賽默飛新一代多源等離子體FIB技術實現4種離子源輕鬆切換

2020-11-23 儀器信息網

　　聚焦離子束(FIB)光源與掃描電子顯微鏡(SEM)相結合，由於其獨特的生成各種結構的能力，無論是通過切割還是離子束誘導沉積(IBID)，都引起了人們的極大興趣。通過SEM觀察。直到最近，只有鎵(Ga +)和氙(Xe +)FIB / SEM儀器可商購。由於其光斑尺寸小和電流密度高，Ga + FIB可為樣品製備和納米原型製作提供良好的結果。Xe +等離子體FIB(PFIB)具有更高的最大電流，可實現高通量切割，適用於大體積表徵，同時還可消除Ga +汙染樣品。但是，在一些情況下，兩種離子源都不是理想的選擇。

圖1.用Helios Hydra UX DualBeam製備的高質量GaAs薄片的HR S / TEM圖像，使用Ar FIB進行最終拋光。

　　為了擴展FIB應用領域的視野，賽默飛推出了新的Thermo Scientific Helios Hydra DualBeam。這種先進的儀器具有新一代PFIB光源，支持多種離子作為主光源。Helios Hydra與氙一起提供三種額外的離子種類：氬，氧和氮。單個離子源，提供多種離子，可在10分鐘或更短的時間內在各個光源之間進行獨特、輕鬆的切換。這為各種應用案例提供了顯著的優勢; 例如，先進的TEM樣品製備，其中採用氬束的最終拋光可以顯著改善成像結果。這項新技術還將使科學家能夠對離子 - 物質相互作用進行基礎和應用研究，例如氮離子束硅藻與矽相互作用。

　　"為科學家在一臺儀器中輕鬆選擇四種不同離子源的整合能力,將擴大和優化跨長度尺度研究材料性能的應用空間,"賽默飛世爾科技-材料和結構分析總裁Mike Shafer說，"我們新的 Helios Hydra DualBeam 系統提供了所需的靈活性,可以更好地分析樣品、改進結果並開發新的和增強的材料。」

圖2.使用Helios Hydra CX DualBeam採用O +聚焦離子束和AS&V4軟體進行自動連續切片的汽車機油濾清器殼體(聚合物/玻璃纖維複合材料)的三維重構。HFW(水平寬度)為350μm。

　　Helios Hydra 雙束電鏡允許材料科學研究人員發現和設計新材料並分析其性能和結構。憑藉其氧離子束,非常適合用於切割碳基材料,如電池正極中使用的石墨,它可以幫助研究人員開發更安全、更輕、更高效的儲能設備。

　　據介紹，這是第一款商業化的，允許快速、簡便地進行離子束切換的儀器。以前，應用不同的離子束需要研究人員在儀器之間轉移樣品,或進行冗長而複雜的源交換。例如,獨立的專用寬束氬離子拋光機目前是高質量透射電子顯微鏡(TEM)樣品製備工作流程的典型部件。使用 Helios Hydra DualBeam 電鏡,在初始切割後,可直接將聚焦的氬離子應用於樣品拋光,從而大大減少了樣品的轉移和處理時間。切換時間為 10 分鐘或更短,研究人員還可以在一個小節內將所有 4 束光束應用於樣品,以確定哪種離子最適合其預期用途。這種靈活性擴展了FIB在探索電子-樣品相互作用方面的潛在應用。

　　據悉，Helios Hydra 雙束電鏡的正式生產將於 2019 年 9 月開始。

　　更多詳情請點擊：https://www.instrument.com.cn/netshow/SH100537/C18181.htm 

      

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