除了光刻機、蝕刻機等硬體設備外,材料的重要性在晶片製造環節同樣不容忽視。例如光刻膠,這類又稱為光致抗蝕劑的混合液體是晶片光刻流程中高精尖的核心材料,地位絲毫不亞於光刻機。
根據產業鏈調研數據,在集成電路製造工藝中,光刻工藝的成本佔比高達35%,耗費的時間佔比達到40%-60%。
由此可見,無論是光刻機還是光刻膠,都會對技術有非常高的要求。這也導致,光刻膠具備市場集中度高、客戶壁壘以及技術壁壘高的特點,所以市場新秀的數量較少、誕生頻率較低。
如今,晶片行業已經來到5nm節點,DUV光刻機已經難以勝任,需要用到目前最頂尖的EUV光刻機。
光刻機有「精密機械上的皇冠」的美稱,是晶片製造必不可少的設備。要製造7nm以下製程工藝的高端晶片,EUV光刻機更是重中之重。然而,由於荷蘭半導體設備巨頭阿斯麥(ASML)心存顧慮,中企一直難以從其手中買到EUV光刻機。
12月18日最新消息顯示,消息人士透露,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中國晶片巨頭中芯國際正尋求與阿斯麥進行談判,以獲取EUV光刻機。此前,該中企曾耗費兩年時間,斥資1.5億美元(約合人民幣9.8億元),向阿斯麥購買一臺EUV光刻機,但一直未能成功。
業內人士還認為,中芯之所以邀請蔣尚義加盟,原因之一應該也是希望他能助力中芯引進EUV光刻機設備,蔣尚義與荷蘭光刻機大廠ASML的關係相當好。蔣尚義在2000年邀請林本堅加盟臺積電,林本堅在光刻技術領域做出了巨大的貢獻,林本堅不僅與曾經的直屬上司蔣尚義、也與ASML的關係迄今仍相當友好。在蔣尚義的協助下,中芯至少可與ASML坐下來好好協商,同時尋求能夠避開美國的技術研發或者設備採購方式。實際上,ASML能夠登頂全球光刻機市場霸主寶座,當年與臺積電的合作分不開,當然也要涉及到蔣尚義和林本堅等人。
然而,ASML對向我國出口EUV光刻機一事,卻遲遲不鬆口,制約了國產晶片產業的發展。
前段時間,ASML財務長表示,ASML可以不受美國限制,從荷蘭直接向中國客戶出口DUV光刻機。但對於EUV光刻機一事,SML財務長卻閉口不談。
ASML全球副總裁沈波雖然表示,在法律法規的框架下,將對全球客戶一視同仁。但在被問及是否有向中國出口EUV光刻機打算時,他表示,我們還在等荷蘭政府的出口許可。
也就是說,我國一時半會仍無法進口EUV光刻機,這令人十分遺憾。
近幾年來,中芯國際的晶片製程工藝進步迅速,第二代N+1工藝正在小規模試產中,該工藝與7nm製程相近。
在網上曝光的一則中芯國際CEO梁孟松的辭職信上,出現了這樣的信息:5nm和3nm的最關鍵、也是最艱巨的8大項技術也已經有序展開,只待EUV光刻機的到來,就可以進步全面開發階段。
可見,中芯國際萬事俱備,只欠EUV光刻機。
面對這樣的情況,近日中國官方向荷蘭喊話。在12月16日舉行的中荷經貿混委會第17次會議上,商務部副部長俞建華向荷方表示:希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。
如今,向中國大陸出售EUV光刻機一事,已經不再是貿易問題,而是政治問題。受美國主導的《瓦森納協定》制約,非成員國的中國,採購EUV光刻機這樣的尖端設備會受到約束。
商務部網站12月16日消息,16日下午,商務部副部長、國際貿易談判副代表俞建華與荷蘭外交部外貿與發展合作大臣卡格以視頻形式共同主持召開中荷經貿混委會第17次會議,就共同關心的中荷、中歐經貿合作議題深入交換意見。
俞建華表示,當前中國正在加快構建以國內大循環為主體、國內國際雙循環相互促進的新發展格局,這將給中荷、中歐合作帶來新機遇。面對新冠肺炎疫情衝擊,中荷經貿合作展現出強大韌性,歡迎荷蘭企業擴大對華貿易投資。中荷雙方應繼續堅持多邊主義,積極推進全球貿易投資自由化便利化。中方願在服務貿易、電子商務等領域擴大合作,同時希望荷方在華為5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。中方將與荷方密切合作,落實好兩國領導人共識,推動雙邊經貿合作再上一個新臺階。
卡格表示,感謝中方在疫情期間為荷方在華醫療物資採購提供的大力支持。荷方重視中國大市場,願與中方一道加強多邊領域合作,希望擴大服務貿易和電子商務領域務實合作,同時探討應對氣變、可持續發展等領域的合作機遇。
雙方一致同意,支持兩國企業籌建企業家委員會機制,並在明年初舉辦首屆中荷線上企業經貿交流會。
來源:海西商界、創投時報、澎湃新聞