【8月28日訊】相信大家都知道，自從中興、華為等中國高新科技企業相繼被列入到「實體清單」以後，國產晶片產業發展就受到了廣大網友們高度關注，尤其是在晶片製造領域，國家更是在優惠政策、資金扶持、人才培養等各方面，給予了最大的支持，尤其是在關鍵的晶片製造設備—光刻機技術上，一直都被荷蘭ASML所掌控，而國內光刻機設備也一直未能夠取得技術突破，導致國內晶片製造企業一直受到「光刻機」卡脖子影響，所以在晶片製造方面才能夠受到眾多網友們高度關注，那麼我們的國產光刻機設備和ASML光刻機設備到底有多大的差距呢？
近日，臺積電方面已經宣布：「5nm晶片已經全面量產，並且3nm、4nm晶片工藝已經被提上了量產日程，預計在明年可以實現4nm晶片量產，在2022年下半年就可以實現3nm晶片量產」，這也意味著臺積電目前已經擁有了頂尖的3nm光刻機設備；而國內最頂尖的光刻機設備製造廠商—上海微電子，目前已經能夠實現晶片量產的光刻機水平為90nm，雖然國內擁有巨大的市場份額，但只能夠用於低端晶片生產製造，而此前國內就有媒體曾曝光，預計在2021年，上海微電子可以交付國內首臺28nm浸潤式光刻機設備，在經過多重曝光以後，可以實現7nm晶片量產，此前臺積電就直接使用DUV光刻機將晶片工藝推進到7nm節點，就是基於多重曝光、、光刻膠的選擇性吸收，基於EDA的解析度增強技術等相關，具體如何實現這裡小編也不再贅述，當然由於缺乏EUV光刻機設備，所以無法進一步生產4nm、5nm晶片產品，這也意味著在明年，我們的國產光刻機設備雖然和ASML光刻機設備依舊還有著近2代技術差距，但也可以正式跨入到世界主流頂尖水準行列；
為何我們的國產光刻機一直處於落後水準呢？
雖然我們目前也有了國產光刻機設備，但目前只能夠生產低端的90nm晶片產品，反觀荷蘭ASML公司所生產的光刻機設備，已經可以量產5nm晶片產品了，也是全球唯一一家可以生產製造EUV光刻機的廠商，為何有如此巨大的差距呢？
很大程度上也是因為ASML公司起步較早，在1984年就已經開始從事光刻機設備研發，而我們的上海微電子在2002年才開始進入到光刻機領域，相對於荷蘭ASML公司更是晚了將近20年時間，所以在技術方面處於落後態勢，也是可以理解，雖然目前上海微電子的90nm和荷蘭ASML 5nm之間有著很大的技術差距，但是在明年，上海微電子可以交付28nm光刻機設備，能夠量產7nm晶片產品，與荷蘭ASML公司的4nm晶片相比，這意味著批次之間，僅剩下兩代工藝的差距。當然這臺28nm國產光刻機設備誕生，對於我們而言意義也是非常重大，因為他助力我們國內的晶片企業生產純國產7nm、10nm晶片產品，跨入到高端晶片行列，以滿足國內高端晶片製造的需求；
最後：各位小夥伴們，你們覺得未來我們的國產光刻機是否可以媲美荷蘭ASML光刻機設備呢？歡迎在評論區中留言討論，期待你們的精彩評論！