在我國當下「惡補」的半導體技術空缺中，光刻機可以說是重中之重。眾所周知，例如智慧型手機、電腦、汽車當代科技產物，如果沒有晶片的話，就只是一堆毫無用處的擺件。晶片對於這些智能電子產品的重要性，正如光刻機對晶片的重要性。
光刻機的主要作用，在於生產晶片，它的工作職責是將設計好的電路，精確地投影在矽片上，因此人們習慣將光刻機比作一臺精度超高的照相機。一片7nm的晶片可以難倒華為，一臺製造7nm晶片的高端光刻機，也同樣可以難倒一群「英雄好漢」。
要知道，一臺光刻機的產生需要多家巨頭企業的合力參與研發，需要融合多個科技強國的頂尖技術，就連美國的工程師都曾說：光是調光刻機中的一個小零件就花了整整十年的時間！儘管如此，依舊有一個國家能夠造出全球頂尖的光刻機。
當代的光刻機市場中，荷蘭的光刻機巨頭企業ASML一家獨大，以63%的市場份額，幾乎壟斷了整個光刻機市場。值得一提的是，在ASML佔領光刻機市場之前，光刻機市場的霸主地位是牢牢攥在日本手上的，ASML能夠用短短20年的時間崛起並蓋過日本，其中不可忽略美國的推波助瀾。
ASML創建於1984年，當時的ASML只是個連廠房都沒有，還要靠飛利浦施捨的，小小嘍囉一般的存在，而彼時正是日本尼康的輝煌時段。1980-2004年期間，日本憑藉強大的光學技術，不僅攥住了超過50%的全球光刻機市場，還碾壓了其競爭對手美國，正是風光無限的時刻。
然而在那不久，光刻機領域遇到了一個難題：光刻機光源波長在193nm處停滯不前。對此，當時的光刻機領域出現兩波不同的聲音，一波是以日本尼康為首的，主張在乾式光科技的基礎上，對152nm的F2雷射進行攻克。
一波則是由英特爾和美國能源部起頭的EUV LLC聯盟主張的，通過極紫外技術來實現技術突破。這個主張和日本尼康的相比，技術難度更高，也更加激進。
在主張方面，一向是遵循少數服從多數。EUV LLC聯盟不僅拉到了AMD和摩託羅拉等多家科技巨頭的加盟，更有美國三大國家實驗室的支持，與之相比，日本顯得有些孤立無援，最終被排除在「EUV」之外，這正是日本開始走下坡路的開端。同時也是ASML走運的開始。
正如前文提到的，當時美國在光刻機方面被日本尼康實力碾壓，因此EUV聯盟計劃另外扶持一個光刻機大佬。此時ASML已經憑藉著搶單、推銷、蹲點的各種銷售手段逐漸成形，在得到EUV聯盟招兵買馬的消息後，ASML不僅自薦，還各種承諾會在美建廠等諸多好處，最終獲得了EUV聯盟的認可。
之後，ASML不斷「行大運」，又遇上貴人臺積電的研發大將林本堅，投身於林本堅提出的「浸潤式光刻」的研發，2004年，ASML憑藉和臺積電合作研發的浸潤式微影光刻機在全球嶄露頭角。
而ASML被禁止向中國出售EUV光刻機，正是因為採用了美國的相關技術，美國才有理由要求荷蘭停止向中國出售光刻機設備。
昔日光刻機巨頭尼康，也被生動地上了「孤掌難鳴」的一課。後期不僅核心業務——照相機的營收都大幅下滑，最近有消息稱尼康將裁員2000名縮短開支。至於非核心的光刻機業務，更是被「散養」了。
一臺高端光刻機的研發需要各國頂尖科技資源的整合，如今我國已經著手尋找半導體領域的突破口，在這種情況下，與日本的佳能和尼康合作不失為一個良好的選擇。
日本作為光學大國，掌握著中國不具備的高端光刻機技術，而中國又有龐大的市場和資金。兩者是優勢互補，或許能夠打破ASML的壟斷。對此大家有什麼看法呢？
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