光刻膠是一種對光敏感的混合液體，是半導體晶片製造過程中所需的關鍵材料，主要用於光刻曝光環節。
光刻膠主要有KrF、ArF、EUV幾種，我國在低端光刻膠領域雖然有不錯的表現，但在高端領域，我國仍要依賴海外。
光刻膠巨頭技術壁壘高的特點、市場集中度高的特點，給我國企業帶來了不小的挑戰。長時間來，KrF、ArF高端光刻膠市場，被日本企業所壟斷。日本信越化學、東京應化、合成橡膠等企業，都在ArF光刻膠市場佔據主導地位，其次是美國、韓國企業。
據中國產業信息網數據，2017年我國適用於12寸矽片的ArF光刻膠完全依賴進口。
這種高度依賴的境況令人擔憂，一旦有政治衝突、軍事衝突等的發生，後果十分嚴重。為改變這一受制於人的境況，我國眾多企業開始了追趕。
終於，我國光刻膠領頭企業——南大光電，在近日傳來好消息，國產晶片迎來希望。
南大光電承接國家「02專項」的重點攻關項目——「ArF光刻膠產品開發和產業化」實現了關鍵性突破。南大光電宣布，公司自主研發的ArF（193nm）光刻膠通過客戶使用認證，這是我國首支通過產品驗證的國產ArF光刻膠。
報告評估顯示：南大光電的ArF光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良品率結果達標。
這為我國突破日本壟斷帶來了可能性，令人矚目。
南大光電的在這一關鍵技術上的突破，提升了我國科技企業的自主創新能力，有望推動我國國際競爭力的提升，帶動我國電子工業體系技術水平進步。
據了解，ArF光刻膠主要用於90nm至14nm，乃至7nm技術節點的集成電路製造工藝。如今，先進光刻膠的需求量隨著先進位程工藝的應用、5G的擴張等，也在不斷增加，市場前景廣闊。
據智研資訊數據顯示，2019年全球光刻膠市場規模約為90億美元，而到2022年時這一數字有望增長至100億美元。在雲計算晶片、5G晶片上，高端光刻膠都有廣泛的應用，在國產替代的加快的背景下，南大光電的發展潛力巨大。
而且，南大光電還投入6.56億元建設193nm光刻膠生產線建設，計劃年產能25噸。這有助於進一步實現國產光刻膠規模化。
接下來，南大光電還將有怎樣的表現，令人期待。
文/BU 審核/子揚 校對/知秋