作為全球最高端的製造設備，光刻機的重要性是毋庸置疑的。在全球範圍之中，只有四家企業能夠生產製造出光刻機，而在這四家企業之中，荷蘭的ASML獨佔中高端市場。其公司所推出的DUV以及EUV光刻機佔據市場份額的大多數市場。
其中DUV光刻機用來生產七納米以上製程的晶片，而EUV光刻機則是用來生產七納米以下製程的晶片。在此次的晶片經歷之中，ASML之所以會受到美國方面的出貨限制，就是因為雖然asml在光刻機領域一家獨大，但是也採用了很多的美國技術，所以導致在出貨方面ASML也是身不由己的。
而現在ASML向國內出手DUV在一般情況下是不需要許可證的，但至於最高端的EUV 光刻機，ASML必須要拿到許可才能夠實現出貨。之前有消息稱過，國內企業已經全款訂購了一臺EUV光刻機，但是因為沒有獲得出貨許可，所以到現在還沒有發貨。
阿斯麥方面曾經明確表示過將會加快在國內市場之中的布局，並且對待全球客戶都一視同仁，而且還不止一次的這樣表示過，可是直到現在，EUV光刻機都沒有能夠到貨。
國內再傳好消息
就在這個時候，國內傳來了兩個好消息，光刻機真正實現了中國製造。首先就是上海微電子方面表示將會在今年交付第一臺28納米沉浸式光刻機，從90納米直接進化到28納米，我們的發展速度也是非常快的。儘管即將交付的28納米比起荷蘭ASML 的因為光刻機還有一定的差距，但是目前來講，這種28納米的光刻機已經能夠滿足我們最起碼的需求了。
第二，國產28納米光刻機線下投產之後，就能夠加速晶片國產化。我們以前定下了目標，將會在2025年之前將晶片自給率提升到70%。而現在有了這臺真正意義上的中國製造光刻機這個目標，顯然就很容易實現了，再加上28納米光刻機能夠生產出七納米等等先進位程的晶片也不是不可能的。經過多次曝光工藝，應該就能夠生產製造出七納米製程的晶片。據說臺積電此前就是採用了多次曝光的工藝，通過DUV光刻機實現對於7納米製程晶片的量產。
而中芯國際也曾經利用曝光技術，在今年4月份實行7納米製程的晶片量產，而國產光刻機實現了真正的中國製造對於ASML來講並不是什麼好消息，這就意味著我們真正的要跟荷蘭的ASML說再見了。
再見ASML
阿斯麥不能夠實現自由出貨，就算是DUV光刻機也只是在一般情況下不需要許可，一旦出現特殊情況，那麼Asml必須要拿到許可證才能夠向國內出售，可是我們國產的28納米因為是純真的中國製造，能夠實現自由出貨，所以國內的所有廠商都能夠購買使用，再加上光刻機中國是中國製造，我們在使用的時候更加放心。美國方面曾經不止一次地修改規則，不斷的斷供，讓國內的廠商失去了對於其他國家的信任。
在這樣的基礎之上，我們只有採取萬無一失的方法，保證我們的技術和設備都不受限制，才能夠在接下來的發展之中獲得更大的前景。現在28納米光刻機即將下線交付，加上國產的蝕刻機等等設備，已經完全能夠組建一條純國產的晶片生產線。還很有可能量產初期納米製程的晶片，滿足國內很大一部分廠商對於晶片的需求。
在這樣的情況下，即便是美國真的實行了對於光刻機上的徹底封鎖，那麼我們也不會在因為沒有光刻機使用而在晶片製造問題之中陷入難以擺脫的困境。因為我們手中有了資本，有了屬於真正中國製造的光刻機。可能在接下來的發展之中，我們還會遇到其他國家的打壓或者制裁，這都不重要，重要的是我們現在已經意識到實現技術國產化自主化的重要性。
在將來的發展之感覺之中，我們一定會謹記此次的教訓，牢記此次我們在晶片禁令之中所受到過的打壓，砥礪前行