隨著國內科學技術的發展，真空鍍膜這項技術已經逐漸廣為群眾所認知，常見的真空鍍膜技術有很多，比如濺射鍍膜、真空蒸發鍍膜等。雖然說一些國外的真空鍍膜技術是值得肯定的，但目前我國國內的一些新的真空蒸發鍍膜設備生產商進步不得不說是飛快的，著實讓人眼前一亮。
真空鍍膜技術中常用到的有濺射鍍膜、真空蒸發鍍膜等。目前看來，我國的真空鍍膜技術中，蒸發鍍膜工藝比濺射鍍膜工藝更成熟一些。
當然，也不是說濺射真空鍍膜就比真空蒸發鍍膜差。蒸發鍍膜，顧名思義就是要用到高溫蒸發的，那麼意味著它並不適合用在一些熔點較高的材料中，比如鉬、鎢等。因為這些材料有較高的熔點，導致它們的蒸發過程緩慢，所以這種情況下用濺射鍍膜的話，效率就會比真空蒸發鍍膜快很多。
真空蒸發鍍膜的優勢是比較多的，濺射真空鍍膜不適用於非金屬材料等低硬度材料中使用，而且，濺射真空鍍膜不適用于于非導電材料，明顯的，真空蒸發鍍膜在這方面更有優勢。
值得一提的是，對於鍍層含氣量，真空蒸發鍍膜鍍層的含氣量是比較少的，濺射鍍膜較多。因為它們並不是一個數量級的，濺射真空鍍膜比之更低。
接下來振華真空先帶大家了解一下真空蒸發鍍膜的一個大概運作過程：
首先是「蒸發」：大致就是一個凝聚相變為汽相再進入蒸發空間的整個相變過程；接著是「輸運」：自膜材的表面飛到作用基片的表面的過程；最後是「沉積」：從汽相變為凝聚相的過程。
「蒸鍍」，就是真空蒸發鍍膜的簡稱，這個過程大概就是在真空中利用蒸發的材料鍍層或塗覆材料的蒸發，並飛向所作用的基板表面凝聚從而形成膜的一種技術。
真空蒸發鍍膜的物理過程我們可以大致理解為：使材料蒸發或升華成一些氣態粒子，然後這些氣態粒子便能夠從蒸發處向作用基片的表面快速輸送過去，最後這些氣態粒子就附著在作用基片的表面而形核，再長大成一層固體薄膜。 真空蒸發鍍膜技術的使用非常廣泛更廣泛，擁有簡單的成膜方法，具備較高純度和較高緻密性，以及獨特的膜結構與性能優勢。