2013 年,H.Ahmad 利用光學沉積法,直接將氧化石墨烯沉積在光纖端面上,做成「三明治」結構飽和吸收體,獲得了1941.7 nm 脈衝光纖雷射器,輸出功率0.3 mW,重複頻率16.0 kHz,脈衝寬度9.8 μs。2014 年Norazlina Saidin 等石墨烯PVA 薄片放置兩個光纖端面之間構成「三明治」結構飽和吸收體實現了1900 nm 脈衝光纖雷射器,輸出功率僅為1 mW,重複頻率13.1 kHz,最窄脈衝寬度16.9 μs。同年Yizhong Huang 等採用CVD 生長的單層石墨烯轉移到光纖端面上,構成全光纖「三明治」結構,實現了1980 nm 脈衝雙包層光纖雷射器,平均功率28.6 mW,重複頻率27 kHz,脈衝寬度2.7 μs。
3.3 摻Yb3 + 光纖雷射器
脈衝摻Yb3 + 光纖雷射器是波長為1.0 ~1.2 μm 的通用雷射光源,Yb3 + 具有相當寬的吸收帶( 800 ~ 1064 nm) 泵浦源的選擇廣泛。2011 年劉江等報導了石墨烯被動調Q 摻鐿1064 nm 雙包層光纖雷射器。他將寬帶全反鏡浸入到石墨烯PVA 溶液中充分接觸,並乾燥,製備了反射式飽和吸收體。此反射鏡與光纖Bragg 光柵構成了線性諧振腔。最大輸出功率為12 mW,最窄脈衝寬度70 ns,重複頻率為257 kHz。2012 年L. Zhang 等採用雷射誘導沉積的方法製備了「三明治」結構飽和吸收體,獲得了保偏1027.3 nm 全光纖雷射器。平均功率為15.6 mW,重複頻率110 kHz,脈衝寬度1.3 μs。
2013 年Zhehua Yu 等報導了W 級氧化石墨烯被動調Q 雙包層1044 nm 光纖雷射器。飽和吸收體採用的是「三明治」結構: 首先將石英薄片浸入到氧化石墨烯溶液中,蒸發; 氧化石墨烯就會沉積在薄片兩側; 擦掉一側的氧化石墨烯,並鍍上高反膜,即形成反射式飽和吸收鏡; 然後在氧化石墨烯的上面附上石英薄片即構成「三明治」結構,如圖5 所示。此結構可以有效地減少空氣中氧氣對氧化石墨烯的影響,極大地提高損傷閾值。當泵浦功率為7.8 W 時,可以獲得平均輸出功率1.8 W,重複頻率215 kHz,脈衝寬度為1.7 μs 的脈衝雷射。
2014 年吳健等將CVD 法生長的單層石墨烯轉移到光纖端面上,構成全光纖「三明治」結構,獲得大脈衝能量雙包層光纖雷射器,平均功率為46 mW,重複頻率26.46 kHz,脈衝寬度4.5 μs。張麗強直接採用SiC 外延生長的石墨烯作為調Q 開關,獲得可調諧被動調Q 雙波長光纖雷射器。輸出功率35 mW,重複頻率53.04 kHz,脈衝寬度1.60 μs。採用石英濾光片可以實現1038.54 ~ 1056.22 nm 連續調諧。
3.4 Er∶Yb 共摻雜光纖雷射器
2013 年Y.K.Yap 等採用光學沉積和光鑷效應,將石墨烯沉積在光纖端面上,製作了「三明治」結構的石墨烯飽和吸收體。採用Er∶Yb 共摻雜光纖作為增益介質,首次採用簡單的線性諧振腔,獲得了1535 nm 被動調Q 光纖雷射器。輸出功率25 mW,重複頻率70 kHz,最大單脈衝能量184 nJ。
2014 年吳端端將CVD 製作的單層石墨烯轉移到光纖端面上,製作了「三明治」結構的飽和吸收體,實現了Er∶Yb 共摻雜雙包層被動調Q 全光纖雷射器。單脈衝能量高達1.05 μJ,輸出功率25.6 mW,最窄脈衝帶寬2.6 μs; 並且通過可調諧FP 濾光片,可以實現1530.97 ~ 1546.92 nm。同年該作者採用一個同樣的飽和吸收體,實現了1.53 μm 脈衝Er 光纖雷射器與1.06 μm 脈衝Er∶Yb 共摻雜光纖雷射器同步雙波長輸出,如圖6 所示。波長1.06 μm 的單脈衝能量高達5.30 μJ,波長1.53 μm 的單脈衝能量達到1.20 μJ。Er∶Yb 共摻雜光纖雷射器的輸出功率為33.5 mW,脈衝寬度3.9 μs; Er 光纖雷射器輸出功率106.2 mW,重複頻率20. 03 kHz,最窄脈衝寬度3.1 μs。
4 石墨烯調Q 光纖雷射器的發展趨勢
隨著光纖雷射器與石墨烯技術的進步,石墨烯被動調Q 光纖雷射器呈現出新的發展趨勢。
4.1 性能優良飽和吸收體的製作
被動調Q 光纖雷射器,需要插入損耗小、性能穩定、損傷閾值高、耦合效率高的石墨烯飽和吸收體。這需要在石墨烯製作的過程中,儘量減少缺陷和雜質。很顯然,性能優良的石墨烯飽和吸收體是被動調Q 光纖雷射器發展的關鍵。如採用超聲波轉移法替代PMMA 轉移法製作的單層石墨烯石英片,「褶皺」( wrinkles) 和缺陷更少,相應的散射損耗和吸收損耗更少。