先前的筆記(矽光工藝平臺比較(更新))，小豆芽比較過不同的矽光工藝平臺 ，當時沒有搜集到英國Rockley公司的相關資料。最近Rockley在一篇IEEE的刊物上詳細介紹了他們的矽光技術，小豆芽這裡簡單梳理一下。
與一般的矽光技術相比，Rockely採用的是3um厚的厚矽技術，而不是傳統的220nm厚的矽波導。典型的波導結構如下圖所示，
（圖片來自文獻1）
典型的波導參數為w=h=3um, e=1.8um。
Rockley的文章中列出了大多數Foundry選擇220nm厚矽波導的主要原因有：1）為了滿足單模波導條件，2）已有的CMOS設備不能處理厚矽(這一點小豆芽存疑)，3）為了使用基於PN結的高速調製器。而波導尺寸變大後，波導中可能存在高階模式，可能會引入額外的損耗。關於單模的問題，Rockley通過結構的設計，只激發波導的基模，從而克服高階模損耗的問題。
Rockley花費較大的篇幅，列出了採用3um厚矽波導的優勢，主要有下面幾點：
1）偏振不敏感性
下圖是其波導的TE0和TM0模場分布，可以看出兩者的區別非常小。220nm厚的矽波導是偏振敏感的，通常使用TE模。因此，對應的接收端常採用偏振分集(polarizatoin diversity)的方案。Rockley的厚矽波導方案對偏振不敏感，系統中可以省去一些偏振操控器件。
（圖片來自文獻1）
2）較低的傳輸損耗
由于波導模式與波導側壁的重疊相對較小，3um厚的矽波導傳輸損耗可以比220nm厚的矽波導損耗(2-3dB/cm)下降一個數量級，傳輸損耗在0.2dB/cm左右。Rockley的不同類型波導的損耗，如下表所示，
（表格來自文獻1）
3）較高的工藝容差性
在一些幹涉器件中，矽波導加工的不完美，會引入相位誤差(phase error)，從而導致器件工作波長的漂移，例如AWG、級聯Mach-Zehnder型濾波器。而對於3um的矽波導來說，相同的波導尺寸偏差，引入的相位誤差更小，最終使得其對工藝的容差性更高。具體的比較，如下表所示，
（表格來自文獻1）
從上表中可以看出，採用3um厚的矽光波導，其波長偏移非常小，只有零點幾納米的變化。較高的工藝容差性，對應較高的良率和較低的成本。
4）可承受較大的光功率
由於矽材料存在雙光子吸收效應，波導中的光功率不能太大。220nm厚的矽波導功率上限值為300mW (25dBm), 而3um厚的矽波導可承受10W的光功率。目前小豆芽接觸到的矽光系統中，還沒有涉及到如此高的光功率。
5）可與III-V光晶片集成
由於InP光波導的模斑尺寸與3um厚矽波導尺寸接近，因而它們兩者可以直接進行耦合，不需要設計額外的taper結構。
Rockley還列出了一些他們的主要光器件：
1）Euler bend
由于波導尺寸較大，對應的波導彎曲半徑較大。為了進一步減小彎曲半徑，他們設計了Euler型的彎曲波導，對應的彎曲半徑為86um。在Euler型彎曲波導中，曲率半徑時漸變的，而不像傳統的圓弧型彎曲波導，存在曲率半徑的突變。對於90度的Euler彎曲波導，TE模的損耗為0.018dB, TM模的損耗為0.01dB
2）edge coupler
採用h=w=13um的波導作為端面耦合器，與單模光纖進行耦合。通過taper結構，將光場逐漸轉移到3um厚的矽波導中，結構如下圖所示，
（圖片來自文獻1）
該結構的理論耦合損耗值為0.15dB, 實驗值為1.1dB左右。
3）AWG
採用Euler bend和1.5um寬的波導，Rockley展示了4通道和16通道AWG的結構圖和測試結果，其插損都小於3dB, 串擾小於-25dB。兩種類型的AWG波長間隔分別為400GHz和100GHz。4通道AWG的尺寸為0.7mm*2.2mm, 16通道的AWG尺寸為2mm*6mm。而220nm厚的矽波導工藝下，AWG的尺寸為幾百微米。從尺寸的角度來看，基於3um厚矽的AWG尺寸大了很多倍，其優勢在於中心波長漂移非常小，只有0.1nm。
（圖片來自文獻1）
4）hybrid III-V laser/modulator
通過flip-chip的方式，將III-V雷射器與矽光晶片直接耦合，如下圖所示，
（圖片來自文獻1）
3um厚的矽光波導，無法通過設計矽的PN結結構，形成矽調製器。Rockley的方案是將III-V的電吸收調製器，通過flip-chip的方式，集成到矽光晶片上。III-V的電吸收調製器可以實現100Gb/s的PAM-4調製速率。
5）Ge探測器
Rockley在3um的矽上，進一步生長3um厚的鍺，形成探測器，其帶寬可以達到40GHz, C波段的響應率為1A/W, O波段的響應率為0.85A/W，測試結果如下圖所示，
（圖片來自文獻1）
與傳統的220nm矽光工藝相比，
Rockley的厚矽工藝優勢在於較低的傳輸損耗、偏振不敏感性以及較高的工藝容差性。在調製器和探測器方面，它的性能與傳統工藝接近。它的晶片尺寸比220nm的尺寸大了很多倍。對於尺寸要求不嚴格的應用場景，並且光路中涉及到相位敏感的器件，可以採用3um厚的矽光工藝。目前提供3um矽光工藝的平臺，只有兩家，另外一家是芬蘭的VTT, 可選的工藝平臺較少。
另外，Rockley和蘇州亨通光電合作，成立了亨通洛克利公司，致力於100G矽光模塊產品的研發。
參考文獻：
A. J. Zilkie, et.al., "Multi-micron silicon photonics platform for highly manufacturable and versatile photonic integrated circuits", IEEE Journal of Selected Topic in Quantum Electronics (2019)