李楠詳解為什麼網上有人說造EUV光刻機比核彈難

2020-11-17 愛集微APP

集微網11月17日消息,在知乎上有人提了這麼一個問題:「為什麼網上有人說造EUV光刻機比核彈難?」對此,魅族前高級副總裁、現Angry Miao創始人李楠發表長文作了解答。

圖片來源:微博

李楠稱造EUV光刻機比核彈難。因為核彈的所有研發體系,本來就是基本以國家為單位獨立完成的,很少開始國際協作。

但是不要忘了過去幾十年的國際環境:全球分工、全球協作、全球市場。光刻機是在這個環境下,由多個國家,經過多年投入和競爭,共同努力研發出來的科技成果,同時通過全球市場分擔巨大的研發投入。

而因為在那個環境下並不擔心封鎖,所以中國長期以來並沒有跟進這項技術的進展(其實28納米製程的相關設備不是特別值錢了)。相關的中國企業,很可能也還處在不被理解的狀態:

認為已經可以買到這麼廉價的先進晶片,自己搞是浪費錢;認為這些東西市場上需要持續賠錢,投入不合理;認為荷蘭的產品,美國、中國、日本有錢都可以買。

而和幾十年的緯度比較,可以認為幾乎一夜之間,封鎖就成為現實。也在幾乎一夜之前,發現這個世界還是有兩個世界需要站隊的。

這等於是長期開進口汽車習慣了,結果製造摩託車,自行車,甚至步行的能力都扔掉了。突然有一天汽車的進口被限制了,一下子就突然退化到需要步行和製造自行車的階段了。

如果汽車時代,留一個心眼,儲備一些自行車或者摩託車的設計和生產能力,其實並不貴也不難。但是一下子要求造出汽車來,就很難了。等於是把全球多個國家通過全球市場分攤的研發費用,研發團隊,和失去的時間,全部都自己獨立趕回來。

李楠表示所以不要想著5納米,我們先搞定28納米,能騎上摩託車,也就不太慌了。那什麼7納米、5納米,都是遲早的事情。

(校對/零叄)

相關焦點

  • 魅族前副總裁李楠發聲:為什麼造EUV光刻機,比造核彈還難?
    光刻機研發頗高的技術門檻,制約中國光刻機發展的重要因素。有人將光刻機稱之為「人類最精密複雜的機器」。甚至有人表示,光刻機的製造難度,比原子彈還高。對於這一觀點,有不少網友表示質疑,中國在一窮二白之時能夠造出原子彈,如今卻被光刻機難住?
  • euv 光刻機技術有技術儲備,為什麼
    隨著華為「塔山計劃」 的推出,國內euv光刻機技術也呼之欲出;今年國家對晶片領域巨大的投入,相信通過國家和華為的科研技術的整合和投入這些問題會迎刃而解;光刻機的關鍵部件,光源,透鏡,能量控制器等等,其中光源技術最好的屬於美國,透鏡主要是德國的蔡司鏡頭,可以講光刻機是人類科技集成的結晶,而且歐美專門籤署了一個《瓦森納協定》針對中國的武器以及高科技的技術等。
  • 同樣是造7納米晶片,為什麼EUV光刻機比DUV光刻機貴一倍?
    光刻機作為生產製造半導體晶片的關鍵設備,其技術和先進程度直接影響著晶片的工藝和性能,比如說目前非常熱門的7nm級晶片,臺積電和三星基本都採用ASML生產的EUV光刻機來製造,產能也開始趨於穩定,然而,很多人可能認為想要造7nm晶片就只能靠EUV光刻機,其實使用傳統的DUV光刻機也是可以製造的
  • 同樣可以造7納米晶片,為什麼EUV光刻機比DUV光刻機貴一倍?
    光刻機作為生產製造半導體晶片的關鍵設備,其技術和先進程度直接影響著晶片的工藝和性能,比如說目前非常熱門的7nm級晶片,臺積電和三星基本都採用ASML生產的EUV光刻機來製造,產能也開始趨於穩定,然而,很多人可能認為想要造7nm晶片就只能靠EUV光刻機,其實使用傳統的DUV光刻機也是可以製造的。
  • 原子彈我們都造出來了,為什麼造不出光刻機,造出光刻機有多難?
    為什麼我們造不出光刻機想當年我們國家在那麼困難的條件下,把原子彈氫彈都造出來了,而現在條件好了,為什麼造不出光刻機呢?造出光刻機到底有多難?據悉,目前全世界僅有少數幾家公司可以製造光刻機,其售價高達7000萬美元左右,而組成一臺頂級光刻機的零部件就有10萬多個,並且這些零件來自全球各地的零部件生產商,而其核心零件來自歐美等發達國家。
  • 華為要自己做光刻機了嗎?大家怎麼看?
    有消息稱,華為正在招聘"光刻工藝工程師"。聯想到華為自己設計的晶片被臺積電拒絕代工。而國內的中芯國際又因為沒有最新的euv紫外線 7納米光刻機無法為華為代工。這不得不讓人懷疑,華為是不是要自己生產最先進的光刻機。
  • 屢屢被荷蘭光刻機卡「脖子」?為什麼中國難以復刻世界頂級EUV光刻機?
    近日,受全球性新冠疫情影響,歐洲各國自顧不暇,先有義大利、西班牙相繼淪陷,後有英國、丹麥、瑞典「放棄治療」,如今,手握世界頂級晶片光刻機的荷蘭,在疫情面前也不得不低頭。要知道,中國向荷蘭申請高價進口光刻機已久,目前也只有中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機順利進入廠區,華為、中興等一些高科技研發企業始終沒能如願拿到這臺「神器」。
  • 高端光刻機有多難?給圖紙都造不出來,有人一個零件調了10年?
    大家好,我是王科技原子彈難造嗎?難,但是也被我們造出來了,光刻機難嗎?難,到了現在都沒造出高端光刻機。我們對光刻機有多渴望?中科院發布5nm雷射光刻技術也能被傳成&34;;網上隨便爆一張光刻機師招聘圖都在傳華為要進軍光刻機;甚至還有華為2萬人閉關10年,只為光刻機。諸如此類的小道消息多不勝數,有點風吹草動就有人想問個究竟。
  • 內存顆粒越發先進:三星用上10億一臺的EUV光刻機打造
    繼SK海力士宣布在M14和在建的M16工廠都引入EUV光刻機之後,三星也坐不住了。據三星介紹,自2014年以來,EUV光刻機參與的晶圓已超過400萬片,公司積累了豐富的經驗,比其他廠商掌握了更多的訣竅,領先對手一兩年。
  • 國產光刻機裡程碑突破,中國將成全球第二個規模生產光刻機的國家
    1、國產光刻機量產已經到了90nm,今年年底或者明年,會量產28nm光刻機。2、目前90nm國產光刻機對於解決華為如今遭遇的困局,沒有太大的幫助,因為華為現在面臨的是手機上需要的7nm和5nm這兩代最先進的工藝的需求被美國政府定點打壓的難題,去A化要考慮這些。
  • 全世界就兩個國家掌握,光刻機為什麼這麼難造?
    很遺憾,但是事實就是如此,高端晶片,不但華為現在還造不出來,國內也很少有企業的製造水平能達到這種地步,最關鍵的原因就是,我國在半導體領域的技術還不夠高,還沒有達到那個高度,所以沒有條件建造出精度更高光刻機,而如果沒有光刻機的話,就完全沒有辦法造出符合條件的高端晶片。
  • 高端光刻機突圍的最大底牌:國產光刻機產業鏈
    要想擺脫晶片被美國卡脖子的命運,就必須得在設備尤其是EUV光刻機上取得突破。那麼我們能夠突破EUV光刻機技術嗎?答案是,不但能,而且在突破之後我們還能夠建立一條完全獨立自主、完整的光刻機的產業鏈。國產光刻機與ASMLEUV光刻機的差距。
  • EUV光刻機製造究竟有多難,全球只有ASML才能造?
    眾所周知,當晶片工藝邁入7nm之後,就會用到一種光刻機,那就是EUV光刻機,也就是極紫外一光刻機,但這種光刻機目前只有荷蘭的ASML才能造。那麼問題就來了,EUV光刻機的製造的難點究竟是什麼,為何只有ASML能造,像佳能、尼康、中國的上海微電子都不能製造?
  • 詳解高端光刻機技術壟斷,量子晶片真的可行?
    要想製造高精度的晶片,必須要有高精度的光刻機。而光刻機的原理就像是洗照片,不同的是,洗照片是將小的底片放大,而光刻機是將大的電路圖縮印到小小的晶圓上。理論上原理並不困難,那為什麼門檻如此之高,以至於全球除了阿斯曼能夠造出5nm工藝的光刻機,而中國的中芯國際目前只能造出90nm工藝的光刻機呢?
  • 什麼是EUV光刻機?為什麼大家都在追求它?
    這批文章中我們已經介紹過晶片是怎麼造出來的了,紫外線曝光是其中一步,而這個步驟就是由光刻機所執行的,它是晶片生產的核心,也是這個步驟決定了晶片的製程工藝。而光刻的工作原理,大家可以想像一下膠片照片的衝洗,掩膜版就相當於膠片,而光刻機就是衝洗臺,它把掩膜版上的晶片電路一個個的複製到光刻膠薄膜上,然後通過刻蝕技術把電路「畫」在晶圓上。
  • 臺積電創始人張忠謀:中國舉國之力也難造光刻機!為什麼這麼說?
    對我們生活影響最大的應該就是智慧型手機了,可以說現代生活的便利大半都是源自於智慧型手機。今年也是一個不平凡的一年,我想大家都知道,我國華為因為5G方面的突破,再加上近些年實力猛增,觸碰到某些人的利益,於是就開始打壓華為。這兩年華為在晶片自主研發技術上面已經突破了美國的封鎖,這更是讓美國脆弱的神經變得更加敏感。
  • 臺積電創始人張忠謀:中國舉國之力也難造光刻機!為什麼這麼說?
    對我們生活影響最大的應該就是智慧型手機了,可以說現代生活的便利大半都是源自於智慧型手機。 但是中國的光刻機技術還差的很遠興許有很多網友會問,為什麼美國能讓荷蘭的光刻機生產商不賣頂級光刻機給中國。其實是這樣的,因為光刻機的核心技術大多都是美國科技企業的專利。
  • 華為+中科院攻關EUV光刻機?ASML華裔工程師:天方夜譚
    比如中科院長春光機所在光刻機所需的透鏡及曝光系統上早已有突破,而最新的消息也顯示,長春光機所在實驗室已經搭建出了一套EUV光源設備。那麼,華為攜手中科院,能夠在EUV光刻機上實現突破嗎?對於中國光刻機未來的發展,近日一位自稱是ASML華裔工程師的網友在網上發表了自己的看法。
  • ASML官宣,光刻機將捅破「摩爾定律」極限,EUV有望出口國內
    晶片瓶頸晶片為什麼會這麼難製造呢?其實不過是因為晶片製造業不僅僅投資高,技術門檻高,關鍵是收益還非常慢,這就讓很多企業都難以承受這樣的過程,所以乾脆選擇放棄。在集上,晶片製造過程中,最為重要的就是光刻機,光刻機的先進位度直接決定了晶片製程的先進程度,就比如說,DUV光刻機能夠生產7納米以上製程的晶片,而EUV則能夠審查和年出7納米一下的晶片。
  • 50臺EUV光刻機,臺積電遠超三星,沒EUV也能造7nm晶片
    50臺EUV光刻機,臺積電遠超三星,沒EUV也能造7nm晶片!因此臺積電大量訂購了ASML的EUV光刻機,據臺媒消息,到2021年底臺積電將擁有超過50臺EUV光刻機!而三星至2021年僅有不到25臺,臺積電擁有的EUV光刻機遠超三星。