光刻機的精度有多難?

2021-01-12 騰訊網

荷蘭的一臺光刻機，憑什麼值1.2億美元一臺，他的技術真的有那麼難嗎？

一臺光刻機的零件就超過10萬個，而且90%都得從其他國家進口。

先從光源說起，E uv光刻機的光源來自XYmer，波長為13.5納米。但這13.5納米，其實是從193納米多次反射得到的。

簡單來說，就是用250功率的二氧化碳雷射，轟擊滴落下來的金屬錫滴液，連續攻擊兩次後，就能加熱激發出Euv等離子體，從而獲得波長更短的光。

這一過程，每秒要攻擊5萬個滴液，而一個金屬錫液滴，也就只有20微米大小，相當於從地球發出的手電筒光線，要精確射到一塊在月球上的硬幣一樣難。

而Euv光刻機裡面的反光鏡，是由德國蔡司製造的，只反射13.5納米的光，一共有40層，每一層的外表非常平整。

但由於光刻機的光很容易被空氣吸收，每一次反射都會損失掉30%的光強，一頓操作下來最後就只剩2%的光強。所以說光刻機是耗電猛獸。

光刻機除了耗電，還很耗水。因為轟擊金屬錫滴液會釋放能量，所以每一秒鐘得有4000升的水來進行冷卻。

而廠房環境也很嚴格，每小時要淨化30萬立方米的空氣，就光以上幾點，你大概可以品出造一個光刻機有多難了吧。

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