作者:陸金龍
1960年~1965年復旦大學化學系求學。
1965年~1995年郵電部505廠從事電鍍印製電路板製造高壓靜電粉沫塗裝工程。
1995年起,被微電子公司聘用,從事微電子電鍍工程。
職稱:表面處理技術高級工程師。
慧聰表面處理網註:本文首先對微電子電鍍所需的部分電鍍基礎理論進行概述,之後描述了微電子電鍍的特點,重點在電鍍過程技術工藝及故障原因分析,並在文章最後給出了電鍍中許多重要參數的計算公式,供讀者參考。
本文大綱目錄如下
一, 絡合物的配位理論和添加劑的表面吸附理論在電鍍技術中的應用
二, 簡述絡合劑的配位理論
三, 簡述添加劑的表面吸附理論
四, 微電子電鍍技術的特點
五, 電鍍過程三部曲和電鍍功能工序
六, 除塑封體溢料工藝流程
七, 電鍍工藝流程
八, 電鍍線的技術管理
九, 生產線平時維護要點
十, 對某些鍍層弊病的描述及原因
十一, 電鍍重要參數的計算公式
文章開始
一、絡合物的配位理論和添加劑的表面吸附理論在電鍍技術中的應用
電鍍藥水中不是有了金屬離子,一通電就能在工件上析出合格的金屬鍍層的。而是要使陰極在一定的極化條件下,才能析出合格的鍍層。
那麼什麼叫陰極的極化呢?金屬離子在原始的藥水中(沒有絡合劑和添加劑的藥水)有一個析出電位,當陰極上加上這個析出電位值時,金屬離子就接受電子還原析出金屬鍍層。但是析出的金屬是沒有規律的晶格,是疏鬆的鍍層。通過加入絡合劑或添加劑,會使金屬子還原析出鍍層的電位向負方向移動,這種現象稱之為陰極的極化。例如:原來析出金屬鍍層的電位為-1.2伏,加入了絡合劑或添加劑以後使析出金屬鍍層的電位為-1.8伏。這說明陰極極化了,其極化的值為-(1.8-1.2)=-0.6伏。陰極極化了,使析出金屬鍍層相對困難了,需要消耗比原來較高的電能。在相對比較高的電場能下進行電析,也就是在電析時克服了一些阻力。克服了電析的困難,析出金屬(金屬離子得到電子還原的過程)的過程不那麼容易了。這種阻力,這種陰極極化,給離子還原後的排列成整齊的晶格創造了必要的條件。使鍍層變得細膩緻密,而不是疏鬆。我們可以調整絡合劑或添加劑的量,使陰極得到合適的極化值,直至鍍得合格的鍍層。
二、簡述絡合劑的配位理論
金屬離子在無絡合劑的條件下,在溶液中是很自由的,加入絡合劑後,絡合物能把中心金屬離子以配位的方式束縛起來,使金屬離子的放電行為變得不自由,增加了放電的困難,甚至改變了離子的電荷性質,由正離子轉為負離子。
例如:兩個氰根「CN-」與銀離子「Ag+」絡合後,由正離子轉為負離子,使它靠近陰極去放電(接受電子)變得比較困難。
又例:四個甲基磺酸與二價的錫離子絡合後由正離子轉為負離子,增加了放電的難度,即增加了陰極的極化。
絡合物對中心金屬離子的配位絡合作用,降低了金屬離子的有效濃度,控制了金屬離子的活度,增加了陰極的極化,為鍍層晶格的細化創造了條件,也就是說絡合配位作用控制了金屬離子的電化學行為,控制了反應速度和電結晶過程。
三、簡述添加劑的表面吸附理論
加入鍍液的添加劑、表面活性劑一般是有機物。有機物有兩個特性:(1)具有電阻(2)在工件表面有較大的吸附力。金屬離子要到工件表面(陰極)去放電(接受電子還原),受到吸附在工件表面有機薄膜的阻擋(添加劑的阻擋)。原本可以還原析出的條件,因為有了有機膜的阻擋而不能還原。如果要使其還原(接受陰極的電子),就得增加陰極的電位,使陰極電位變得更負,也就是說有了添加劑的吸附作用,增加了陰極極化。如果我們把吸附在工件表面的有機膜當作成千上萬隻電容器(微觀電容),金屬離子要在陰極上放電(接受電子還原),就得衝破(擊穿)這些微觀電容器,要擊穿電容器,必須增加電場能,必須使陰極電位變得更負,也就是說析出電位向負方向移動。上面說過,析出電位向負方向移動的現象,就是陰極極化了。
如上所言,通過絡合物配位的方法和加入添加劑的方法,雖然方法不同,理論也不同,但都能達到陰極極化的目的。既然用兩種不同的理論和方法都能增加陰極極化,很自然的,我們經常把二者結合起來同時作用於某種鍍液,使起到協同作用,增加陰極極化。所以常規的鍍液有如下幾種材料組成:
1,主鹽。含有被鍍金屬的鹽,提供金屬離子。
2,絡合劑。用於與金屬離子絡合配位,提高陰極極化。同時增加藥水導電能力。
3,添加劑(包括光亮劑)。吸附在工件表面提高陰極極化。有增加藥水電阻的效應。
4,潤溼劑。使工件表面與鍍液親潤(它常存在於添加劑中)。
5,抗氧化劑。防止變價金屬離子氧化(它常存在於添加劑中)。
6,晶格細化劑。它可使鍍層晶格細膩。
電鍍工程重要的技術之一就是控制絡合劑和添加劑的濃度。如果二者含量過多,陰極極化過大,會降低陰極電流效率,降低電析速度,增加析氫量,造成嚴重的針孔鍍層。