光刻膠公司有四家都是日本公司，但是如果我國想完全實現晶片的100%國產化，光刻膠是不得不邁過去的火焰山

除了光刻膠以外，晶片製造所需的19種必備材料中，日本在其中的14種材料領域佔據超過50%的市場份額，是絕對的晶片製造材料一哥，去年日韓矛盾期間，日本就對韓國實施了三款半導體材料的出口限制，這三款材料日本霸佔著全球70%~90%的市場，具有絕對的話語權，最終打的韓國秒舉白旗！

我國其實也有生產光刻膠的企業，其中江蘇的晶瑞股份是代表性的龍頭企業，只不過由於起步較晚，目前只能生產較為低端的光刻膠，無法滿足14納米以下晶片的製造

為了避免以後出現被日本光刻膠「卡脖子」的情況，近日晶瑞股份正式宣布了大動作：將以1102.5萬美元的價格購買一臺ASML光刻機，向高端光刻膠技術正式發起衝擊！

這次購買的荷蘭的ASML光刻機雖然不是最高端的極紫外光刻機EUV，但是也屬於高端光刻機系列，主要用作晶瑞股份研究高端光刻膠的實驗儀器，只有經過ASML的高端光刻機試驗過，才能正在掌握高端光刻膠的製造技術

「終於懂得提前布局了！」有業內人士評論，看來被光刻機卡脖子的痛徹底讓中國晶片產業覺醒了，一定要提前布局，雖然現在日本的半導體企業對中國公司比較友好，但不代表永遠會這樣，畢竟這個世界上沒有永遠的朋友，只有永遠的利益！

加油吧，晶瑞股份，加油吧，中國半導體！

大家覺得日本以後可能會用光刻膠卡我們脖子嗎？

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  • 光刻膠發展史
    天時地利俱備的情況下， 日本 KrF 光刻膠迅速放量佔據市場，光刻膠市場也正式進入了日本廠商的霸主時代。 由於性能優異（主要因為光源強度高，使其每小時晶圓加工量具備優勢），尼康在步進式光刻機的銷 量、銷售額 1984 年就追平了 GCA 並在 1985 年實現反超。由於在 i 線光刻技術上的落後，日本廠商集中精力研 發下一代 KrF 光刻機試圖彎道超車，並最終在 1988 年實現了 KrF 步進式光刻機的銷售，此時美國龍頭廠商還在 1986 年大滑坡的重創中無法自拔。
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  • 國產光刻機背後的希望 - 光刻機,上海微電子 - IT之家
    國產光刻機的研發進程，似乎越發 「撲朔迷離」。今年六月份有消息傳出，國產光刻機龍頭上海微電子將在一年內交付用於 28nm 製程生產的 193nm ArF 光刻機。另外，據方正證券今年發布的相關研報，國家 02 專項光刻機項目二期曾設定，擬於 2020 年 12 月驗收由上海微電子設計集成的 193nm ArF 浸沒式 DUV 光刻機。這一技術突破無疑極具重要意義。要知道，此前上海微電子能量產的最先進光刻機，已被卡在 90nm 製程上四年之久。
  • 國產光刻機背後的希望
    儘管如此，提起中國可量產的光刻機已被卡在90nm製程4年，這個時間跨度仍令人心驚。2007年，中國光刻機龍頭企業上海微電子宣布突破365nm光波長的DUV光刻技術，該技術可用於90nm2016年，上海微電子SSX600系列的三款步進掃描投影光刻機實現量產，其中SSA600/20光刻機解析度達到90nm。從2007國產光刻技術突破90nm解析度至今，國產玩家十三年磨一劍。其間， 儘管國產光刻機玩家不斷探索，但始終未實現更先進光刻機的量產。
  • 華為要進軍光刻機領域？從全球光刻機的發展來看中國光刻機的現狀
    荷蘭ASML公司為保證其高端光刻機的先進性，在整個光刻機的不同部位同時使用了世界上最尖端的技術，ASML光刻機中超過90%的零件都是向外採購的，因此，ASML在技術研發方面匯聚了世界最前沿最頂尖的科技。ASML的一些重要部件來自世界很多國家，比如德國向ASML提供一些核心的機械配件和蔡司鏡片支持，美國為ASML提供光源及計量設備的支持。
  • 在EUV光刻技術上，日本公司壟斷了光刻膠的供應
    雖然將會有更多用於EUV光刻的光刻膠製造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。
  • 半導體光刻機行業深度報告:復盤ASML,探尋本土光刻產業投資機會
    配套 光刻氣體方面，美國空氣化工產品（APD）、英國林德集團均有相應布局，日本合成橡膠(JSR)、 東京應化、信越化學和富士膠片等日本企業則統治了光刻膠市場，僅有美國杜邦公司有一定 競爭力，其中東京應化已實現極紫外光刻膠量產，日本合成橡膠紫外光刻膠即將量產。配套 設備方面，光刻工序中的塗膠顯影設備主要被日本東京電子、DNS、德國蘇斯微和臺灣億力 鑫 ELS 佔據。
  • 俄羅斯能購買荷蘭asml高端光刻機嗎?
    光刻機主要用來生產晶片的，目前世界上最高端的光刻機是荷蘭asml公司生產的，從市場份額上來說asml就佔世界市場80%的份額。光刻機在一個國家的晶片產業中佔據絕對上遊位置，屬於高端生產設備，因此光刻機的生產出口是受到《瓦森納協定》的監督與控制。
  • 華為被卡脖子的不止光刻機，這項技術離不開日美，研發難度大
    華為被卡脖子的不止光刻機，這項技術離不開日美，研發難度大就在幾乎所有人的目光都放在華為能否在晶片領域突破美國限制封鎖的時候，我們不要忘了，在智慧型手機領域，我們缺少的核心技術可不僅僅只有高端晶片這一個領域。
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    請看，今天的華為要被卡脖子，要命的光刻機行業壟斷程度有多高？一、光刻機行業研究綜述（一）光刻機定義與分類1．這將帶動國產半導體設備的需求增長，為國產光刻機的發展提供了良好的機會。據了解，光刻機、晶片的應用材料(55, -0.12, -0.22%)都掌握在日本、美國人手中。比如，光刻機有一種核心材料較光刻膠，幾乎被日本廠商壟斷，即便中國晶片產業鏈有企業生產出光刻機，但如果沒有光刻膠，也造不出來光刻機。