據TechWeb網站11月30日最新報導，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。
據了解，先進位程的光刻機對於曝光設備的解析度要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之後，會在2022年實現商業化。
然而，這家荷蘭企業的光刻機製造技術卻變得重大突破之際，我國晶片製造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉，中芯國際於2018年自阿斯麥（ASML）手上購買了一臺價值約1.2億美元（折合約7.9億元人民幣）的EUV光刻機。
由於訂購的設備一直沒到手，中芯國際也在11月11日當天下調了一部分資本支出，將原本約457億元的開支計劃減少了55億元至約402億元。那麼，之後中芯國際有沒有可能徹底取消這筆買賣呢？恐怕還不好說，畢竟當前全球能造出EUV光刻機的僅有阿斯麥一家。
不過，中企也很有可能從韓國身上找到「轉機」。據韓國媒體11月16日報導，韓國知識產權局（KIPO）發布的報告顯示，經過長達10年的發展與鑽研（2011－2020年），該國EUV光刻專利已經高達193項。而在此之前，全球光刻市場是美國企業Cymer公司「一家獨大」。
要知道，當前韓國電子巨頭三星正盼能從我國半導體市場「分得一塊蛋糕」。11月12日當天，三星首次面向我國發布了晶片產品——Exynos1080，還宣布將向我國智慧型手機製造巨頭vivo供應5nm高端晶片。據此，可以想像，若韓國能與我國分享光刻技術，那麼我國實現光刻機國產化也指日可待了。
文 |廖力思 題 |徐曉冰 圖 |饒建寧 盧文祥 審 |徐曉冰
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