從光刻機說開去

2020-09-10 木亢

前因：荷蘭的ASML是世界頂尖的光刻機生產企業，中芯國際一直想買他們家的東西，介於美國的阻撓一直達不成交易。光刻機是結合了很多學科技術的綜合產物，代表的是現今國際最高端的技術成就，現階段真的比原子彈還難造！

我想說的是，我們依靠自身實力造出了兩彈一星，造出了世界領先的高鐵機車，突破人類極限完成了很多偉大的基建項目……為什麼就一時半會弄不出光刻機這玩意？我們在該領域欠缺什麼？我們的技術處在什麼真實水平？

科技無國界，現在想來不現實！很多國家還是吝嗇於自我欣賞，或選擇性恩惠，甚至科技被定義了太多的政治因素！

打破科技壁壘靠什麼？教育與創新。這裡我理解的教育是：拋棄呆板的填鴨式教育，培養學生動手實踐能力，鼓勵天馬行空式思維，改變陳舊的招生模式，大膽改革，不惟分，重能力。

鼓勵全社會創新，形成良好的氛圍。創新突出個新意，但要切合實際。創新才是推動人類進步的唯一動力。不滿足現狀，追求極致，可以激發無限的創意種子開花結果！

我國已經躍居世界第二大經濟體，但在某些科技領域還被西方國家卡脖子，這種局面必須要打破。眼下，要靜下心來，韜光養晦，聚焦難題逐一攻關！

國家必定會富強，這其中必定也包含著無數的犧牲與付出，國家強大國人才有尊嚴！

相關焦點

  • 光刻機是幹什麼的
    光刻機是幹什麼的 與非網 發表於 2020-03-15 14:46:00 經常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那麼什麼是光刻機呢？
  • 為什麼說不存在5nm光刻機?
    最近光刻機十分火，我們經常聽到別人說7nm光刻機，5nm光刻機，但其實嚴格意義上來說，並不存在7nm光刻機，5nm光刻機，有的只是7nm工藝，5nm工藝。我們首先要搞清楚什麼是光刻機，光刻技術就是利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上的圖形複印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。簡單來說，光刻就是把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。類似投影儀，不過光刻投的不是照片，而是電路圖和其他電子元。
  • 同樣能造出7nm晶片,EUV光刻機對比DUV光刻機,區別在哪裡?
    言外之意十分明了，那就是ASML目前還不會向中國出口EUV光刻機，這難免有些讓人失望。雖然，DUV光刻機也能造出7nm晶片，但同EUV光刻機相比，二者還是有著不小的差距。在光源、光路系統與鏡頭三大方面，二者有著很大的不同。
  • 華為招聘「光刻工藝工程師」,真的要自研光刻機?
    eqVednc要自研光刻機？晶片製造過程共分為七大生產區域，分別是擴散、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜生長、拋光、金屬化，所對應的七大類生產設備分別為擴散爐、光刻機、刻蝕機、離子注入機、薄膜沉積設備、化學機械拋光機和清洗機，其中金屬化是把集成電路裡的各個元件用金屬導體連接起來，用到的設備也是薄膜生長設備。
  • 光刻機製造瓶頸在哪裡?
    有人說光刻機製造瓶頸是「精密」兩字，包括精密加工、精密計量、精密控制和精湛工藝，但精密性只是充分體現了光刻機的特徵。作為製造晶片的關鍵設備，光刻機集成和匯聚了許多高精尖科技和工藝，涉及到數學、物理、化學等20多個領域的高新技術。
  • 中國慕「光刻機」久矣!中科院彎道超車,95後DIY納米級光刻機?
    為什麼說是新型呢？因為荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司，他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬的雷射光刻技術。
  • 國產光刻機背後的希望
    今年六月份有消息傳出，國產光刻機龍頭上海微電子將在一年內交付用於28nm製程生產的193nm ArF光刻機。另外，據方正證券今年發布的相關研報，國家02專項光刻機項目二期曾設定，擬於2020年12月驗收由上海微電子設計集成的193nm ArF浸沒式DUV光刻機。這一技術突破無疑極具重要意義。
  • 光刻機的精度有多難?
    荷蘭的一臺光刻機，憑什麼值1.2億美元一臺，他的技術真的有那麼難嗎？ 一臺光刻機的零件就超過10萬個，而且90%都得從其他國家進口。 先從光源說起，E uv光刻機的光源來自XYmer，波長為13.5納米。
  • 荷蘭媒體:為何說華為自研光刻機不可取,這個重要原因不容忽視!
    最近，華為招聘光刻工藝工程師的消息流傳開來，華為要自行開發光刻機的消息不脛而走，消息是真的嗎？華為雖然沒有對此發表評論，但是如果華為真的想開發自己的光刻機，那將是極其不可靠的商業冒險。荷蘭媒體：為何說華為自研光刻機不可取，這個重要原因不容忽視！
  • 大族雷射誤入光刻機概念
    奧秘在於，很多投資者並不了解，此光刻機非彼光刻機。光刻機由於光源波長不同其解析度也不同，用於集成電路製造的最先進光刻機已經到5納米，國產集成電路光刻機可做到28納米，正在向14納米進發。分立器件、LED等需要的光刻機線寬不需要納米級，可能只需要微米級。半導體行業人士告訴《中國經營報》記者，所以大族雷射的光刻機不可能用在集成電路製造中，精度不高，難度也並不大。
  • 全球光刻機真實水平曝光!ASML突破1nm:那國產光刻機呢?
    【12月10日訊】相信大家都知道，在最近一段時間，被稱之為全球最牛的光刻機巨頭—荷蘭ASML再次帶來了重磅消息，目前荷蘭ASML公司已經完成了1nm光刻機設計，而這款1nm光刻機設備將會在2022年實現商用，但就在荷蘭ASML公司官宣「好消息後；」 國內眾多科技媒體在報導「中科院闢謠時，直接提到國產光刻機的水平還維持在180nm
  • 光刻機結構組成及工作原理
    光刻機介紹 　　光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System. 　　光刻機的結構： 　　光刻機性能指標： 　　光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸範圍，解析度、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。 　　解析度是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。
  • 為什麼製造光刻機這麼難
    晶片製造商要想成功地製造出晶片來，必須用到光刻機。最近晶片行業備受關注，為什麼光刻機這麼難搞？光刻機是生產晶片最核心的設備技術，難度非常高，日本荷蘭佔據目前百分90以上的全球市場份額。而最先進的技術只有荷蘭公司ASML一家能做。
  • 中科院5nm雷射光刻彎道超車?95後本科生DIY納米級光刻機?背後的...
    為什麼說是新型呢？因為荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司，他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬的雷射光刻技術。
  • 揭秘全球最牛光刻機公司
    來源：投資界阿斯麥是目前全球最厲害的光刻機製造商，尤其在高端光刻機領域，可以說獨步江湖。阿斯麥是目前全球最厲害的光刻機製造商，尤其在高端光刻機領域，可以說獨步江湖。光刻機是晶片製造過程中的核心關鍵設備，負責把集成電路版圖精確地投影在矽片上，從而完成器件和電路的構造。作為晶片產業「皇冠上的明珠」，光刻技術的地位不言而喻。雖然極度重要，但相比「晶片」這個成品，光刻機是個不折不扣的小眾領域。
  • 荷蘭傳來消息,事關ASML的光刻機
    光刻機相信稍微對晶片行業有所了解的人，應該都明白光刻機的重要性，作為生產晶片的必需設備，光刻機是一項尤為關鍵的核心技術。但可惜的是，截至目前，在全球範圍內，只有荷蘭的ASML公司具備製造高端光刻機的能力。
  • 拿下多項5nm光刻技術,華為等也入場,國產5nm光刻機有戲?
    而7nm以下的晶片之所以難以生產，一方面是因為技術難度大，另外一方面是沒有EUV光刻機，後者更為重要一些。因為EUV光刻機是生產製造7nm以下晶片的必要設備，而這種設備目前僅有ASML能夠研發生產製造。
  • 中國的光刻機目前處於什麼水平!
    光刻機是半導體產業中最重要的設備，技術先進的還是由荷蘭ASML公司生產，我國也有在研發生產光刻機，但技術水平還比較落後，無法滿足現代晶片工藝要求。國際上最先進的水平當然是ASML的，目前能夠實現量產的是5nm的光刻機，在2018年所有的中高端量產晶片的光刻機裡面，ASML壟斷了差不多90%以上的市場，各位朋友可以想一想這是什麼樣的地位？中國目前光刻機什麼水平？
  • 中國拿下5臺光刻機,收購日本企業100%股權,國產光刻機有望了
    那麼光科技方面雖然也在努力，也取得了一定的進展，但是高端光刻機絕非短期能夠自研成功的，所以購買光刻機也是一種解決問題的方法。可是目前最高端的EUV光刻機也被限制著。不過可能很少有人知道，二零二零年曾經有一家中國的企業不聲不響的一口氣拿下了五臺光刻機。那這個到底是怎麼回事兒呢？
  • 世界最頂級光刻機製造商——ASML
    隨著人工智慧市場的火熱、中國的智能晶片市場更是方興未艾,工業、生產、生活的方方面面都是越來越智能化，這其中都要用到晶片，而晶片的製造離不開光刻機。想要製造晶片就必須要有光刻機設備，而先進光刻機目前放眼全球也只一家名叫ASML的荷蘭公司能生產。ASML是一家荷蘭公司。說起來荷蘭，很多人都會覺得，這不過是個小國家而已，但是只要翻開荷蘭的歷史就可以發現，這個國家實際上是最早的一批帝國主義國家，經濟科技實力十分雄厚。