一個國家的實力跟半導體產業息息相關，世界上只要是經濟強國基本上在半導體領域都有著一定的成就。
光刻機的製造難度
最近幾年我國的半導體產業發展飛鏟的迅速，現在中國生產出自己的光刻機了，光刻機又被稱為掩模對準曝光機，在過去一直都是我國在製造上的短板，國內晶圓廠所需的高端掩模對準曝光機完全依賴進口，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有一點二億美金一臺的光刻機，高端光刻機堪稱現代光學工業之花其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。
集成電路的核心設備
據了解，福建安芯半導體科技有限公司母公司為北京新毅東科技有限公司，它憑藉多年積累成為二手掩模對準曝光機翻新領域的國內第一大企業，並逐步替代Nikon掩模對準曝光機的核心單元，開始自主研發全新步進式掩模對準曝光機, 據福建安芯半導體總經理表示，雖然安心半導體尚不能完全自主研發。
但通過改造、提升，已經實現了百分之六十至百分之七十的國產化，掩模對準曝光機是生產大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握，如ASML，尼康，佳能，所以讓掩模對準曝光機的價格一直都非常的昂貴。
高端光刻機依賴進口
生產晶片的掩模對準曝光機同時也是荷蘭在半導體設備製造上最大的短板，荷蘭晶圓廠所需的高端掩模對準曝光機完全依賴進口，除此之外，中芯國際還準備從荷蘭阿斯麥爾進口最先進的極紫外EUV掩模對準曝光機，不過因為受美國阻擾，荷蘭ASML至今還沒有獲得出口極紫外EUV掩模對準曝光機的許可。
光刻環節所需的設備光刻機是整個過程最為核心的設備，導致3NM工藝所需的EUV光刻機和其他關鍵生產設備的交付延期，目前最為先進的EUV光刻機單價在一億美元以上，高端光刻機市場被三星所壟斷。
國產半導體的巨大突破
由此也可以看出，我國掩模對準曝光機國產化的重要性，值得慶幸的是在我國鼓勵半導體發展的政策支持下，近年來中國半導體取得了巨大的突破，據媒體報導，四月中旬長江存儲宣布成功研發兩款一百二十八層快閃記憶體產品，並且均已在多家控制器廠商SSD等終端存儲產品上通過驗證，存儲器約佔全球半導體產值的三分之一市場高度集中。
去年年底國際巨頭三星，鎧俠，威騰電子，美光，英特爾和SK海力士六家佔據了全球百分之九十九的NAND快閃記憶體市場份額，而長江存儲研發的一百二十八層快閃記憶體晶片，對於提升國產存儲器份額有著至關重要的意義。
中國晶片代工龍頭中芯國際也於去年年底直接建成了國內首條14NM晶片生產線並已經開始投產，比之前定下的今年投產目標快了一年。