先說說一般的「衝印照片」的過程。
假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裡顯影，讓風景在膠片上顯示出來。
然後在紅光下通過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再通過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。
除了風景之外，「照片衝印」需要有膠片，有光源、放大機、相紙。
光刻機製作晶片的過程，基本和「衝印照片」一樣。
「風景」就是設計好的集成電路圖（IC），「膠片」就是一塊石英板（光罩），用來記錄集成電路圖，「相紙」就是矽晶圓，「放大機」就相當於光刻機。
所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。
光刻機用的就是現代攝影技術，難怪另兩家是：日本的尼康、佳能。
在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高端光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。
光刻機的原理雖然簡單，但對精度的要求極其地高。
7納米什麼概念？1顆原子的大小是0.1納米，7納米就是70個原子。所以EUV光刻過程是在真空環境下進行的，因為空氣分子也會干擾EUV光線。而且機械的動作精度度以皮米計（萬億分之一米）。
光刻機上反射鏡是核心部件，反射鏡的精度以皮米計（萬億分之一米）。ASML總裁曾說過，如果反射鏡面積有德國那麼大（大概是山東、河南兩省面積之和），最高的突起不能超過1釐米。
ASML雖然是荷蘭公司，但離不開德國鏡頭、美國光源，以及各國大客戶的支援。
荷蘭ASML雖然壟斷了高端光刻機，但也不是完全技術獨立，它的透鏡來自德國蔡司，光源來自美國Cymer。光刻機由於技術難度巨大，資金上的投入也巨大，ASML為了分擔研發風險，把上下遊都拉進來做利益捆綁，讓英特爾、三星、臺積電做自己的股東，所以ASML實際上是多國投資的項目。
今日話題：你看好中國自主研發的光刻機嗎？
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