Hello大家好我是小楠，我們總是說光刻機是現代頂尖技術，那你了解光刻機嘛，小編簡單解釋一下啊，就是光刻機是通過光源曝光，將設計完成的集成電路圖，複印到矽片之上，從而形成圖像，這也是全世界最注重的事情之一，但是對於光學技術明明日本是老牌強國，為什麼現在都說荷蘭ASML是業界頂尖的EUV光刻機的廠商那？
荷蘭ASML是在1984年成立的，當時日本的光學巨頭尼康，已經有很強的實力了，對於一個剛起步的公司肯定不放在眼裡，然後就是這個不起眼的小公司，超越了它，就是從光刻機光源波長停滯在193nm，難以繼續前進的問題開始的，當然的解決辦法有兩種思路：第一種是在乾式光刻方案的基礎上，攻克152nm的F2雷射，這也是日本尼康的想法，這條路比較穩健，保守；第二種是EUV LLC聯盟希望通過極紫外技術，實現突破，雖然這個方法比較激進，但是一旦成功就能實現10nm以下晶片的製造；就在這時ASML也提出了一個想法，但與他們的技術都不相同，就是臺積電提出的「浸潤式光刻」。
這不到2004年，ASML與臺積電共同研發的浸潤式微影機問世，贏得了世界的矚目，雖然尼康也採用「乾式光刻」方案研究出157nm產品，但兩者一比較，尼康的產品無論從成本，縮短光波效果上都不如ASML的產品，而ASML也自此翻身成功。
不過後來英特爾與美國能源部牽頭的EUV LLC聯盟，聚集了AMD、摩託羅拉等美國頂尖科技巨頭，一起研究極紫外光刻機，但當時尼康已經不行，而ASML就抓住了這個機會，雖然進入EUV LLC聯盟付出了很多承諾，但進入之後也回報了它很多，ASML在美國的扶持之下快速的崛起了，也就成為了現在唯一能製造EUV光刻機的廠商。