飛凱材料:公司I-Line半導體光刻膠處於送樣檢測階段

2021-01-07 東方財富網

原標題：[路演]飛凱材料：公司I-Line半導體光刻膠處於送樣檢測階段

　　飛凱材料(300398)可轉債發行網上路演周四在全景網舉行。飛凱材料董事會秘書、投資總監曹松表示，目前公司I-Line半導體光刻膠還處於送樣檢測階段，相關驗證工作正在有序推進中。另外由於半導體光刻膠的種類多，各個客戶的測試要求和流程也有不同，因此半導體光刻膠送測驗證的時間暫不能確定。但公司一直與客戶保持溝通，及時根據客戶的反饋進行相應調整，力求儘早通過順利投產。

（文章來源：全景網）

(責任編輯：DF537)

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  • 飛凱材料:公司i-line半導體光刻膠實驗室階段產品即將為客戶送樣驗證
    集微網消息 6月1日，飛凱材料在接受投資者提問時表示，公司TFT-LCD正性光刻膠目前處於試生產過程中，且近期出貨量也在穩步提升。另外，公司i-line半導體光刻膠實驗室階段產品正在做客戶送樣驗證前的準備工作。
  • ...材料:公司i-line半導體光刻膠實驗室階段產品即將為客戶送樣驗證
    飛凱材料：公司i-line半導體光刻膠實驗室階段產品即將為客戶送樣驗證
  • ...line半導體光刻膠實驗室階段產品正在做客戶送樣驗證前的準備工作
    同花順金融研究中心6月1日訊，有投資者向飛凱材料提問， 據傳，飛凱材料的 TFT 陣列正性光刻膠正在行業重要客戶進行小批驗證，截至目前為止，已經出貨數十噸。2020 年全年，飛凱材料預期將在該客戶銷售數百噸TFT陣列正性膠。同時，飛凱材料還在積極策劃打入更多主流面板生產廠。
  • 半導體國產化投資機會系列二:光刻膠,半導體製程關鍵材料
    本文將會為大家介紹半導體製程中最為關鍵材料，光刻膠。2019年下半年，日本限制對韓國的半導體的相關原材料的出口，其中包括了最重要的就是光刻膠。韓國是全球最大的半導體生產國之一，三星、SK海力士兩家公司就控制了全球超過50%的快閃記憶體、超過75%的內存生產，大量進口日本的原材料，日本政府希望用這些公司卡韓國脖子。
  • 「芯布局」光刻膠國產化進行時,誰能躍居龍頭率先領航?
    我國半導體領域的g線、i線光刻膠基本可以滿足自給自足，並在逐步提升供應量，兩者主要用於6英寸晶圓的集成電路製造。KrF（用於8英寸晶圓）和ArF光刻膠（用於12英寸晶圓）被日本、美國企業壟斷。我國的對於高端的KrF、ArF光刻膠，幾乎全部依賴進口，國產化率存在極大的提升空間。但KrF光刻膠也具備批量供應的條件；ArF光刻膠尚處於下遊認證階段；國際上最先進的EUV光刻膠國內尚處初級研發階段。
  • 光刻膠:半導體製程關鍵材料
    在EUV光刻膠方面，具備專利布局的前十大企業中，日本公司佔有七席，並且富士膠片、信越化學、住友化學排名前三位，其專利申請數量大幅領先其他公司，體現日本在EUV光刻膠領域具備十分明顯的技術優勢。光刻膠按應用領域分類，大致分為LCD光刻膠、PCB光刻膠（感光油墨）與半導體光刻膠等。
  • 日企長期壟斷半導體光刻膠 突破「卡脖子」技術箭在弦上
    據了解，低端的g/i-line光刻膠佔總的半導體光刻膠市場份額31%，高端的KrF、ArF-i光刻膠的市場份額最大，達到45%，基本是被日本的企業壟斷。　　以ArF光刻膠產品為代表的先進光刻膠以及工藝的主要技術和專利都掌握在國外的企業與研究部門，如日本的信越化學、合成橡膠、東京應化、住友化學、富士膠片和美國陶氏，其中尤其是日本企業，佔有率極高。
  • 光刻膠概念大漲:四部門發文強力推動 這些領域標的有望受益
    來源：中國證券報-中證網9月23日午後，光刻膠概念直線拉升，截至收盤，Wind光刻膠指數上漲3.48%，飛凱材料漲7.73%、廣信材料漲6.17%、容大感光漲4.22%，南大光電、晶瑞股份、雅克科技、上海新陽等多個公司也有不同程度跟漲。
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    來源：中國證券報作者： 楊潔 9月23日午後，光刻膠概念直線拉升，截至收盤，Wind光刻膠指數上漲3.48%，飛凱材料漲7.73%、廣信材料漲6.17%、容大感光漲4.22%，南大光電、晶瑞股份、雅克科技、上海新陽等多個公司也有不同程度跟漲。
  • 光刻膠國產化正當時 相關企業有望迎來快速發展
    據前瞻產業研究院，2011-2017年，國內光刻膠需求複合增速達14.69%，至2017年底已達7.99萬噸；國內光刻膠市場規模複合增速達11.59%，至2017年底已達58.7億元。3、半導體光刻膠持續增長，國產廠商持續發力。伴隨著全球半導體行業的快速發展，全球半導體光刻膠市場持續增長。
  • 半導體光刻膠國產化替代，任重而道遠
    EUV 光刻膠、ArF 光刻膠、KrF 光刻膠及 G 線、i 線光刻膠。由於在研發光刻膠的過程中需要有對應光刻機的支持，規模量產後需要在光刻機上不斷調試。而先進光刻機價格昂貴，國內半導體材料公司難以承受，目前高端光刻膠基本被日本及歐美壟斷，國內半導體光刻膠主要集中在低端的g線、i 線光刻膠。
  • 用通俗的話講明白半導體光刻膠產業情況
    中國的光刻膠技術和美日有2-3代差距，國產光刻膠目前還只是用於一些低端領域，比如PCB光刻膠，國產替代率接近一半；但在半導體領域，尤其是ArF和KrF光刻膠，就幾乎全靠進口。 所以說，光刻膠，可能是所有半導體材料中最容易被卡脖子的那個環節。
  • 半導體材料大突破！首隻國產ArF光刻膠通過驗證
    資料顯示，光刻膠是半導體光刻工藝的核心材料，決定了半導體圖形工藝的精密程度和良率，其質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。與此相對的，作為高精尖的半導體製造核心材料，由於技術壁壘和客戶壁壘高，全球半導體光刻膠市場集中度高，市場被美日公司長期壟斷。
  • 一個讓韓國喝了一壺的產業 光刻膠國產替代龍頭戰略配置時機來臨
    以面板材料為基礎切入面板光刻膠領域，並計劃向半導體光刻膠領域擴展：晶瑞股份（300655）、容大感光（300576）、飛凱材料（300398）等。光刻膠領域優秀的非上市公司：北京科華微，北旭電子，江蘇博硯，中電彩虹等。
  • 中國半導體光刻膠迎時代新機遇
    其主要目的是蒸發光刻膠中的溶劑，提高抗刻蝕和抗離子注入性，提高光刻膠的粘附性，聚合化並穩定光刻膠以及光刻膠流動填平針孔。最後進行顯影檢測後，進行下一步刻蝕或者離子注入工藝。根據前瞻產業研究院整理統計，2019 年 g/i 線光刻膠市場上，來自日本的 TOK、JSR、住友化學和富士膠片分別佔據 26%、15%、15%、8%的份額，總計達到 64%的全球 g 線和 i 線光刻膠市場份額。而來自美國的陶氏化學、韓國的東進半導體和其他公司分別佔據 18%、13%和 5%的市場份額。
  • 半導體光刻膠行業專題報告:國產半導體光刻膠迎發展良機
    光刻是半導體製造微圖形工藝的核心，光刻膠是關鍵材料光刻膠是光刻工藝中最關鍵材料，國產替代需求緊迫。光刻工藝是指在光照作用下，藉助 光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術，在半導體製造領域，隨著集成電路線寬縮 小、集成度大為提升，光刻工藝技術難度大幅提升，成為延續摩爾定律的關鍵技術之一。
  • 90%市場被國外壟斷，半導體材料光刻膠為何如此重要？
    所以光刻膠是至關重要的。按照曝光波長分類，光刻膠可分為 ：UV: i/g型光刻膠，也就是波長大於300nm。DUV: KrF型光刻膠，也就是波長248nm, 和ArF型光刻膠，也就是波長193nm。極紫外: EUV光刻膠，也就是波長進一步降低至28納米以下。
  • 一文看懂光刻膠
    ；主要使用g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠等。由此，曝光過的光刻膠會溶解於顯影液而被去除，而未曝光的光刻膠部分則得以保留。雖然g-line光刻膠和i-line 光刻膠使用的成分類似，但是其樹脂和感光劑在微觀結構上均有變化，因而具有不同的解析度。G-line光刻膠適用於0.5um(500nm)以上尺寸的集成電路製作，而i-line光刻膠使用於0.35um（350nm至0.5um（500nm）尺寸的集成電路製作。
  • 光刻膠漲勢喜人,發展任重道遠(附個股解析)
    縱觀全球半導體光刻膠市場，份額基本被日本廠商佔據，截至到2018年，日本廠商在全球光刻膠市場市佔率約為70%。而高端光刻膠局面更甚，目前基本被歐洲和日本壟斷。國內光刻膠主要集中在PCB光刻膠，約佔國內光刻膠市場的94%，半導體光刻膠生產規模仍然較小，僅在2%左右，且主要集中在技術水平相對較低的g線和i線半導體光刻膠領域，我國光刻膠發展任重道遠。