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2021年臺積電和三星需要多少臺ASML的EUV光刻機?
2021年臺積電和三星將需要ASML供應多少臺EUV光刻機？臺灣和日本產業界分析人士分別給出了不同的答案。——臺灣專家：2021年底臺積電55臺，三星30臺2020年12月下旬，媒體報導臺積電2021年先進位程的產能已經被 「預訂一空」。
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日本光學技術全球第一,為啥造出頂尖光刻機的偏偏是荷蘭ASML?
眾多網友痛定思痛，一致支持我們國內大力研發光刻機產品，用於組建我們的晶片生產線。光刻機是什麼呢？光刻機號稱是人類最精密複雜的機器，全球能夠生產頂尖光刻機的廠商只有一家，那就是荷蘭的asml，市面上絕大多數的光刻機產品都來自於asml。晶片是怎麼形成的？光刻機是怎麼工作的呢？
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三星臺積電EUV光刻機之戰推演:榨乾ASML未來5年產能!
由於這兩家公司的訂單數量巨大，因此認為積壓的EUV光刻機訂單正在增加。關於這兩家公司，作者曾在《三星董事長去世、令人驚訝的半導體業界「三偉人」的意外共通點》一文寫道，臺積電自2021年依賴每年都需求30臺EUV光刻機，但這被低估了。三星副董事長李在鎔於2020年10月13日訪問ASML，並要求ASML在2020年交付9臺EUV光刻機、在2021年後每年交付20臺EUV光刻機。
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三星臺積電EUV光刻機之戰推演:榨乾ASML未來5年產能
由於這兩家公司的訂單數量巨大，因此認為積壓的EUV光刻機訂單正在增加。關於這兩家公司，作者曾在《三星董事長去世、令人驚訝的半導體業界「三偉人」的意外共通點》一文寫道，臺積電自2021年依賴每年都需求30臺EUV光刻機，但這被低估了。三星副董事長李在鎔於2020年10月13日訪問ASML，並要求ASML在2020年交付9臺EUV光刻機、在2021年後每年交付20臺EUV光刻機。
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ASML突然發聲:1nm光刻機設計完成,2022年正式商用
眾所周知，光刻機是一種本應離我們的日常生活很遠的高尖端設備，但是因為這段時間裡華為的遭遇，讓很多人開始關注起了光刻機設備的進展，而且不只只是關注國內光刻機的發展，對於國外光刻機巨頭的動向也開始重視。實際上，與國外相比，國內的光刻機設備還有很長的路要走。目前最先進的光刻機設備是荷蘭ASML的EUV光刻機，能夠滿足7nm、5nm、3nm等晶片的生產需求。
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一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
目前，國際上半導體晶片製造生產線上的主流光刻設備是248nm（KrF）準分子雷射投影光刻機，並正在向193nm（ArF）準分子雷射投影光刻機過渡。荷蘭ASML公司作為全球三大光刻機集成生產商之一，堅持不懈地進行技術創新以增強其競爭力，在全球光刻機銷售市場上居於領先地位。 asml光刻機工作原理
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ASML對外宣布:光刻機技術在上一臺階,臺積電卻笑不出來
而除了在技術上保持優勢之外，臺積電之所以能夠在晶片代工領域獨佔鰲頭，也是因為asml的光刻機。 有相關報導表示，臺積電將會在明年，也就是2021年安裝超過50臺EUV光刻機。因為光刻機是生產7納米以下晶片的必要設備，除此之外還能夠提升現有晶片的良品率，所以對於很多晶片代工廠商來講， EUV 光刻機一機難求，而三星方面在得知臺積電已經在不斷買進euv光刻機之後也在想辦法購買，甚至三星的副總裁李在鎔還親自來到了荷蘭與阿斯麥進行協商。
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1納米EUV光刻機要來了!
imec執行長兼總裁Luc Van den hove做了主題演講，概述了該公司的研究，該公司和ASML密切合作，共同開發了下一代高解析度EUV光刻技術，即High NA EUV。他強調說，通過將光刻技術投入實際使用，摩爾定律將不會終止，並且該工藝將繼續改進到1 nm或更小。
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三星希望優先獲得 ASML High-Na EUV 光刻機
上周，包括執行長Peter Burnink在內的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠，討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。三星電子副會長李在鎔沒有參加會議。
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ASML(阿斯麥)已基本完成 1nm 光刻機設計
IMEC公司執行長兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高解析度EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強調，將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。
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狂購最先進EUV光刻機!臺積電今年營收將再創新高 5nm、7nm工藝賺大
臺積電昨日舉行南科3nm米晶圓廠上梁典禮，董事長劉德音透露，臺積電規劃的3nm廠廠房基地面積約為35公頃，當3nm進入量產時，當年產能預估將超過每月60萬片12寸晶圓。劉德音還表示，臺積電營收去年已經連續 10 年創下紀錄，今年也將再刷新紀錄，南科營收 2019 年產值高達新臺幣 3,800 億元，佔臺積電營業額的37%，今年預估將突破新臺幣4400億元。報告顯示，今年臺積電營收之所以猛增，主要還是跟5nm、7nm工藝有關，因為市場需求非常的高，特別是蘋果的訂單，完全供應不上。
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1nm光刻機!荷蘭ASML傳來新消息,臺積電「喜從天降」
原題：1nm光刻機！荷蘭ASML傳來新消息，臺積電「喜從天降」。對此大家怎麼看？聲明：文章原創，禁止抄襲，違者必究文|趣評互聯1nm光刻機！在半導體行業中，光刻機起著重要的作用，想要量產高端的晶片需要依託在光刻機上面，也就是說光刻機對於晶片來說起著舉足輕重的作用。目前全球最為先進的晶片製程，已經達到5nm，在全球檯積電以及三星都能夠量產。並且臺積電已經在3nm、2nm晶片上有了重大的突破。
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臺積電已經向ASML下定了至少13臺EUV光刻機
打開APP 臺積電已經向ASML下定了至少13臺EUV光刻機 芯智訊 發表於 2020-12-11 13:56:20 目前臺積電和三星的5nm工藝均已量產，前者代工的產品包括蘋果A14、蘋果M1、華為麒麟9000等，後者代工的晶片則包括三星自己的Exynos 1080以及傳言中的高通驍龍875等。
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臺積電5nm製程滿載,高通轉單三星,EUV光刻機成明年關鍵
其實這其中的原因很簡單，因為臺積電5nm製程已經滿載了。臺積電5nm製程滿載我們都知道，目前市面上主流的晶片還是7nm，但是5nm代表的是未來2-3年的市場，臺積電和三星都在5nm訂單上較勁。根據臺積電的說法，雖然5nm製程量產良率爬升速度較 7 納米大幅跳躍，同時月產能也加速擴大，從先前的 8 萬片加速邁向 10 萬片，但是總體產能仍然是供不應求，目前部分訂單已排隊至 2021 年下半年。其次則是三星。
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中芯國際5nm、3nm晶片:蔣尚義與ASML談判尋求EUV光刻機,商務部喊話...
由此可見，無論是光刻機還是光刻膠，都會對技術有非常高的要求。這也導致，光刻膠具備市場集中度高、客戶壁壘以及技術壁壘高的特點，所以市場新秀的數量較少、誕生頻率較低。中芯獨缺EUV光刻機，官方喊話荷蘭，國產晶片能否迎來新臺階？如今，晶片行業已經來到5nm節點，DUV光刻機已經難以勝任，需要用到目前最頂尖的EUV光刻機。
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中科院公開發聲:打破ASML5nm光刻機壟斷,這是誤讀
但是除了這些之外，在晶片界科技含量最高，集成度最複雜的還是光刻機。一臺光刻機10萬個零部件，普通的汽車也只有幾千個零部件。相差的不是一點兩點，尤其是高端EUV光刻機，ASML每年的產量都十分有限。用EUV光刻機才能夠製造5nm晶片，所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。
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光刻機巨頭ASML給中國開綠燈,DUV進口無需授權,但EUV...
在第 23 屆中國集成電路製造年會(CICD 2020)暨廣東集成電路產業發展論壇上，ASML 全球副總裁、中國區總裁沈波就表示：ASML 在中國大陸成立第一個辦公室迄今已有 20 年，從第一臺光刻機開始，就是中國半導體行業的親歷者、見證者、和推動者。未來，ASML 還將持續投入、擴大布局、培養人才，攜手行業夥伴，和中國半導體產業實現共同發展。
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快訊:傳臺積電向ASML下單,明年訂購至少13臺EUV光刻機
傳臺積電向ASML下單，明年訂購至少13臺EUV光刻機 據digitimes報導，業內消息稱，臺積電早已針對這兩年的機臺需求做了超前準備，要求ASML提前交付已下單的 EUV 設備。 業者透露，臺積電已向 ASML 確認 2020-2021 年 EUV 設備機臺訂單量與交貨日期。
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華為+中科院攻關EUV光刻機?ASML華裔工程師:天方夜譚
雖然，國內的上海微電子（SMEE）已經有90nm光刻機，並且傳聞28nm光刻機明年就能推出。但是，其與ASML的EUV光刻機仍差距巨大。而在此之前，業內就已有傳聞稱華為正在研發更為先進的EUV光刻機，而中科院在光刻機的關鍵技術和器件領域早已有相關布局。
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傳臺積電砸超120億預定ASML最新的13臺EUV光刻機
打開APP 傳臺積電砸超120億預定ASML最新的13臺EUV光刻機 萬南 發表於 2020-11-13 14:25:41 其實從7nm開始，臺積電和三星就開始引入EUV光刻，但過程層數較少。按照ASML（阿斯麥）的說法，迭代到5nm後，EUV的層數達到了14層，包括但不限於觸點、過孔以及關鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm，對EUV的依賴將更甚。