眾所周知，臺積電是世界上最大的晶片代工廠商，在7納米以下先進位晶片的生產上，除了三星，幾乎沒有任何一家企業能夠與臺積電抗衡。而三星雖然有實力，但是可惜每次都晚臺積電一步，雖然立下彎道超車取代臺積電的偉大志向，但這始終都還是個夢想而已。
臺積電的優勢
臺積電之所以會在晶片代工領域之中做到龍頭老大的位置，除了擁有技術上的優勢之外，在設備獲取上面也是有優勢的。我們都知道，想要生產出先進位程的晶片，光刻機是必要設備，而能夠生產出先進位晶片的光刻機之中，EUV光刻機是關鍵，EUV光刻機又是荷蘭ASML的專利，巧的是這臺積電還是ASML的股東之一，三星背後雖然有整個三星集團支撐，在資金上能夠與臺積電抗衡，但是臺積電卻擁有獲得EUV光刻機的特權，這也就是為什麼，每一次三星都晚臺積電一步的原因之一。
從這裡就不難看出，光刻機設備的重要性。這就行相當於是畫師手中的畫筆，程式設計師手中的鍵盤一樣。只有技術沒有光刻機，想要生產出晶片，就是痴人說夢。最先進的EUV光刻機技術，掌握在ASML手中，但是這種EUV光刻機只能製造出5納米先進位程的晶片，如果想要製造更先進的晶片，那麼就需要更加先進的光刻機。
ASML傳來好消息
而最近，ASML方面傳來先進位光刻機的消息，能夠生產出5納米以下晶片的NA EUV光刻機的設計已經完成，將會在2022年正式安排出貨，可以說，這對於整個半導體領域來講，都是一個好消息。但是此時的臺積電卻犯了難，這到底是為啥？
講道理，前面提到過臺積電擁有優先獲取光刻機的特權，臺積電自然應該是非常欣喜才對，為什麼臺積電會在這個時候犯難呢？
臺積電為何犯難？
其實是因為這種NA EUV光刻機的工藝在製造難度上是EUV光刻機的幾倍，因此，不管是在價格還是在體積上都是成倍上漲的。
前面的文章中也有提到過，現在臺積電已經向著3納米晶片進發了，對於這種NA EUV光刻機的需要也提上了日程。但是這種光科技的體積非常大，是之前EUV光刻機的3-4倍，所以這就導致在安裝上需要花費大量的金錢，而在場地之上也是一個巨大的問題。
這第二點就是在價格的問題上，這種光刻機的價格是原來EUV光科技的4倍，據說一臺EUV光刻機已經達到了1.2億美元，這也就意味著，這種NA EUV光刻機的價格達到了4.8億美元。臺積電雖然家大業大，但是錢也不是大風颳來的，所以說在資金上對於臺積電來講也是一個比較大的問題。
再來，NA EUV光刻機的出現，就意味著晶片的工藝即將到達天花板，也就是說，這種NA EUV光刻機很有可能是未來能夠製造出的最為先進的光刻機了。晶片的發展都是需要遵循摩爾定律的，如果到達了摩爾定律的最頂端，那麼晶片製程將會停止，臺積電就沒有辦法再進一步，這就給了三星以及其他晶片廠商機會去追趕，而綜合實力更強的三星將來或許會超越臺積電。這一點也是臺積電不得不考慮的一個問題。
在這樣的情況下，臺積電才會為難。即便是現在ASML帶來了光刻機的好消息，臺積電也會陷入一種犯難的境界。