光刻是集成電路微細加工過程中的最為關鍵的工藝，光刻分為塗膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、蝕刻、去膠等七個工藝步驟。超淨高純試劑主要用於蝕刻工藝，而光刻膠配套試劑主要包括稀釋劑、顯影液、漂洗液、剝離液等，與光刻膠配套使用。國內生產超淨高純試劑和光刻膠配套試劑規模較大的企業，主要有江陰潤瑪電子材料股份有限公司、江陰江化微電子材料股份有限公司、蘇州晶瑞化學股份有限公司。潤馬電子16、15年連續申報創業板上市目前都還沒通過，沒有得到資本市場資金支持，恐怕在後續行業競爭中慢慢會進入劣勢。江化微和晶瑞股份都在17年實現了上市，從上市前上市後的產品毛利率對比都可以發現江化微的產品競爭力相對比晶瑞股份要好一些，但上市後晶瑞股份內擴外並，發展方面更加激進，使得公司營收增長近幾年相對比江化微要強勢。
江化微雖然發展步伐比晶瑞股份穩健，但根據19年年報披露，在平板顯示領域擁有中電熊貓液晶、中電熊貓平板、宸鴻集團、龍騰光電、京東方、深天馬、華星光電等知名企業客戶；在半導體及 LED 領域擁有中芯國際、華潤微電子、長電科技、上海旭福電子、無錫力特半導體、方正微電子、士蘭微、德豪潤達、華燦光電等知名企業客戶；在太陽能領域擁有晶澳太陽能、韓華新能源、通威太陽能等知名企業客戶。這些裡面合作夥伴多數都是國內面板行業、半導體行業晶片行業和光伏行業的龍頭企業，足以說明江化微的產品競爭力還是我們應該注重的核心競爭力，待江化微後續募集資金投入的產能落地（3.5個億的在建工程），公司短期的競爭劣勢地位應該會有所改善。
超淨高純試劑和光刻膠配套試劑主要是用基礎化工原料（包括氫氟酸、異丙醇、硝酸、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、無水乙醇、雙氧水、硫酸、氫氧化鈉等）製造，原材料成本在70%到80%左右，很容易獲取。而企業參與的唯一競爭門檻，主要是在金屬雜質等差異控制方面，現在通用參考的標準是美國SEMI標準。國際生產商方面，最先進的是G5（金屬雜質含量低於0.1ppb),而我們頭部的這幾家主要還是在G3到G4標準（金屬雜質含量大於0.1ppb，小於1ppb）。因為水平差異問題，我們國內的超淨高純試劑和光刻膠配套試劑國產化相對來說還是很低的，根據江化微招股說明書披露的一些推測，今天國產化佔有率應該沒超過25%,但在晶片半導體倡導國產化的時代背景下，國內頭部企業的估值都已經脫離了目前業績估值，跟上周說的南大光電一樣，已經按照國產替代空間來給估值，市場相對業績估值20億（一家3多萬利潤的企業，這個估值才算合理）給高了3倍。
我周末研究完這個以後，其實我已經不打算再研究光刻膠的其他幾個股了，比如光刻機上海新陽，感光石墨龍頭容大感光，光刻膠去除劑安集科技，光刻工序塗膠顯影設備芯源微，光刻膠光引發劑強力新材等等。光刻膠行業給我的判斷：整個行業都跟晶片行業一樣，走的是國產替代核心邏輯，現在幾乎所有個股都已經偏離了業績估值到達了替代對標估值。如果要參與，依然可以參與，因為對標估值上面還有夢想估值，泡沫的天花板還沒到，但參與的人後面一定要在不對路的時候懂得退出，不能死守