坐擁3200件專利技術,狂攬80%國內市場,中國光刻機巨頭很低調

2020-12-24 藍天說

上海微電子的地位和中芯國際一樣,國內再難找到一家可以頂上來的企業,製造晶片困難,生產光刻機同樣困難,上海微電子一直很低調,和中興國際一樣。3200項專利是2020年3月上海微電子公布的數據,在這個行業壟斷極其誇張的領域,我們還有這樣的收穫,真的值得慶賀了。

上海微電子的光刻機現狀:有好有壞

2020年3月,上海微電子公布數據表示,公司直接持有的專利與專利申請量達3200項,並且在自己的智慧財產權聯盟中,共享聯盟成員智慧財產權。

將優秀的知識互相分享,這樣額上海微電子不進步都難,事實上大家走到智慧財產權共享的這一步,不過是因為我們的光刻機領域真的薄弱,團結才能取勝。

資料上顯示桑海微電子生產的光刻機有90nm、130nm、200nm三個工藝製程,即使是最先進的90nm的光刻機,也只能滿足普通手錶、電視的需求。

如果做個詳細說明的話,小米、華為、格力、美的等,現在的產品晶片要求都是超過90nm,即使是一些山寨平板電腦,三四百定價的那種,晶片都是28nm。

我國在光刻機領域的突破:裡程碑意義

上海微電子明年將生產28nm光刻機,這是傳出來的最好的消息,28nm的晶片才是市場的主流,這臺光刻機出來,意味著我們的絕大部分晶片都能實現自我供給。

28nm的光刻機製作出來的晶片,無論是電子手錶還是投影儀、電視,已經能滿足絕大部分需求,所以這臺28nm的光刻機對我恩來講,具有裡程碑意義。

另外一個值得高興的消息就是北京清華大學那邊,已經攻破了光刻機雙工件臺的技術,雙工件臺技術用上,我們的晶片生產速度,至少提高10倍以上。

雙工件臺技術目前只有ASML掌握,這一項技術是ASML在21世紀初的時候突破的,也就20來年的歷史,如果晶片發展迫切需要光刻機的話,那麼光刻機發展也迫切需要雙工件臺。

2020年,我們的光刻機其實是痛並快樂著

我們得承認2020年,我們的晶片事業一點都不好過,在這個艱難的歲月裡,華為事件拉開了這段故事的序幕,最近中芯國際被列入實體清單,再留下了重重的一筆。

故事的結尾是怎樣的,我們怎麼知道嗎?誰都無法預測,有人說正義必勝,其實每個人心中的正義也不一樣,你覺得正義必勝,你憎惡的人也覺得正義必勝。

唯一值得慶幸的是,在國際環境中,有越來越多的企業為華為發聲,即使是ASML也願意將DUV光刻機出售給我們,其它企業的合作也紛紛過來了。

國內的各個科研團隊也是在當中取得了非常多的進步,雖然只是一些初步性進展,比如中科院碳基晶片,比如華為屏幕驅動晶片,我們的突破讓我們看到了打破不可能的可能。

上海微電子:燃放光彩與尼康學習

我們對於上海微電子可以抱有極大的期望,卻不能提出過高的要求,事實上只要上海微電子生產出來的光刻機能夠滿足我們絕大部分的晶片需求,我們就沒必要責怪了。

上海微電子比起中芯國際要好上許多,不用面對內憂外患,反正國外環境都那樣,早就習慣了,上海微電子的工程師們才更沉得下心來。

另一個值得關注額就是尼康打算與我們合作,他有至少超過50年的光刻機研究歷史,所以我們大可以學習。

尼康與我們合作,看中的可能還有我們新突破的雙工件臺的技術,有了這個,尼康追上ASML,造出與EUV光刻機同級別的東西也不是沒有可能。

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