【原創】北方微電子將攜PECVD、Sputter等新設備亮相2014高工LED展
2014-06-26 17:51:35 閱讀：15703
摘要北方微電子的有關負責人透露，今年9月26-28日舉辦的高工LED照明展上，將會看到他們的PECVD、Sputter、AlN Sputter等新技術和新設備。
【高工LED記者/嶽夢迪】隨著今年中國LED照明市場加速起量，上遊LED晶片廠商看好後市，加快了擴產的節奏。受此利好，LED晶片廠上遊供應鏈的設備製造廠商也迎來了快速發展。國產設備企業正加速打入主流晶片廠的供應鏈。
作為國內領先的高端半導體裝備製造企業，北方微電子因注重對新技術、新產品的研發及市場推廣，近年來在國內市場的市場佔有率不斷攀升。
北方微電子的有關負責人透露，今年9月26-28日舉辦的高工LED照明展上，將會看到他們的PECVD、Sputter、AlN Sputter等新技術和新設備。
EPEETM 550是一款面向LED領域的大產能PECVD設備，適用於LED晶片製造中的保護層、SWE掩膜層、CBL等工藝製程。
由於LED產業正進入新一輪的設備擴產和技術更新期，晶片設備作為LED的重要配套設備，也隨之出現日新月異的發展。該負責人告訴記者，相比原來市場主 流設備技術，NMC PECVD設備最大的特點就是產能大、性價比高，具有支持高壓工藝、高功率清洗技術、控溫能力強的特點，非常適合企業大規模生產，相信此款新設備更能獲得 市場和客戶的認可。
ITO Sputter：採用Sputter濺射工藝可比蒸鍍工藝擁有更加優質的ITO薄膜並獲得更好的晶片質量。
記者注意到，隨著市場的越來越成熟，之前北方微電子推出的應用於高亮度/超高亮度LED晶片製造中高性能ITO透明導電薄膜的iTops LED ITO薄膜濺射設備，隨著其在光效提升方面不斷的技術進步，今年也受到了更廣泛的市場關注。目前，上遊較先進的晶片製造廠商已逐漸使用ITO sputter 設備替代傳統工藝，未來該設備的市場潛力巨大。
ICP 刻蝕機
展會屆時，北方微電子的明星產品——ICP 刻蝕機也將會再現風採。2013年NMC GaN ICP設備憑藉先進的技術工藝水平、客戶端的穩定運行，取得超過60%的市場份額，成為LED晶片設備領域當之無愧的明星標配產品。據上述負責人介紹，截 至目前，2014年新增GaN刻蝕機市場佔有率已經超過了80%。
AlN Sputter：採用Sputter製程製備AlN比MOCVD製程製備AlN更具優勢
另外，北方微電子方面也向高工LED記者透露，目前公司研發驗證一款技術型產品——AlN Sputter。Sputter製備的AlN具有良好的膜層均勻性，並可明顯改善外延生長GaN的結晶質量，「機臺在客戶端研發驗證。AIN緩衝層是 LED的新技術，目前大家都是剛開始，但未來會成為一種趨勢。」