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中科院緊急闢謠，國產5納米晶片指日可待？國產水平僅為180nm
由於華為事件，有越來越多的人關注起國產晶片製造產業，期待著國產晶片的最新進展。
但在晶片的製造過程中，光刻機作為核心設備的存在，我國卻遲遲沒有進一步的突破。
根據國內相關媒體的爆料：國產最先進的光刻機產品，是來自於上海微電子裝備有限公司，預計將在2021年底之前，對外交付首臺28納米的光刻機。
為了解決晶片的製造問題，業內傳聞華為正在計劃自己進軍晶片製造產業。通過自主的晶片製造流程設計，來解決晶片製造環節被卡脖子的局面。
國產5納米晶片指日可待？
而在今年的七月份，中科院網站曾刊登過一篇，關於國產5納米雷射光刻技術的文章，這也被很多媒體解讀為，國產光刻機已經向5納米領域邁進了一大步。
但在近日，中科院研究員劉前對外界緊急闢謠，中科院研發的5nm光刻技術與高端光刻機所採用的EUV（極紫外光刻）技術是兩碼事。主要用於製作光掩模，而並不是對集成電路進行光刻。
這也就意味著，距離5納米晶片的製造，我們仍舊需要很長的時間進行追趕。但好的是，中低端晶片的國產化已經開始，有更多的國產IP晶片將會問世。
國產水平僅為180nm
同時，中科院發布的數據也顯示，目前，中國晶片製造的國產平均水平只有180nm。比起「卡脖子」的高端晶片產品，我們更應該注重成熟工藝下的晶片製造。
根據IC Insights發布的數據來看，10納米以上的晶片製造技術，佔據了全球晶圓市場的70%左右，只有30%左右的晶圓，是提供給先進位程技術進行使用的。
中國工程院院士倪光南也曾表態：除智慧型手機以外，大多數的科技產品，採用28納米的晶片技術，其實就已經能夠滿足使用需求了。
目前，國內晶片產業並不是造不出來高端晶片，比如中芯的N+1工藝下，已經可以對7納米左右的晶片進行加工。
但卻根本無法創造營收，由於晶片加工的良品率等綜合因素，大規模投入商用那就是在虧錢。
從國產晶片目前平均水平，為180nm這一數據來看。我們更應該將成熟晶片的科研工作放在第一位，打好自己的基礎之後，再想著蓋高樓。
試想一下，同樣的資金被投入半導體產業用於科研，14納米技術所遇到的問題，可能會迎刃而解。
但跳過14納米去研發5納米技術，不僅很難成功，即便勉強成功了之後。
在短期內也很難創造出營收，「夯實基礎」才是眼下國內半導體產業最需要做的事情。
寫在最後
現如今，不僅僅是華為一家企業進入半導體產業，更多的企業開始向晶片產業進行轉型。大量的資金投入進來之後，晶片技術突破的速度也會加快。
我們需要給予國內半導體企業時間，不能一上來就「5納米」「7納米」的吆喝，畢竟28納米和14納米晶片目前還有很多問題沒有解決。
未來，在越來越多的科研人員和資金的投入之下，相信再難的技術都會被攻克，光刻機也不例外。只有腳踏實地，才不會被投機分子有了可乘之機。
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