前面我們詳細的介紹了共射放大電路的設計步驟,電路基礎:Lec16-共射放大電路的設計,對於低頻信號,可以不考慮三極體的頻率特性,但是隨著輸入信號頻率的增加,MOS管的寄生電容就不得不考慮。MOS管有極間電容有Cgd,Cgs,Cds。

Cgs跨接在輸入端與地之間,對於輸入端來說與基極電阻構成了低通濾波器,會使MOS管的高頻性能下降。Cds跨接在輸出端與地之間,對於輸出端來說與基極電阻構成了低通濾波器,會使MOS管的高頻性能下降。雖然Cgs和Cds都使MOS管的高頻性能下降,卻很好理解。只要知道了這兩個容值,和輸入輸出電阻就可以計算出截止頻率,那麼我們的輸入信號就低於這個截止頻率就OK了,但是Cgd怎麼理解呢?它跨接在輸入和輸出兩端,對於輸入來說等效電容是多少?對於輸出來說能效電容是多少呢?
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1、一個簡單的例子
一個159mV的1K正弦波交流電壓源跨接到C1兩端,電流表的讀數是1mA,通過I=2*pi*f*C*V,我們可以求出C1的容值是1uF。
電容C1還是那個電容,我們在電容的另一端加上反向的1590mV的1K正弦波交流電壓源,此時,電流表的讀數是11mA。如果我們還用公式I=2*pi*f*C*V來計算C1這個電容,則得到的數值是11uF。原理很簡單,第一個例子電容兩端電壓變化幅度是159mV,第二個例子電容兩端變化的幅度是159mV+1590mV,擴大了11倍。如果只從VG1那一端看過去就好像電容也擴大了11倍。同樣,如果只從VG2那一端看過去就好像電容擴大了1.1倍。
2、MOS管中的密勒效應
當MOS管處於截止區時,MOS管漏極固定為VDD,對於輸入輸出端等效電容就是Cgd。當MOS管處於飽和區時,MOS管漏極固定為GND,對於輸入輸出端等效電容就是Cgd。當MOS管處於放大區時,MOS管漏極電壓隨著G極電壓的增大而反向增大A倍,Cgd對於輸入端,等效電容為(1+A)*Cgd,對於輸出端,等效電容為(1+1/A)*Cgd。這個現象最早是由美國無線電工程師John Milton Miller在1919年到1920年間,在研究真空管時發現的,後來這個現象就以它的姓氏命名,叫做Miller Effect。
3、密勒平臺
由於Miller Effect,在MOS管開啟的過程中,GS兩端電壓在上升過程中有一個平臺或凹坑,這個平臺就是密勒平臺。建立如下仿真模型:
觀察電壓探頭VF2測得的電壓,1us時,VG1開始給MOS管柵極加電壓,使徒開啟MOS管。
第一階段:1.4us之前,MOS管工作在截止區,電壓逐漸上升,說明在給MOS管的寄生電容Cgs和Cgd充電,此時輸入端的等效電容為Cgs+Cgd。第二階段:在1.4us到1.9us之間,MOS管開始工作在放大區,此時輸入端的等效電容為Cgs+(1+A)*Cgd,因為放大倍數A通常非常大,所以等效的電容也非常大,充電緩慢,出現密勒平臺。第三階段:在1.9us以後,MOS管此時處於飽和區,輸入端的等效電容為Cgs+Cgd,電容重新恢復到一個比較小的值,柵極電壓繼續上升。4、收藏,點讚,評論,加關注,這個很重要,!!! *(^^*)*