荷蘭阿斯麥1納米光刻機將要問世,單價再創新高,臺積電成最大贏家

2020-12-14 騰訊網

華為晶片被禁，將光刻機再次拉入消費者的視野中。作為生產晶片的關鍵機器，光刻機的技術極為複雜，尤其是生產5nm以及以上的高端晶片，EUV光刻機必不可少。而華為之所以會被卡脖子，就是因為華為設計的高端晶片國內沒有高端光科技可以生產製造。

而阿斯麥雖然貴為荷蘭公司，但是實際控股人以及背後的科研團隊都被美國所掌握，所以至今為止我們仍未買到一臺高端光刻機。所以說解決華為晶片問題的實質就是解決光刻機的問題。

目前荷蘭的EUV光刻機最高可以生產5nm晶片，而現在市面上主流的晶片最高工藝也只有5nm，因此荷蘭光刻機一機難求，成為了各個半導體公司急需的物品。

而臺積電作為阿斯麥最忠實的用戶，因為產能巨大，因此備受阿斯麥的青睞。但是就在全球還在量產5nm晶片的時候，荷蘭阿斯麥爆出巨雷，1nm光刻機已經完成設計。據報導稱，歐洲微電子研究中心的IMEC執行長在演講中表示，在與荷蘭阿斯麥的合作下，更加先進的光刻機已經取得了重大進展。

因為阿斯麥掌握著全球先進光科技的產能與相關技術，而IMEC一直在與ASML研究更高工藝的光刻機，據相關介紹得知，1nm光刻機設備將會在2022年問世，而1nm高端光刻機 將會首次出口給臺積電和三星，而價格也會成倍的增長。

而目前臺積電在3nm以及1nm晶片的設計上已經取得了重大發展，據臺積電估計，2023年臺積電3nm晶片將要問世。到時候，臺積電會成為第一批用上1nm光刻機的企業，而憑藉著著自身的成熟工藝以及先進技術，臺積電將會成為晶片製造領域的巨無霸，遠遠甩開三星帝國。

對於我國半導體來說，是機遇也是挑戰。如果能夠加快光刻機的發展，相信未來將會徹底解決晶片卡脖子的問題。

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